大見 忠弘 | 東北大学工学部

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概要

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• 同名の論文著者
• 東北大学工学部の論文著者

関連著者

• 大見 忠弘

  東北大学工学部

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 柴田 直

  東北大学工学部

• 都田 昌之

  山形大学工学部物質工学科

• 新田 雄久

  株式会社UCT開発研究所

• 都田 昌之

  山形大学工学部

• 都田 昌之

  山形大 工

• 佐藤 憲二

  日造精密研磨株式会社

• 大塚 隆夫

  日立造船株式会社技術研究所

• 大澤 守彦

  日立造船株式会社技術研究所

• 中谷 光良

  日立造船株式会社 技術研究所

• 中島 宏幸

  日立造船株式会社 技術研究所

• 馬場 吉康

  日造精密研磨株式会社

• 中島 宏幸

  日立造船(株)技術・開発本部

• 牛木 健雄

  東北大学工学部電子工学科

• 加藤 正行

  山形大学工学部物質工学科

• 竹脇 利至

  東北大学工学部電子工学科

• 新田 雄久

  日立製作所デバイス開発センタ

• 大澤 守彦

  日立造船

• 大沢 守彦

  開発本部技術研究所

• 大澤 守彦

  日立造船株式会社

• 牛木 健雄

  東北大学大学院工学研究科 電子工学専攻 : 東北大学電気通信研究所付属超高密度・高速知能システム実験施設

• 森田 瑞穂

  大阪大学大学院工学研究科

• 森田 瑞穂

  大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻

• 泉 浩人

  ステラケミファ株式会社

• 中田 明良

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 牧原 康二

  東北大学工学部電子工学科

• 中井 努

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 熊巳 創

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• 進藤 亘

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• 本藤 哲史

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• 中田 明良

  東北大学工学部電子工学科

• 笠間 泰彦

  東北大学工学部電子工学科

• 小島 泉里

  東北大学工学部電子工学科

• 小島 泉里

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻:野村マイクロ・サイエンス株式会社開発部

• 中井 努

  東北大学工学部電子工学科

• 米川 直道

  野村マイクロサイエンス(株)開発部

• 佐藤 憲二

  日造精密研磨 (株)

• 馬場 吉康

  日造精密研磨 (株)

• 大見 忠弘

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• 今井 誠

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 松浦 孝

  東北大学電気通信研究所超高密度・高速知能システム実験施設

• 山中 弘次

  オルガノ株式会社

• 澤田 康次

  東北大学電気通信研究所

• 平野 有一

  東北大学工学部電子工学科

• 白井 泰雪

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 室田 淳一

  東北大学電気通信研究所

• 小谷 光司

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 冨田 和朗

  ルネサステクノロジ

• 中村 亘

  富士通株式会社

• 櫻井 稔久

  東北大

• 櫻井 稔久

  東北大学未来科学技術研究センター

• 森田 瑞穂

  東北大学電気通信研究所

• 中村 亘

  東北大学工学部電子工学科

• 島田 久幸

  東北大学工学部電子工学科

• 室田 淳一

  東北大学 電気通信研究所

• 高野 順

  東北大学工学部電子工学科

• 櫻井 稔久

  東北大学工学部電子工学科

• 小谷 光司

  東北大学工学研究科

• 山本 和馬

  東北大学電気通信研究所超微細電子回路実験施設

• 山田 尚

  東北大学工学部電子工学科

• 海原 竜

  東北大学大学院電子工学専攻

• Matsuura T

  Hokkaido Univ. Education Hakodate Jpn

• 伊野 和英

  東北大学工学部電子工学科

• 白井 泰雪

  東北大未来科学技術共同研究センター

• 白井 泰雪

  東北大学工学部

• 森永 均

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• 岡 マウリシオ正純

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 海原 竜

  東北大学工学部電子工学科

• 今岡 孝之

  オルガノ(株)

• 國本 文智

  東北大学工学部電子工学科

• 今岡 孝之

  東北大学工学部電子工学科

• 三森 健一

  株式会社フロンテック

• 呉 義烈

  株式会社フロンテック

• 久保 和樹

  東北大学工学部電子工学科

• 今井 誠

  東北大学工学部電子工学科

• 山下 毅雄

  東北大学工学部電子工学科

• 中村 亘

  富士通

• 伊野 和英

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻 : 東北大学電気通信研究所付属超高密度・高速知能システム実験施設

• 能勢 昌之

  東北大学工学部電子工学科

• 森永 均

  東北大学工学部電子工学科

• 米川 直道

  東北大学工学部電子工学科

• 島田 久幸

  東北大学工学部電子工学科:東北大学電気通信研究所付属超高密度・高速知能システム実験施設

• 鈴江 孝司

  東北大学電気通信研究所

• 大見 忠弘

  東北大学

• 稲葉 仁

  高砂熱学工業(株)

• 岡田 孝夫

  高砂熱学工業

• 宮本 明

  東北大学工学研究科

• 三島 博之

  徳山曹達

• 二ツ木 高志

  オルガノ株式会社

• 斉藤 祐司

  東北大学大学院工学研究科

• 玉井 幸夫

  シャープ株式会社技術本部

• 森田 瑞穗

  東北大学工学部電子工学科:東北大学電気通信研究所付属超高速密度・高速知能システム実験施設

• 馬場 吉康

  日立精密研磨株式会社

• 佐藤 憲二

  日立精密研磨株式会社

• 岩本 敏幸

  東北大学工学部電子工学科

• 久保 百司

  東北大学工学部分子化学工学科

• 山内 亮

  東北大学工学部 分子化学工学科

• 小野 昭一

  アルプス電気株式会社

• 余 諄群

  東北大学工学部電子工学科

• 森田 瑞穂

  東北大学工学部電子工学科

• 鈴木 浩

  東北大学電気通信研究所

• 前田 祐二

  東北大学電気通信研究所

• 小野 昭一

  アルプス電気(株)

• 小西 信博

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 落合 武臣

  山形大学工学部物質工学科

• 宮本 明

  東北大学工学部

• 石原 良夫

  日本酸素 (株) つくば研究所

• 栗原 信也

  日本酸素(株)電子機材事業本部

• 石原 章次

  日本酸素 (株) 電子機材事業本部

• 二ツ木 高志

  東北大学電気通信研究所

• 藪根 辰弘

  東北大学大学院工学研究科

• 菊山 裕久

  ステラケミファ株式会社 開発部

• 斉藤 祐司

  東北大学工学部電子工学科

• 藪根 辰弘

  ステラケミファ株式会社研究部

• 菊永 芳弘

  ステラケミファ株式会社

• 川脇 理謁

  ステラケミファ株式会社

• 小野 昭一

  アルプス電気

• 都田 昌之

  山形大学工学部物質化学工学科

• 中村 雅一

  大阪酸素工業株式会社 研究開発部 開発センター

• 斉藤 祐司

  東北大学大学院工学研究科:(現)セイコーエプソン(株)生産技術開発本部

• 松本 光市

  ソニー(株)コアテクノロジー&ネットワークカンパニー

• 松本 光市

  東北大学工学部電子工学科

• 山本 和馬

  東北大学工学部電子工学科

• 外塚 聖享

  山形大学工学部物質工学科

• 余 寧梅

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 吉田 隆紀

  高砂熱学工業(株)東京支店

• 余 寧梅

  東北大学工学部電子工学科

• 河合 泰明

  東北大学工学部電子工学科

• 渡辺 仁三

  東北大学工学部電子工学科

• 小西 信博

  東北大学工学部電子工学科

• 大見 和幸

  東北大学工学部電子工学科

• 市川 明宏

  東北大学工学部電子工学科

• 丁 剛洙

  東北大学工学部電子工学科

• 山田 圭一

  東北大学工学部電子工学科

• STIRLING Andras

  東北大学工学部

• 森田 博志

  栗田工業株式会社 技術開発センター

• 楢崎 勝貴

  東北大学

• 泉 浩人

  橋本化成(株)研究部

• 小嶋 努

  東北大学工学部電子工学科

• 楢崎 勝貴

  東北大学工学部電子工学科

• 余 謨群

  東北大学工学部電子工学科

• 新田 雄久

  UCT開発研究所

• 玉井 幸夫

  東北大学工学部電子工学科

• 岡 マウリシオ正純

  東北大学工学部電子工学科

• 権 浩〓

  東北大学工学部電子工学科

• 岡 マウリシオ

  東北大学工学部

• 冨田 和朗

  東北大学工学部

• 新田 雄久

  東北大学工学部

• 冨田 和朗

  東北大学電気通信研究所

• 右田 智裕

  東北大学電気通信研究所

• 森田 博志

  東北大学工学部電子工学科

• 笠間 泰彦

  株式会社フロンテック

• 吉澤 道雄

  オルガノ株式会社

• 星 司

  東北大学工学部電子工学科

• 福田 航一

  FRONTEC Inc.

• 福井 洋文

  FRONTEC Inc.

• 岩崎 千里

  FRONTEC Inc.

• 御子柴 宣夫

  東北大学超微細電子回路実験施設:(現)ヒューレット・パッカード日本研究所)

• 鈴木 浩

  東北大学

• 陶山 誠

  東北大学工学部電子工学科

• 宮脇 守

  キャノン株式会社半導体開発センター

• 中村 佳夫

  キャノン株式会社半導体開発センター

• 安井 信一

  東北大学工学部

• 佐藤 雅幸

  東北大学工学部電子工学科

• 玉井 幸夫

  シャープ株式会社 技術本部

• 阪田 総一郎

  高砂熱学工業 (株) 総合研究所

• 泉 浩人

  東北大学工学部電子工学科

• 大木 厚志

  大阪酸素工業

• 石原 良夫

  大陽日酸株式会社電子機材事業本部事業戦略推進部

• 篠原 努

  フジキン

• 名取 巌

  東北大学工学部電子工学科

• Vrtis N.

  東北大学工学部電子工学科

• 竹脇 利至

  東北大学電気通信研究所超微細電子回路実験施設

• Frederic W.

  General Technology division in ESSEX Junction,Vermont,USA IBM Corporation,USA

• 須藤 誠司

  東北大学工学部電子工学科

• Frederic W.

  General Technology Division In Essex Junction Vermont Usa Ibm Corporation Usa

• 池田 信一

  東北大学工学部電子工学科

• 篠原 努

  株式会社フジキン

• 山路 道雄

  株式会社フジキン

• 石原 良夫

  日本酸素 (株)

• 馬場 吉康

  日立精密研磨 (株)

• 稲葉 仁

  高砂熱学工業

• 吉田 隆紀

  高砂熱学工業

• 九嶋 哲哉

  高砂熱学工業

• 相合 征一郎

  アルファー科研

• 大見 忠弘

  東北大学工学部電子工学科

• 阪田 総一郎

  高砂熱学工業

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著作論文

• 高信頼性極薄ゲート酸化膜形成技術
• 105 真空容器のクリーン溶接技術(その3) : ステンレス鋼の大気中ヒューム吸引溶接法
• ステンレス鋼の酸化制御及びヒューム付着防止溶接法
• 233 真空容器のクリーン溶接技術(その2) : ステンレス鋼のヒューム吸引溶接法
• 124 真空容器のクリーン溶接技術(その1) : 一ステンレス鋼の酸化防止溶接法
• ウルトラクリーン低温プロセスを用いた高信頼性タンタルゲート完全空乏化SOI MOSFET
• コールドサセプタを用いた高速選択タングステンCVDプロセス
• ウルトラクリーン酸化で形成した極薄ゲート酸化膜のホットキャリア耐性
• タンタルゲート電極を用いたSOI MOSFETの閾値制御
• 高誘電率ゲート絶縁膜を用いた高電流駆動能力SOIMOSデバイス
• ウェハ洗浄溶液のラジカル活性に対する超音波照射の影響
• ステンレス表面における微量水分の吸着 -吸着熱および吸着等温式の検討-
• 高密度Kr/O_2プラズマで低温成膜したシリコン酸化膜、高密度Kr/O_2プラズマ低温照射CVDシリコン酸化膜の膜質に関する研究
• 金属表面フッ化不動態皮膜の形成と特性
• 薄い酸化膜質のSiウェハ面方位依存性 : 酸化膜の電気的信頼性及び酸化膜構造に与えるウェハ面方位の依存性
• タンタルゲート完全空乏化SOI MOSFET作製技術におけるプロセスガイドライン
• 3-3 ニューロンMOS重心検出回路
• 高メンテナンス性を有する半導体製造用高性能ガスパネルシステム
• 低エネルギ・イオンアシスト酸化による超低温ゲート酸化膜形成
• MOSチャネル移動度のSi/SiO_2界面マイクロラフネス依存性
• 超低コンタクト抵抗を実現する自然酸化膜フリーコンタクト形成技術
• 表面吸着水分の計測
• シランガスと各種シリコン表面の相互作用
• 低エネルギイオン照射を用いたシリコン薄膜形成時に生じるドーパント(As, P, Sb, B)の不活性化
• 低エネルギイオン照射を用いたシリコン薄膜形成時に生じるドーパント(As, P, Sb, B)の不活性化
• 低エネルギイオン照射を用いたシリコン薄膜形成時に生じるドーパント(As, P, Sb, B)の不活性化
• 四端子デバイスエレクトロニクスが可能にする"しなやかな"情報処理電子システム
• 高信頼性銅一マグネシウム合金配線技術
• 基板不純物濃度低減による450℃アニールイオン注入接合の特性改善
• 低消費電力ニューロンMOS論理ゲート
• RCA洗浄溶液に生成する活性種の評価
• 21世紀へ向けたULSI生産技術の課題
• 450℃アニールにより低逆バイアス電流n^+p接合の形成
• 450℃超低温接合形成のためのメタル汚染低減イオン注入技術
• 活性ラジカル溶液による基板表面洗浄システム
• 電解イオン水を用いた新しい洗浄技術 : TFT-LCDプロセスへの応用
• クロック制御による高信頼性ニューロンMOS論理回路
• 自動しきい値調整機能を用いたクロック制御ニューロンMOS論理回路
• 希ガス原子照射下でのAlリフロー挙動の分子動力学法による検討
• 照射ion energyの制御によるTFT gate絶縁膜用PECVD-SiNxの高品質化
• スーパクリーン化技術への挑戦(精密工学の最前線)
• 21世紀のエレクトロニクスを切り拓く新しいデバイスプロセスの開発 : 撮像デバイス技術および関連技術分野 : 情報入力
• 誘導結合プラズマによる酸化膜のエッチング特性
• サブクォーターミクロンULSI用銅配線技術
• 薬液と超純水使用量を削減する新しいウェハ洗浄プロセス
• スピンクリーニング法によるシリコンウェハのウルトラクリーン・ウェット洗浄技術
• シランガス中における水分とシロキサン計測ならびにその挙動
• NF_3プラズマを用いたセルフチャンバクリーニング技術
• 3-2 擬似2次元画像処理を用いたニューロンMOS動きベクトル検出回路
• ニューロンMOSデータソーティング回路
• ニューロンMOSウィナー・テーク・オール回路とその連想メモリへの応用
• ウェットプロセスにおける金属不純物のSi表面への付着メカニズムと付着防止技術
• 有機物汚染のないシリコンウェハ表面洗浄技術
• イソプロピルアルコールによる除電機構 : ウェットプロセスの静電気発生防止
• 極微量の有機物汚染を計測する
• パルス電流ストレスによるジャイアントグレイン銅配線の信頼性評価
• 大電流ストレスによるジャイアント・グレインCu配線のエレクトロマイグレーション耐性評価
• 大容量負荷高速駆動用CMOSソートフォロワ・バッファ回路の解析
• 自己制限型原子層エッチングのSi面方位依存性
• シリコンの自己制限型原子層エッチング
• 金属表面のCr2O3およびNiF2不動態処理 (LSI製造における表面制御技術)
• E-32 洗浄工程におけるウエハ帯電の防止

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