大見 忠弘 | 東北大学未来科学共同センター
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概要
関連著者
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
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寺本 章伸
東北大学未来科学技術共同研究センター
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須川 成利
東北大学 大学院 工学研究科
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須川 成利
東北大学大学院工学研究科
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平山 昌樹
東北大学未来科学技術共同研究センター
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小谷 光司
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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大見 忠弘
東北大学
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諏訪 智之
東北大学未来科学技術共同研究センター
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森田 瑞穂
大阪大学大学院工学研究科
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宮本 直人
東北大学未来科学技術共同研究センター
著作論文
- ノンポーラスULK層間膜(フロロカーボン)へのダメージを抑制したCu-CMP後洗浄液の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- 表面平滑低損失樹脂を用いた高速信号配線
- n^+-、p^+-Si領域に最適なシリサイドを用いた高電流駆動能力トランジスタ(プロセス科学と新プロセス技術)
- シリコン表面の化学反応性に関する量子化学的検討(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 低誘電率アモルファスハイドロカーボン(aCHx)膜の銅配線バリアー特性の検討(プロセス科学と新プロセス技術)
- 大規模アレイTEGを用いた長時間測定によるランダム・テレグラフ・シグナルの統計的評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- 先端DRMAでのSiONゲート絶縁膜における窒素プロファイルと素子特性について(プロセス科学と新プロセス技術)
- 1/200の圧縮率を実現する演算の省略機能を備えた適応解像度ベクトル量子化プロセッサ
- NH^*ラジカルを用いて形成した直接窒化シリコン窒化膜の界面構造と界面準位密度(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)