ラジカル窒化による超高信頼性直接窒化シリコンゲート絶縁膜

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概要

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• 2003-10-20

著者

• 寺本 章伸

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 須川 成利

  東北大学 大学院 工学研究科

• 小村 政則

  東北大学工学研究科

• 樋口 正顕

  株式会社東芝

• 平山 昌樹

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 樋口 正顕

  東北大学大学院工学研究科

• 小村 政則

  東北大学大学院工学研究科

• 程 イ涛

  東北大学大学院工学研究科

• 大嶋 一郎

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 須川 成人

  東北大学大学院工学研究科

• 大嶋 一郎

  東北大学大学院工学研究科

• 寺本 章伸

  東北大学未来科学共同センター

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学共同センター

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