樋口 正顕 | 東北大学大学院工学研究科
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
寺本 章伸
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
樋口 正顕
株式会社東芝
-
樋口 正顕
東北大学大学院工学研究科
-
寺本 章伸
東北大学未来科学共同センター
-
大見 忠弘
東北大学未来科学共同センター
-
須川 成利
東北大学 大学院 工学研究科
-
須川 成利
東北大学大学院工学研究科
-
諏訪 智之
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
諏訪 智之
東北大学大学院工学研究科
-
野平 博司
Musashi Institute Of Technology
-
池永 英司
高輝度光科学研究センター
-
池永 英司
(財)高輝度光科学研究センター
-
小村 政則
東北大学工学研究科
-
野平 博司
武蔵工業大学工学部
-
梅田 浩司
ULSI技術開発センター
-
荒谷 崇
信越化学工業株式会社
-
平山 昌樹
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
荒谷 崇
東北大学大学院工学研究科
-
河瀬 和雅
三菱電機(株)先端総研
-
梅田 浩司
(株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部
-
井上 真雄
(株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部
-
小村 政則
東北大学大学院工学研究科
-
大嶋 一郎
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
服部 健雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
井上 真雄
(株)ルネサステクノロジ
-
大嶋 一郎
東北大学大学院工学研究科
-
梅田 浩司
(株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部
-
服部 健雄
東京工業大学フロンティア研究機構
-
Ohmi T
Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn
-
Nohira Hiroshi
Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology
-
Nakazawa Hiroshi
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
-
梅田 浩司
(株)ルネサステクノロジ
-
服部 健雄
東京工大 フロンティア研究機構
-
池永 英司
財団法人高照度光科学研究センター
-
池永 英司
Crest・jst
-
品川 誠治
武蔵工業大学工学部
-
服部 健雄
東北大学未来情報産業共同研究センター
-
濱田 龍文
東北大学大学院工学研究科
-
服部 武雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
程 イ涛
東北大学大学院工学研究科
-
須川 成人
東北大学大学院工学研究科
-
大嶋 一郎
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
程? 涛
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
品川 盛治
武蔵工業大学
-
程 ?涛
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
池永 英司
Jasri/spring-8
著作論文
- プラズマ窒化膜/Siの界面構造、サブナイトライド、価電子帯構造(ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
- Si(100),(110)面上の極薄Si_3N_4-Si界面構造とその電気的特性
- 超清浄シリコン表面の形成(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- ラジカル窒化酸化膜におけるNの深さ分布と結合状態の制御(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- ラジカル窒化による超高信頼性直接窒化シリコンゲート絶縁膜
- プラズマ酸化、酸窒化、窒化によるゲート絶縁膜中に含まれる希ガス原子が電気的特性に与える影響