小村 政則 | 東北大学大学院工学研究科
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概要
関連著者
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東北大学未来科学技術共同研究センター
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東北大学未来科学技術共同研究センター
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東北大学 大学院 工学研究科
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株式会社東芝
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東北大学未来科学技術共同研究センター
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東北大学大学院工学研究科
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大嶋 一郎
東北大学未来科学技術共同研究センター
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東北大学大学院工学研究科
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大嶋 一郎
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物材機構
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池永 英司
JASRI SPring-8
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須川 成利
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野平 博司
武蔵工業大学工学部
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梅田 浩司
ULSI技術開発センター
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東北大学未来科学技術共同研究センター
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河瀬 和雅
三菱電機(株)先端総研
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井上 真雄
(株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部
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諏訪 智之
東北大学大学院工学研究科
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樋口 正嗣
東北大学大学院工学研究科
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渡辺 一史
東北大学大学院工学研究科
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服部 健雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
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井上 真雄
(株)ルネサステクノロジ
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黒田 理人
東北大学大学院工学研究科技術社会システム専攻
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(株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部
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黒田 理人
東北大学工学研究科
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服部 健雄
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品川 盛治
武蔵工業大学
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黒田 理人
東北大学大学院工学研究科
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Nohira Hiroshi
Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology
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Nakazawa Hiroshi
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
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梅田 浩司
(株)ルネサステクノロジ
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服部 健雄
東京工大 フロンティア研究機構
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池永 英司
財団法人高照度光科学研究センター
著作論文
- NH^*ラジカルを用いて形成した直接窒化シリコン窒化膜の界面構造と界面準位密度(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
- ラジカル窒化酸化膜におけるNの深さ分布と結合状態の制御(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- ラジカル窒化による超高信頼性直接窒化シリコンゲート絶縁膜
- ラジカル窒化による超高信頼性直接窒化シリコンゲート絶縁膜(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- LC共振法による極薄ゲート絶縁膜の電気的膜厚測定法(プロセスクリーン化と新プロセス技術)