マイクロ波励起Kr/O_2プラズマによるシリコン酸化膜の低温形成
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概要
著者
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
須川 成利
東北大学 大学院 工学研究科
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須川 成利
東北大学大学院工学研究科
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平山 昌樹
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
斉藤 祐司
東北大学大学院工学研究科
-
平山 昌樹
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
斉藤 祐司
東北大学大学院工学研究科:(現)セイコーエプソン(株)生産技術開発本部
-
大見 忠弘
東北大学未来科学共同センター
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