ウェハ洗浄溶液のラジカル活性に対する超音波照射の影響
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概要
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メガソニック照射による超純水やウェハ洗浄溶液のラジカル活性をESRを用いて確認した. 超純水にメガソニックを照射するとHラジカルやOHラジカルが生成する. そのラジカル生成量は超純水中の溶存ガス成分とその溶解量に影響されることが明らかにされた. 同時に, イオン種や過酸化水素の新たな生成も認められた. 又, ウェハ洗浄溶液にメガソニックを照射するとOHラジカルが生成されることを確認し, OHラジカルの生成量に与える洗浄溶液濃度の影響を明らかにした.
- 1996-11-14
著者
-
大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
大見 忠弘
東北大学工学部
-
加藤 正行
山形大学工学部物質工学科
-
落合 武臣
山形大学工学部物質工学科
-
都田 昌之
山形大学工学部物質工学科
-
都田 昌之
山形大 工
-
都田 昌之
山形大学工学部
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