大見 忠弘 | 東北大学

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概要

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• 東北大学の論文著者

関連著者

• 大見 忠弘

  東北大学

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• Ohmi Tadahiro

  The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University

• Ohmi T

  Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学技術共同研究センター:東北大学wpiリサーチセンター

• Ohmi Tadahiro

  Department Of Electronic Engineering Tohoku University

• 寺本 章伸

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• Teramoto A

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• Ohmi Tadahiro

  Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Tohoku University:(present Addre

• 大見 忠弘

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• Teramoto Akinobu

  Tohoku Univ. Sendai Jpn

• 須川 成利

  東北大学 大学院 工学研究科

• TERAMOTO Akinobu

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• Teramoto Akinobu

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• Teramoto Akinobu

  Department Of Electronic Engineering Faculty Of Engineering Tohoku University

• 須川 成利

  東北大学大学院工学研究科

• OHMI Tadahiro

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 大石 潔

  長岡技術科学大学

• 橋本 誠司

  群馬大学

• 久保田 弘

  熊本大学

• 小坂 光二

  熊本大学

• 久保田 弘

  熊本大学工学部

• 橋本 誠司

  群馬大学 工学部

• Sugawa S

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• SUGAWA Sigetoshi

  Tohoku University

• Sugawa Shigetoshi

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• 諏訪 智之

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 宮本 直人

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 白井 泰雪

  東北大未来科学技術共同研究センター

• 石川 赴夫

  群馬大学

• 黒田 理人

  東北大学大学院工学研究科技術社会システム専攻

• 黒田 理人

  東北大学工学研究科

• SUGAWA Shigetoshi

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• 黒田 理人

  東北大学大学院工学研究科

• 阿部 健一

  日本大学工学部情報工学科

• 阿部 健一

  東北大学大学院工学研究科

• 阿部 健一

  東北大

• 石川 赴夫

  群馬大学大学院工学研究科電気電子工学専攻

• 白井 泰雪

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 阿部 健一

  東北大学大学院工学研究科技術社会システム専攻

• 阿部 健一

  東北大学工学部電気系

• 阿部 健一

  東北大学工学部電気工学科

• SUWA Tomoyuki

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 小坂 光二

  熊本テクノロジー

• 服部 健雄

  東北大学未来情報産業共同研究センター

• 服部 健雄

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 熊谷 勇喜

  東北大学大学院工学研究科

• 服部 健雄

  東京工業大学フロンティア研究機構

• KURODA Rihito

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• Kuroda Rihito

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• 阿部 健一

  東北大 大学院工学研究科

• 谷 クン

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• 根本 剛直

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 野平 博司

  Musashi Institute Of Technology

• 阿部 健一

  東北大学大学院工学研究科 電気・通信工学専攻

• 後藤 哲也

  東北大学未来科学技術共同研究センター未来情報産業創製研究部門

• 廣江 昭彦

  東北大学未来科学技術共同研究センター未来情報産業創製研究部門

• 伊藤 隆司

  (株)富士通研究所

• 伊藤 隆司

  富士通研究所

• 白井 泰雪

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• 伊藤 隆司

  東京工業大学ソリューション研究機構:広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所

• 御子柴 宣夫

  東北大

• 広江 昭彦

  東工大理

• KONDA Masahiro

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 室 隆桂之

  JASRI

• 伊藤 隆司

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• 室隆 桂之

  SPring-8 JASRI

• 須川 成利

  東北大学工学研究科技術社会システム

• 室 隆桂之

  高輝度光科学研究センター

• 高田 雅介

  長岡技術科学大学電気系

• 高田 雅介

  長岡技科大

• 室 桂隆之

  JASRI SPring-8

• 田中 宏明

  東北大学大学院工学研究科

• IMAI Hiroshi

  Graduate School of Science and Engineering, Kagoshima University

• 泉 浩人

  ステラケミファ株式会社

• 藤澤 孝文

  東北大学大学院工学研究科

• 渡部 俊一

  東北大学大学院工学研究科

• 大石 卓也

  群馬大学

• 上村 篤嗣

  長岡技術科学大学

• 小坂 光二

  熊本大学大学院自然科学研究科

• 鈴木 宏和

  熊谷組

• IKENAGA Eiji

  Japan Synchrotron Radiation Research Institute/SPring-8

• 田中 宏明

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 中尾 幸久

  東北大学大学院工学研究科

• Ikenaga Eiji

  Japan Synchrotron Radiation Research Institute

• 鈴木 宏和

  (株)熊谷組 技術研究所 先端施設研究グループ

• 鈴木 宏和

  東北大学研究生

• Hattori Tetsuya

  Depaetment Of Electrical And Electronic Engineering Tokyo Institute Of Technology

• 柴田 直

  東北大学 工学部 電子工学科

• Konda Masahiro

  NICHe, Tohoku University

• Teramoto Akinobu

  NICHe, Tohoku University

• Suwa Tomoyuki

  NICHe, Tohoku University

• Ohmi Tadahiro

  NICHe, Tohoku University

• 木下 豊彦

  高輝度光科学研究センター

• ARATANI Takashi

  Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

• HIGUCHI Masaaki

  TOSHIBA CORPORATION

• USHIO Jiro

  Hitachi, Ltd.

• NOHIRA Hiroshi

  Musashi Institute of Technology

• HATTORI Takeo

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 花岡 秀夫

  日立プラント建設株式会社

• 花岡 秀夫

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• Hattori Takashi

  Central Research Laboratory Hitachi Ltd.

• Abe Kenichi

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• Fujisawa Takafumi

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• Watabe Shunichi

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• Sugimura Masahiko

  Research and Development Center, Zeon Corporation

• Kawasaki Masafumi

  Research and Development Center, Zeon Corporation

• 野中 聡

  旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座

• 野中 源一郎

  九州大学薬学部

• 渡辺 高行

  宇部マテリアルズ（株）

• 室 隆桂之

  財団法人高輝度光科学研究センター

• 廣沢 一郎

  Japan Synchrotron Radiation Research Institute (JASRI)

• 阿部 健一

  東北大学工学部

• 山口 拓也

  島根医科大学 第三内科

• 室隆 佳之

  JASRI

• 広沢 一郎

  NEC

• 広沢 一郎

  高輝度光科学研究センター

• 池永 英司

  高輝度光科学研究センター

• 鈴木 宏和

  株式会社熊谷組

• 山下 哲

  東北大未来科学技術共同研究センター

• 広沢 一郎

  Nec分析評価センター

• 広沢 一郎

  Jasri

• 廣沢 一郎

  高輝度光科学研究センター(spring-8)

• 廣沢 一郎

  (財)高輝度光科学研究センター利用研究促進部門i

• 廣沢 一郎

  財団法人高輝度光科学研究センター

• 池永 英司

  Crest・jst

• 池永 英司

  (財)高輝度光科学研究センター

• 野平 博司

  武蔵工業大学工学部

• 高塚 威

  新日本空調(株)技術開発研究所

• 伊藤 隆司

  東北大学大学院工学研究科

• 小西 信博

  日立製作所. デバイス開発センタ

• 鈴木 宏和

  株式会社熊谷組技術研究所

• 樋口 正顕

  株式会社東芝

• 荒谷 崇

  信越化学工業株式会社

• 牛尾 二郎

  株式会社日立製作所

• 平山 昌樹

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 鈴木 克昌

  大陽日酸株式会社

• 鈴木 宏和

  (株)熊谷組技術研究所

• 大見 忠弘

  東北大学工学部

• 柴田 直

  東北大学工学部

• 須川 成利

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 石原 良夫

  大陽日酸株式会社

• 迫田 薫

  大陽日酸株式会社

• Philipossian Ara

  University of Arizona

• Sampurno Yasa

  University of Arizona

• Cheng Jiang

  Araca, Inc.

• Zhuang Yun

  University of Arizona

• 譽田 正宏

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 黒川 敬幸

  群馬大学

• 小坂 光二

  テックコンシエルジェ熊本

• 平山 昌樹

  東北大学 未来科学技術研究館

• 山下 哲

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 石井 秀和

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 北野 真史

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• NAKANO Yukihisa

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• TANAKA Hiroaki

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 黒木 伸一郎

  東北大学大学院工学研究科

• ジョング ミンニョク

  長岡技術科学大学

• 小坂 光二

  テック・コンシェルジェ熊本

• チョング ニョク

  長岡技術科学大学

• 木下 豊彦

  高輝度光科学研究センター利用研究促進部門

• 小西 信博

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部

• 中村 修

  東北大学大学院工学研究科

• Tanaka Hiroaki

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• 広沢 一郎

  Necデバイス評価技術研究所

• 菊山 裕久

  ステラケミファ株式会社 開発部

• 小椋 厚志

  明治大学理工学部電気電子生命学科

• Zhuang Yun

  University Of Arizona:araca Inc.

• Cheng Jiang

  Araca Inc.

• Sampurno Yasa

  University Of Arizona:araca Inc.

• 鈴木 宏和

  東京理科大

• 小瀬村 大亮

  明治大学理工学部

• 花岡 秀夫

  東北大学研究生

• 服部 真季

  明治大学理工学部

• 武井 宗久

  明治大学理工学部

• 永田 晃基

  明治大学理工学部

• 赤松 弘彬

  明治大学理工学部

• 富田 基裕

  明治大学理工学部

• 水上 雄輝

  明治大学理工学部

• 橋口 裕樹

  明治大学理工学部

• 山口 拓也

  明治大学理工学部

• 小金澤 智之

  財団法人高輝度光科学センター

• Tye Ching

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• CHENG Weitao

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 吉川 和博

  株式会社フジキン大阪ハイテック研究所

• 廣沢 一郎

  財団法人高輝度光科学センター

• 松本 洋平

  東京海洋大学

• 小池 帆平

  産業技術総合研究所

• 富田 祐吾

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 黒木 伸一郎

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• Cheng Weitao

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• 渡辺 高行

  宇部マテリアルズ株式会社

• 渡辺 高行

  宇部マテリアルズ(株)

• 小椋 厚志

  明治大学理工学部

• 青山 健治

  東北発電工業(株)

• 伊藤 和秀

  東北発電工業(株)

• 楢崎 勝貴

  東北大学

• 小島 泉里

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 久保 和樹

  東北大学工学部電子工学科

• Nakano Yukihisa

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

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著作論文

• ノンポーラスULK層間膜(フロロカーボン)へのダメージを抑制したCu-CMP後洗浄液の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
• 非共振型超音波アクチュエータ駆動精密ステージの位置決め制御における摩擦補償法
• スティックスリップ補償と連続軌跡追従制御に基づく超音波アクチュエータ駆動精密ステージの一制御法
• マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• 高精度CMP終点検出方法の検討(プロセス科学と新プロセス技術)
• 角度分解光電子分光法によるゲート絶縁膜/シリコン基板界面に形成される構造遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
• RTN測定の高精度化・高速化技術とRTN特性に強い影響度を示すプロセス条件(携帯電話用カメラ,デジタルスチルカメラ,ビデオカメラ(ハイビジョン)とそのためのイメージセンサ,モジュール,特別企画「CCD誕生40周年記念講演-黎明期-」)
• カーボン汚染フリー表面クリーニング及びウェハ搬送技術
• 究極のクリ-ンル-ム--極限微細化電子回路の実現を目指して
• 究極のクリ-ン・ル-ム--極限微細化電子回路の実現を目指して
• フッ素固定式パーフルオロ化合物(PFCs)除害システム
• MOSFET特性ばらつき、RTSノイズの統計的評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• Stress Induced Leakage CurrentとRandom Telegraph Signalノイズとの相関(プロセス科学と新プロセス技術)
• 原子オーダ平坦化ウェハ表面のAFM評価手法及びデータ解析手法(プロセス科学と新プロセス技術)
• 適応オブザーバに基づく次世代露光装置用超精密ステージの静止摩擦補償法
• SPIDER駆動精密ステージの位置決め制御における実験的摩擦補償法
• アンチ･ワインドアップ補償による高速I-P位置制御系の一構成法
• 摩擦モデルに基づく非共振型超音波アクチュエータ駆動精密ステージの一制御法
• High Current Drivability FD-SOI CMOS with Low Source/Drain Series Resistance(Session 9B : Nano-Scale devices and Physics)
• 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
• 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
• 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
• マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• 615 非共振型超音波モータを用いた精密ステージの高速モーション制御
• 非共振型超音波モータを用いた精密ステージの連続軌跡追従制御系の構成法
• ULSI用低抵抗コンタクトのための低バリアハイトメタルシリサイドの形成(プロセス科学と新プロセス技術)
• 酸素ラジカルを用いて形成したSiO_2/Si界面における組成遷移と価電子帯オフセットの基板面方位依存性(プロセス科学と新プロセス技術)
• 次世代LSI向け低誘電率絶縁膜/Cuダマシン配線の形成(プロセス科学と新プロセス技術)
• 原子スケールで平坦なSiO_2/Si酸化膜界面歪の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• クリーンルームを有する施設の省エネルギー化に関する研究 その1 シミュレーションプログラム開発と適用
• しなやかな情報処理を実現する世界初の4端子デバイス-2-
• しなやかな情報処理を実現する世界初の4端子デバイス-1-
• 次世代半導体のための新素材
• 最終講義 新しいシリコンの時代を目指して
• Impact of fully depleted silicon-on-insulator accumulation-mode CMOS on Si(110) (シリコン材料・デバイス)
• MOSFETにおけるランダムテレグラフシグナルの統計的評価方法(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• The data analysis technique of the atomic force microscopy for the atomically flat silicon surface(Session9A: Silicon Devices IV)
• The data analysis technique of the atomic force microscopy for the atomically flat silicon surface(Session9A: Silicon Devices IV)
• Study on Compositional Transition Layers at Gate Dielectrics/Si Interface by using Angle-resolved X-ray Photoelectron Spectroscopy
• Study on Compositional Transition Layers at Gate Dielectrics/Si Interface by using Angle-resolved X-ray Photoelectron Spectroscopy
• 東北大学 未来情報産業研究館スーパークリーンルーム : フラクチュエーションフリーファシリティー
• ステンレス表面の酸化クロム不働態処理
• Data Analysis Technique of Atomic Force Microscopy for Atomically Flat Silicon Surfaces
• A Statistical Analysis of Distributions of RTS Characteristics by Wide-Range Sampling Frequencies
• A Statistical Analysis of Distributions of RTS Characteristics by Wide-Range Sampling Frequencies
• A Material of Semiconductor Package with Low Dielectric Constant, Low Dielectric Loss and Flat Surface for High Frequency and Low Power Propagation(Session2: Silicon Devices I)
• A Material of Semiconductor Package with Low Dielectric Constant, Low Dielectric Loss and Flat Surface for High Frequency and Low Power Propagation(Session2: Silicon Devices I)
• スーパクリーン化技術への挑戦(精密工学の最前線)
• 超微細加工における環境技術
• 極微量表面吸着水分の精密計測技術
• フッ素ガスを用いた金属表面処理
• ニューロンMOSを用いた多値インテリジェントメモリ
• 高性能減圧プロセス用真空排気システムの最適設計
• デュアルシリサイドを用いた低直列抵抗CMOSソース/ドレイン電極形成技術
• 電流駆動シリサイデーションを用いたアンチフューズ技術
• 高純度有機金属ガス供給システムに関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
• TSVを用いた3次元FPGAの性能評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• 学問に基づいた本物のシリコン産業技術の創出(プロセス科学と新プロセス技術)
• 埋め込み構造によるMOSFETにおけるランダム・テレグラフ・ノイズの低減(プロセス科学と新プロセス技術)
• SiO_2/Si界面における構造遷移層の酸化手法依存性(プロセス科学と新プロセス技術)
• ラジカル反応ベース絶縁膜形成技術における界面平坦化効果と絶縁膜破壊特性との関係(プロセス科学と新プロセス技術)
• 異常Stress Induced Leakage Currentの発生・回復特性の統計的評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• 高精密三次元実装にむけた、アルカリエッチングによるシリコン貫通電極形成技術(プロセス科学と新プロセス技術)
• D-52 クリーンルームを有する施設の省エネルギー化に関する研究 : その1 シミュレーションプログラム開発と適用
• B-37 二酸化塩素を用いた斜行ハニカム式空気殺菌浄化システムの開発 : 二酸化塩素の殺菌・脱臭特性

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