程 イ涛 | 東北大学大学院工学研究科
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
須川 成利
東北大学 大学院 工学研究科
-
平山 昌樹
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
程 イ涛
東北大学大学院工学研究科
-
大嶋 一郎
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
大嶋 一郎
東北大学大学院工学研究科
-
大見 忠弘
東北大学未来科学共同センター
-
寺本 章伸
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
中尾 慎一
株式会社半導体先端テクノロジーズ
-
須川 成利
東北大学大学院工学研究科
-
小野 泰弘
東北大学大学院工学研究科
-
小野 泰弘
元東北大工
-
小野 泰弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
小村 政則
東北大学工学研究科
-
樋口 正顕
株式会社東芝
-
小村 政則
東北大学大学院工学研究科
-
須川 成人
東北大学大学院工学研究科
-
大嶋 一郎
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
平山 昌樹
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
島田 浩行
セイコーエプソン株式会社
-
島田 浩行
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
中尾 慎一
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
Ono Yasuhiro
Department Of Applied Physics Graduate School Of Engineering Tohoku University
-
寺本 章伸
東北大学未来科学共同センター
-
須川 成利
東北大学大学院 工学研究科
-
樋口 正顕
東北大学大学院工学研究科
-
樋口 正嗣
東北大学大学院工学研究科
著作論文
- ラジカル窒化による超高信頼性直接窒化シリコンゲート絶縁膜
- ラジカル窒化による超高信頼性直接窒化シリコンゲート絶縁膜(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 低温プロセスを特徴とする低抵抗TaNx/Ta/TaNxゲート電極・Si_3N_4ゲート絶縁膜MNSFET
- 低温プロセスを特徴とする低抵抗TaNx/Ta/TaNxゲート電極・Si_3N_4ゲート絶縁膜MNSFET