平山 昌樹 | 東北大学未来科学技術共同研究センター

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概要

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• 東北大学未来科学技術共同研究センターの論文著者

関連著者

• 平山 昌樹

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学共同センター

• 寺本 章伸

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 寺本 章伸

  東北大学未来科学共同センター

• 須川 成利

  東北大学 大学院 工学研究科

• 平山 昌樹

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 須川 成利

  東北大学大学院工学研究科

• 斉藤 祐司

  東北大学大学院工学研究科

• 斉藤 祐司

  東北大学大学院工学研究科:(現)セイコーエプソン(株)生産技術開発本部

• 二井 啓一

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 赤堀 浩史

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第三部

• 大嶋 一郎

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 白井 泰雪

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 大嶋 一郎

  東北大学大学院工学研究科

• 関根 克行

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• Ohmi T

  Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn

• 白井 泰雪

  東北大未来科学技術共同研究センター

• 諏訪 智之

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 諏訪 智之

  東北大学大学院工学研究科

• 赤堀 浩史

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 樋口 正顕

  株式会社東芝

• 濱田 龍文

  東北大学大学院工学研究科

• 程 イ涛

  東北大学大学院工学研究科

• 大嶋 一郎

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 小野 泰弘

  元東北大工

• 小野 泰弘

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 平山 昌樹

  東北大学 未来科学技術研究館

• 阿久津 功

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• 島田 浩行

  セイコーエプソン株式会社

• 海原 竜

  東北大学大学院電子工学専攻

• Ono Yasuhiro

  Department Of Applied Physics Graduate School Of Engineering Tohoku University

• 須川 成利

  東北大学大学院 工学研究科

• 中尾 慎一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 大見 忠弘

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• 小野 泰弘

  東北大学大学院工学研究科

• 山下 哲

  東北大未来科学技術共同研究センター

• 小村 政則

  東北大学工学研究科

• 樋口 正顕

  東北大学大学院工学研究科

• 小村 政則

  東北大学大学院工学研究科

• 須川 成人

  東北大学大学院工学研究科

• 後藤 哲也

  東北大学未来科学技術共同研究センター未来情報産業創製研究部門

• 野沢 俊久

  東京エレクトロン技術研究所(株)

• 寺本 章伸

  東北大学 未来科学技術研究館

• 高橋 一郎

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 阿久津 功

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 石井 克治

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 今泉 文伸

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 林 朋彦

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 島田 浩行

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 中尾 慎一

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 渡辺 高行

  宇部マテリアルズ（株）

• 三浦 隆治

  東北大

• 大見 忠弘

  東北大学

• 久保 百司

  東北大学大学院工学研究科附属エネルギー安全科学国際研究センター

• 宮本 明

  東北大学大学院 工学研究科

• 石井 裕

  シャープ株式会社ディスプレイ技術開発本部

• 須川 成利

  東北大学工学研究科技術社会システム

• 池永 英司

  高輝度光科学研究センター

• 石川 拓

  東京エレクトロン技術研究所(株):東北大学大学院工学研究科

• 池永 英司

  Crest・jst

• 稲葉 仁

  高砂熱学工業(株)

• 石井 裕

  シャープ(株)ディスプレイ技術開発本部

• 池永 英司

  (財)高輝度光科学研究センター

• 樋口 正顕

  東北大学工学研究科

• 服部 健雄

  東北大学未来情報産業共同研究センター

• 伊藤 隆司

  東北大学大学院工学研究科

• 山田 祐一郎

  シャープ(株)ディスプレイ技術開発本部avcディスプレイ研究所第2研究部

• 荒谷 崇

  信越化学工業株式会社

• 荒谷 崇

  東北大学工学研究科技術社会システム専攻

• 樋口 正嗣

  東北大学大学院工学研究科

• 程? 涛

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 荒川 公平

  日本ゼオン(株)

• 宮城 孝一

  日本ゼオン(株)高岡工場

• 鈴木 克昌

  大陽日酸株式会社

• 渡辺 一史

  東北大学大学院工学研究科

• 服部 健雄

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 若山 恵英

  大成建設(株)

• 石原 良夫

  大陽日酸株式会社

• 迫田 薫

  大陽日酸株式会社

• 久保 百司

  東北大学大学院工学研究科

• 廣江 昭彦

  東北大学未来科学技術共同研究センター未来情報産業創製研究部門

• 松岡 孝明

  東京エレクトロン技術研究所(株)

• 池永 和幸

  東北大学 未来科学技術研究館

• 後藤 哲也

  東北大学 未来科学技術研究館

• 山本 真也

  (株)豊田自動織機

• 山下 哲

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 北野 真史

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 服部 健雄

  東京工業大学フロンティア研究機構

• 村岡 祐介

  大日本スクリーン製造(株) 開発本部

• 船岩 清

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 安曇 啓太

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 田中 康太郎

  東北大学 工学研究科

• 田中 康太郎

  東北大学大学院工学研究科

• 大見 忠弘

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 三浦 隆治

  東北大学大学院工学研究科応用化学専攻

• 伊藤 隆司

  (株)富士通研究所

• 寺石 和夫

  東北大学大学院工学研究科材料化学

• Ammal S.Salai

  東北大学大学院工学研究科

• S.Sslai.C. Ammal

  東北大学大学院工学研究科

• Ohmi Tadahiro

  Department Of Electronic Engineering Tohoku University

• Ohmi Tadahiro

  The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University

• 平山 昌樹

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• 伊藤 隆司

  富士通研究所

• 石井 裕

  シャープ(株) 液晶研究所

• 木村 純

  松下電器産業eネット事業本部

• 山崎 正宏

  (株)オプテス

• 磯貝 達典

  東北大学大学院工学研究科技術社会システム専攻

• 桜井 弘之

  宇部興産株式会社

• 石野 英明

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 程 〓涛

  東北大学大学院工学研究科

• 大坪 和雄

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• Aharoni Herzl

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 大見 忠弘

  未来科学技術共同研究センター

• 伊藤 隆司

  東京工業大学ソリューション研究機構:広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所

• 程 ?涛

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 小野津 崇之

  東北大学大学院工学研究科材料化学専攻

• Ammal S.

  東北大学大学院工学研究科材料化学専攻

• 渡辺 高行

  宇部マテリアルズ株式会社

• 渡辺 高行

  宇部マテリアルズ(株)

• 大見 忠弘

  東北大学末来科学技術共同研究センター

• 白井 泰雪

  東北大学末来科学技術共同研究センター

• 平山 昌樹

  東北大学末来科学技術共同研究センター

• 森本 明大

  東北大学末来科学技術共同研究センター

• 杉谷 耕一

  東北大学末来科学技術共同研究センター

• 赤堀 浩史

  東北大学 大学院工学研究科電子工学専攻

• 二井 啓一

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• 広江 昭彦

  東工大理

• 平山 祐介

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻大見研究室

• 高野 晴之

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻大見研究室

• 鈴木 浩

  東北大学

• 北野 真史

  東北大未来科学技術共同研究センター

• 村岡 祐介

  大日本スクリーン製造(株)

• 木村 純

  浜松ホトニクス(株)電子管事業部営業部営業推進g

• 廣江 昭彦

  東北大未来科学技術共同研究センター

• 小野津 崇之

  東北大 大学院

• 稲葉 仁

  高砂熱学工業 総研

• 石原 良夫

  大陽日酸株式会社電子機材事業本部事業戦略推進部

• 別所 正博

  三菱重工業(株)名古屋研究所

• 大見 忠弘

  東北大学大学院工学研究科

• 上地 哲男

  三菱重工業 名古屋研

• 伊藤 隆司

  東京工大 ソリューション研究機構

• 三浦 隆治

  東北大学大学院工学研究科化学工学専攻

• G.S. Jong

  東北大学

• 林 昌彦

  日本ゼオン(株)

• 池永 英司

  高輝度光科学研究センター:科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業

• Jong G

  東北大 工

• 長島 靖

  光洋サーモシステム(株)

• 有賀 久

  セイコーエプソン株式会社 生産技術開発本部 Ij工業応用プロジェクト

• 服部 健雄

  東京工大 フロンティア研究機構

• 片岡 稔和

  大成建設(株)低消費電力次世代ディスプレイ製造技術研究所

• 堀内 重治

  Nhテクノグラス(株)

• 川畑 耕也

  日本ゼオン(株)

• 若山 恵英

  大成建設(株) 技術センター

• 山本 茂

  日本電気硝子

• 田中 勉

  (株)日立製作所生産技術研究所

• 迫野 郁夫

  シャープ(株)モバイル液晶事業本部要素技術開発センター

• 萩原 弘道

  大成建設(株)

• 福田 宗治

  (株)日立プラントテクノロジー

• 北村 昌幸

  東京エレクトロン(株)

• 牛島 満

  東京エレクトロン(株)

• 小野里 充

  東京エレクトロン(株)

• 楠本 浩之

  セイコーエプソン(株)

• 藤野 正春

  セイコーエプソン(株)

• 戸田 直樹

  三菱重工プラスチックテクノロシー(株)開発部

• 池永 英司

  財団法人高照度光科学研究センター

• 迫野 郁夫

  シャープ(株) ディスプレイ開発センター

• 稲葉 仁

  高砂熱学工業

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著作論文

• 低誘電率アモルファスハイドロカーボン(aCHx)膜の銅配線バリアー特性の検討(プロセス科学と新プロセス技術)
• 2段シャワープレート型マイクロ波プラズマエッチャーを用いた多層膜の連続エッチング
• マイクロ波励起プラズマを用いた高品質シリコン窒化膜の形成
• ラジカル窒化による超高信頼性直接窒化シリコンゲート絶縁膜
• ラジカル窒化による超高信頼性直接窒化シリコンゲート絶縁膜(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
• プラズマ酸化、酸窒化、窒化によるゲート絶縁膜中に含まれる希ガス原子が電気的特性に与える影響
• 減圧雰囲気下でプラズマとCa(OH)_2/CaOを用いる高効率フロロカーボン除去システムの開発(プロセス科学と新プロセス技術)
• 大型液晶ディスプ***ロジェクトが切り開く未来(総合報告)
• マイクロ波励起プラズマ有機金属化学気相堆積装置の開発と強誘電体Sr_2(Ta_,Nb_x)_2O_7膜の形成(不揮発性メモリ及び関連プロセス一般)
• 4.サブ100nm半導体技術の課題と展望(サブ100nm時代のシステムLSIとビジネスモデル)
• マイクロ波励起高密度プラズマを用いた高品質シリコン窒化膜の低温形成
• マイクロ波励起高密度プラズマを用いた高品質シリコン窒化膜の低温形成
• マイクロ波励起高密度プラズマを用いた高品質シリコン窒化膜の低温形成
• 界面平坦化を行ったシリコン(110)面上に形成されたトランジスタの電気的特性(2004先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア太平洋会議)
• 界面平坦化を行ったシリコン(110)面上に形成されたトランジスタの電気的特性(2004先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア太平洋会議)
• 界面平坦化を行ったシリコン(110)面上トランジスタの電気的特性
• 界面平坦化を行ったシリコン(110)面上トランジスタの電気的特性(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
• F2-1 革命期を迎える半導体技術(総論)(F.2 半導体製造工程は,今何が問題なのか)
• 高効率半導体生産ラインを実現する高性能バックポンプの開発
• 高効率半導体生産ラインを実現する高性能バックポンプの開発
• 原子状酸素を用いた酸化処理による強誘電体STN薄膜の特性改善(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
• ラジカル酸化による Poly-Si TFTの高性能化に関する研究
• ラジカル酸化によるPoly-Si TFTの高性能化に関する研究(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
• シリコン(100)面の原子オーダー平坦化におけるl/fノイズ低減効果
• マイクロ波励起高密度プラズマによる低温直接窒化を用いて高品質極薄シリコン窒化ゲート絶縁膜に関する研究
• 低温プロセスを特徴とする低抵抗TaNx/Ta/TaNxゲート電極・Si_3N_4ゲート絶縁膜MNSFET
• 低温プロセスを特徴とする低抵抗TaNx/Ta/TaNxゲート電極・Si_3N_4ゲート絶縁膜MNSFET
• マイクロ波励起高密度Kr/O_2/N_2プラズマを用いたシリコン酸窒化膜の低温形成
• バランスト電子ドリフトマグネトロンプラズマを用いたダメージフリーエッチング技術
• マイクロ波励起Kr/O_2プラズマによるシリコン酸化膜の低温形成
• シリカ表面への希ガス照射過程に関する分子動力学的検討
• 高密度プラズマを用いたシリコン直接窒化膜の低温形成
• 9.大画面化が進む薄型ディスプレイ技術の現状と展望(時代をひらく電子情報通信技術-技術がもたらした変革,そして更なる飛躍-)
• シリコン(110)面の平坦化
• シリコン(110)面の平坦化(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
• 高密度プラズマによる高品質シリコン直接酸化技術
• 均一水平磁場を用いた均一高密度プラズマプロセス用装置の開発
• 電流駆動シリサイデーションを用いたアンチフューズ技術

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