黒田 理人 | 東北大学工学研究科
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概要
関連著者
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黒田 理人
東北大学工学研究科
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黒田 理人
東北大学大学院工学研究科技術社会システム専攻
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須川 成利
東北大学 大学院 工学研究科
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黒田 理人
東北大学大学院工学研究科
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須川 成利
東北大学大学院工学研究科
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
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寺本 章伸
東北大学未来科学技術共同研究センター
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寺本 章伸
東北大学未来科学共同センター
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大見 忠弘
東北大学未来科学共同センター
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Ohmi T
Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター:東北大学wpiリサーチセンター
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Ohmi Tadahiro
The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University
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大見 忠弘
東北大学
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大見 忠弘
東北大学 未来科学技術共同研究センター
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Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Tohoku University:(present Addre
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半澤 克彦
東北大学大学院工学研究科
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須川 成利
東北大学大学院 工学研究科
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渡辺 一史
東北大学大学院工学研究科
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中尾 幸久
東北大学大学院工学研究科
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栃木 靖久
東北大学大学院工学研究科
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加藤 祐理
東北大学大学院工学研究科
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赤羽 奈々
東北大学 大学院 工学研究科
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諏訪 智之
東北大学未来科学技術共同研究センター
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三富士 道彦
ローム株式会社
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山葉 隆久
ローム株式会社
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Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering Tohoku University
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中澤 泰希
東北大学大学院工学研究科
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諏訪 智之
東北大学未来科学共同センター
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川田 峻
東北大学大学院工学研究科
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阿部 健一
日本大学工学部情報工学科
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阿部 健一
東北大学大学院工学研究科
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阿部 健一
東北大
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須川 成利
東北大学工学研究科技術社会システム
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田中 宏明
東北大学大学院工学研究科
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武藤 秀樹
リンク・リサーチ株式会社
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川田 峻
東北大学工学研究科
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赤羽 奈々
東北大学大学院工学研究科
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阿部 健一
東北大学大学院工学研究科技術社会システム専攻
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阿部 健一
東北大学工学部電気系
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田中 宏明
東北大学未来科学技術共同研究センター
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阿部 健一
東北大学工学部電気工学科
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阿部 健一
東北大学大学院
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幸田 安真
東北大学大学院工学研究科
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近藤 泰志
株式会社島津製作所
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冨永 秀樹
株式会社島津製作所
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広瀬 竜太
株式会社島津製作所
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田窪 健二
株式会社島津製作所
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田中 宏明
東北大学未来科学共同センター
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阿部 健一
東北大学大学院工学研究科 電気・通信工学専攻
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小村 政則
東北大学工学研究科
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小村 政則
東北大学大学院工学研究科
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渡部 俊一
東北大学大学院工学研究科
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熊谷 勇喜
東北大学大学院工学研究科
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宮本 直人
東北大学未来科学技術共同研究センター
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譽田 正宏
東北大学未来科学技術共同研究センター
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酒井 伸
東北大学工学研究科
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赤羽 奈々
東北大学工学研究科
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Teramoto A
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
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近藤 泰志
島津製作所
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阿部 健一
東北大 大学院工学研究科
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田窪 健二
(株)島津製作所基盤技術研究所
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Teramoto Akinobu
Tohoku Univ. Sendai Jpn
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酒井 伸
東北大学 大学院工学研究科
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大見 忠弘
東北大学大学院工学研究科
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宮本 直人
東北大学 未来科学技術共同研究センター
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合田 康之
東北大学工学研究科
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松岡 弘章
東北大学大学院工学研究科
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鈴木 裕彌
東北大学大学院工学研究科
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米澤 彰浩
東北大学大学院工学研究科
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李 翔
東北大学大学院工学研究科
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稲塚 卓也
東北大学大学院工学研究科
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冨永 秀樹
島津製作所
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武藤 秀樹
リンク・リサーチ(株)
著作論文
- 色毎の飽和光量差を低減したWRGB市松画素LOFIC CMOSイメージセンサ(高機能イメージセンシングとその応用)
- 原子オーダ平坦化ウェハ表面のAFM評価手法及びデータ解析手法(プロセス科学と新プロセス技術)
- 大規模アレイTEGを用いたランダム・テレグラフ・シグナルの統計的評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- シリコン表面の原子オーダー平坦化技術(プロセス科学と新プロセス技術)
- Hole注入法によるNBTI評価手法及び寿命予測方法の開発(半導体表面・界面制御と電子デバイスの信頼性, 信頼性一般)
- Hole注入法によるNBTI評価手法及び寿命予測方法の開発(半導体表面・界面制御と電子デバイスの信頼性, 信頼性一般)
- Hole注入法によるNBTI評価手法及び寿命予測方法の開発(半導体表面・界面制御と電子デバイスの信頼性, 信頼性一般)
- ULSI用低抵抗コンタクトのための低バリアハイトメタルシリサイドの形成(プロセス科学と新プロセス技術)
- LC共振法による極薄ゲート絶縁膜の電気的膜厚測定法(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- バースト10MfPsと連続10Kfpsの撮像速度を有する高速CMOSイメージセンサのプロトタイプ試作評価(固体撮像技術および一般)
- デュアルシリサイドを用いた低直列抵抗CMOSソース/ドレイン電極形成技術
- 10Mfps高速CMOSイメージセンサの高S/N読み出し動作(高機能イメージセンシングとその応用)
- WRGB LOFIC CMOSイメージセンサを用いた青緑及び黄色領域を含む全色域の色再現性の向上(高機能イメージセンシングとその応用)
- 原子レベル平坦化Si表面を用いた紫外光高感度・高信頼性フォトダイオード(2011 International Image Sensor Workshop(IISW)関連およびイメージセンサ一般)
- 埋め込み構造によるMOSFETにおけるランダム・テレグラフ・ノイズの低減(プロセス科学と新プロセス技術)
- ラジカル反応ベース絶縁膜形成技術における界面平坦化効果と絶縁膜破壊特性との関係(プロセス科学と新プロセス技術)
- 異常Stress Induced Leakage Currentの発生・回復特性の統計的評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- バースト1Tpixel/sと連続780Mpixel/sの撮像速度を有するグローバルシャッタ高速CMOSイメージセンサ(固体撮像技術および一般)
- 紫外光高感度・高信頼性を有する原子オーダー平坦Si表面を用いたフォトダイオードのドーパントプロファイル(高機能イメージセンシングとその応用)
- 特別講演 シリコンLSI : 微細化に替る高性能化の道 (シリコン材料・デバイス)
- PECVD法を用いたゲートスペーサー用高品質シリコン窒化膜の低温形成プロセス (シリコン材料・デバイス)
- バースト1 Tpixel/s と連続 780Mpixel/s の撮像速度を有するグローバルシャッタ高速CMOSイメージセンサ