池永 英司 | 高輝度光科学研究センター
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概要
関連著者
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池永 英司
高輝度光科学研究センター
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池永 英司
(財)高輝度光科学研究センター
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服部 健雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
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服部 健雄
東京工業大学フロンティア研究機構
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服部 健雄
東京工大 フロンティア研究機構
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池永 英司
財団法人高照度光科学研究センター
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寺本 章伸
東北大学未来科学技術共同研究センター
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
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須川 成利
東北大学 大学院 工学研究科
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野平 博司
Musashi Institute Of Technology
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野平 博司
武蔵工業大学工学部
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樋口 正顕
株式会社東芝
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Nohira Hiroshi
Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology
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Nakazawa Hiroshi
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
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寺本 章伸
東北大学未来科学共同センター
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大見 忠弘
東北大学未来科学共同センター
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品川 盛治
武蔵工業大学
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須川 成利
東北大学工学研究科技術社会システム
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池永 英司
Crest・jst
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樋口 正顕
東北大学工学研究科
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品川 誠治
武蔵工業大学工学部
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服部 健雄
武蔵工業大学工学部
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服部 健雄
武蔵工業大学シリコンナノ科学研究センター
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池永 英司
高輝度光科学研究センター:科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業
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池永 英司
Jasri/spring-8
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服部 健雄
武蔵工業大学
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服部 健雄
東北大学未来情報産業共同研究センター
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荒谷 崇
信越化学工業株式会社
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Ohmi T
Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn
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池永 英司
JASRI SPring-8
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須川 成利
東北大学大学院工学研究科
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小林 啓介
高輝度光科学研究センター
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生天目 博文
広大放射光セ
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谷口 雅樹
広大院理
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八木 伸也
名大工
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小林 啓介
物材機構
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森吉 千佳子
広大院理
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伊東 一幸
広大院理
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生天目 博文
広大放射光
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馬込 栄輔
東理大理
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荒谷 崇
東北大学大学院工学研究科
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樋口 正顕
東北大学大学院工学研究科
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伊東 一幸
広島大理
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馬込 栄輔
広大院理
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高野 義彦
物材機構
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川原田 洋
早大理工
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中村 哲也
JASRI
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竹内 晃久
高輝度光科学研究センター SPring-8
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八木 伸也
名大院工
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大見 忠弘
東北大学
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坂口 勲
物材機構
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坂口 勲
無機材質研究所
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竹之内 智大
早大理工
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高田 恭孝
理化学研究所量子秩序研究チーム
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長尾 雅則
物材機構
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竹之内 智大
早稲田理工
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羽多野 毅
物材機構
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高田 恭孝
東大新領域:理研:spring8
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高田 恭孝
理化学研究所放射光物性研究室-spring-8
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中村 哲也
高輝度光科学研究センター
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梅沢 仁
産総研
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立木 実
物材機構
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横谷 尚睦
高輝度光科学研究センター
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小畠 雅明
高輝度光科学研究センター
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淡路 晃弘
高輝度光科学研究センター
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室 隆桂之
高輝度光科学研究センター
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小林 健作
早稲田理工
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梅沢 仁
早稲田理工
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原田 洋
早稲田理工
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羽多野 毅
物質・材料研究機構:東京理科大理工
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横山 直樹
(株)富士通研究所
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横山 直樹
富士通
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竹内 晃久
(財)高輝度光科学研究センター
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小川 修一
東北大学多元物質科学研究所
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二瓶 瑞久
CREST・JST
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高桑 雄二
東北大学多元物質科学研究所
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小川 修一
東北大学 多元物質科学研究所
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高桑 雄二
東北大学 多元物質科学研究所
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小畠 雅明
NIMS
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小村 政則
東北大学工学研究科
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辛 埴
理化学研究所・播磨研究所
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諏訪 智之
東北大学未来科学技術共同研究センター
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牛尾 二郎
株式会社日立製作所
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荒谷 崇
東北大学工学研究科技術社会システム専攻
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平山 昌樹
東北大学未来科学技術共同研究センター
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濱田 龍文
東北大学大学院工学研究科
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服部 武雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
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Kobayashi Keisuke
JASRI SPring8
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小村 政則
東北大学大学院工学研究科
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二瓶 瑞久
富士通株式会社
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二瓶 瑞久
Mirai-selete
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佐藤 元伸
富士通株式会社
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竹内 晃久
Jasri/spring-8
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター:東北大学wpiリサーチセンター
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品川 盛治
武蔵工業大学工学部
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岡本 英介
武蔵工業大学工学部
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吉田 徹史
武蔵工業大学工学部
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東 和文
(株)液晶先端技術開発センター
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坂口 勲
物質・材料研究機構物質研究所電子セラミックスグループ
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坂口 勲
(独)物質・材料研究機構 光材料センター光電機能グループ
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坂口 勲
科学技術庁無機材質研究所第4研究グループ
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Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering Tohoku University
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Ohmi Tadahiro
The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University
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竹内 晃久
筑波大工
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東 和文
液晶先端技術開発センター
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沓掛 誠
広大院理
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立木 実
(独)物質・材料研究機構
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横山 直樹
岡山大学大学院工学研究科
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横山 直樹
株式会社富士通研究所ナノエレクトロニクス研究センター:(現)産業技術総合研究所連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター
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川原田 洋
早稲田大学理工学術院
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横山 直樹
産業技術総合研究所連携研究体gnc
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二瓶 瑞久
科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業
-
川原田 洋
早大理工学術院
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二瓶 瑞久
独立行政法人産業技術総合研究所連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター
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竹内 晃久
高輝度光科学研究センター
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須川 成利
JASRI SPring8
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佐藤 元伸
東北大学多元物質科学研究所:(独)産業技術総合研究所連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター
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諏訪 智之
東北大学未来科学共同センター
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室 隆桂之
高輝度光科学研究セ
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横山 直樹
神戸大学医学部附属病院周産母子センター
-
室 隆桂之
高輝度光科学光科学研究センター
著作論文
- 24aWA-8 硬x線光電子分光によるボロンドープ超伝導ダイヤモンド薄膜の電子状態(ホウ素・炭素系(超伝導・四極子),領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
- NH^*ラジカルを用いて形成した直接窒化シリコン窒化膜の界面構造と界面準位密度(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
- 角度分解光電子分光法によるゲート絶縁膜/シリコン基板界面に形成される構造遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
- マイクロ波励起プラズマを用いた高品質シリコン窒化膜の形成
- プラズマ窒化膜/Siの界面構造、サブナイトライド、価電子帯構造(ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
- Si(100),(110)面上の極薄Si_3N_4-Si界面構造とその電気的特性
- 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性,AWAD2006)
- 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性
- 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性
- 25pRC-5 硬X線光電子分光の進展 : 角度および空間分解(25pRC 領域5,領域8,領域10合同シンポジウム:硬X線を利用したスペクトロスコピーによる電子状態研究の進展と将来展望,領域5(光物性))
- 25pRC-5 硬X線光電子分光の進展 : 角度および空間分解(25pRC 領域5,領域8,領域10合同シンポジウム:硬X線を利用したスペクトロスコピーによる電子状態研究の進展と将来展望,領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
- ラジカル酸化および熱酸化により形成した極薄シリコン酸化膜中の電子の脱出深さ(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 13aTL-3 HiSOR 軟 X 線ビームラインを用いた DSP 第 III 相の対称性の検討 II(誘電体, 領域 10)
- 31aXJ-10 HiSOR 軟 X 線ビームラインを用いた DSP 第 III 相の対称性の検討
- 光電子制御プラズマCVD法で成膜したネットワークナノグラファイト配線(配線・実装技術と関連材料技術)