服部 健雄 | 東北大学未来情報産業共同研究センター
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概要
関連著者
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服部 健雄
東北大学未来情報産業共同研究センター
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服部 健雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
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寺本 章伸
東北大学未来科学共同センター
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大見 忠弘
東北大学未来科学共同センター
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寺本 章伸
東北大学未来科学技術共同研究センター
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
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服部 健雄
東京工業大学フロンティア研究機構
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服部 健雄
東京工大 フロンティア研究機構
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諏訪 智之
東北大学未来科学共同センター
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諏訪 智之
東北大学未来科学技術共同研究センター
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Ohmi Tadahiro
The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University
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Ohmi T
Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn
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須川 成利
東北大学 大学院 工学研究科
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大見 忠弘
東北大学
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池永 英司
高輝度光科学研究センター
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室 隆桂之
高輝度光科学研究センター
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樋口 正顕
株式会社東芝
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター:東北大学wpiリサーチセンター
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Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering Tohoku University
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木下 豊彦
高輝度光科学研究センター
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池永 英司
財団法人高照度光科学研究センター
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木下 豊彦
高輝度光科学研究セ
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室 隆桂之
JASRI
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室隆 桂之
SPring-8 JASRI
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野平 博司
Musashi Institute Of Technology
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大見 忠弘
東北大学 未来科学技術共同研究センター
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池永 英司
Crest・jst
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室 桂隆之
JASRI SPring-8
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池永 英司
(財)高輝度光科学研究センター
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野平 博司
武蔵工業大学工学部
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荒谷 崇
信越化学工業株式会社
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Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Tohoku University:(present Addre
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永田 晃基
明治大学理工学部
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山口 拓也
明治大学理工学部
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小金澤 智之
財団法人高輝度光科学センター
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Nohira Hiroshi
Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology
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Nakazawa Hiroshi
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
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室 隆桂之
高輝度光科学研究セ
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小椋 厚志
明治大学理工学研究科
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木下 豊彦
高輝度光科学光科学研究センター
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須川 成利
東北大学大学院工学研究科
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廣沢 一郎
Japan Synchrotron Radiation Research Institute (JASRI)
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山口 拓也
島根医科大学 第三内科
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須川 成利
東北大学工学研究科技術社会システム
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広沢 一郎
Nec分析評価センター
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樋口 正顕
東北大学工学研究科
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熊谷 勇喜
東北大学大学院工学研究科
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Teramoto A
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
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小椋 厚志
明治大学理工学部
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Teramoto Akinobu
Tohoku Univ. Sendai Jpn
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池永 英司
高輝度光科学研究センター:科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業
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室 隆桂之
Jasri/spring-8
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池永 英司
Jasri/spring-8
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山口 拓也
島根大学医学部附属病院
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室 隆桂之
SPring-8-JASRI
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廣澤 一郎
財団法人高輝度光科学センター
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室 隆桂之
高輝度光科学光科学研究センター
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小林 啓介
物材機構
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室 隆桂之
財団法人高輝度光科学研究センター
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池永 英司
JASRI SPring-8
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小林 啓介
高輝度光科学研究センター
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室隆 佳之
JASRI
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広沢 一郎
NEC
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広沢 一郎
高輝度光科学研究センター
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広沢 一郎
Jasri
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廣沢 一郎
高輝度光科学研究センター(spring-8)
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廣沢 一郎
(財)高輝度光科学研究センター利用研究促進部門i
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廣沢 一郎
財団法人高輝度光科学研究センター
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小村 政則
東北大学工学研究科
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品川 誠治
武蔵工業大学工学部
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梅田 浩司
ULSI技術開発センター
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牛尾 二郎
株式会社日立製作所
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荒谷 崇
東北大学工学研究科技術社会システム専攻
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平山 昌樹
東北大学未来科学技術共同研究センター
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荒谷 崇
東北大学大学院工学研究科
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樋口 正顕
東北大学大学院工学研究科
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河瀬 和雅
三菱電機(株)先端総研
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梅田 浩司
(株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部
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井上 真雄
(株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部
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小村 政則
東北大学大学院工学研究科
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須川 成利
東北大学未来科学技術共同研究センター
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井上 真雄
(株)ルネサステクノロジ
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梅田 浩司
(株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部
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廣瀬 和之
総合研究大学院大学
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廣瀬 和之
総合研究大学院大学:宇宙科学研究本部
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廣瀬 和之
宇宙航空研究開発機構宇宙科学研究本部
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木下 豊彦
高輝度光科学研究センター利用研究促進部門
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広沢 一郎
Necデバイス評価技術研究所
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小椋 厚志
明治大学理工学部電気電子生命学科
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小瀬村 大亮
明治大学理工学部
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服部 真季
明治大学理工学部
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武井 宗久
明治大学理工学部
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赤松 弘彬
明治大学理工学部
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富田 基裕
明治大学理工学部
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水上 雄輝
明治大学理工学部
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橋口 裕樹
明治大学理工学部
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品川 盛治
武蔵工業大学
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廣沢 一郎
財団法人高輝度光科学センター
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小瀬村 大亮
明治大学理工学部:日本学術振興会
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室隆 佳之
高輝度光科学研究センター(jasri Spring-8)
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廣瀬 和之
宇宙科学研究所
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梅田 浩司
(株)ルネサステクノロジ
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室隆 桂之
高輝度光科学研究センター
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廣瀬 和之
宇宙航空研究開発機構 宇宙科研
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加藤 有香子
高輝度光科学研究センター
-
加藤 有香子
高輝度光科学研究セ
-
廣瀬 和之
宇宙航空研究開発機構
著作論文
- NH^*ラジカルを用いて形成した直接窒化シリコン窒化膜の界面構造と界面準位密度(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
- 角度分解光電子分光法によるゲート絶縁膜/シリコン基板界面に形成される構造遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
- マイクロ波励起プラズマを用いた高品質シリコン窒化膜の形成
- プラズマ窒化膜/Siの界面構造、サブナイトライド、価電子帯構造(ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
- ラジカル窒化シリコン酸窒化膜における窒素プロファイルのX線光電子分光分析による評価
- ラジカル酸化法により形成したSiO_2/Si界面に形成される構造遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
- 酸素ラジカルを用いて形成したSiO_2/Si界面における組成遷移と価電子帯オフセットの基板面方位依存性(プロセス科学と新プロセス技術)
- 原子スケールで平坦なSiO_2/Si酸化膜界面歪の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- Si-SiO_2系の形成・構造・物性
- LSIにかかわる技術の変遷と課題
- SiO_2/Si界面における構造遷移層の酸化手法依存性(プロセス科学と新プロセス技術)
- 微小角入射X線回折法を用いたSiO_2薄膜中の結晶相の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- SiO_2/Si(100)界面における組成遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
- 微小角入射X線回折法を用いたSiO_2薄膜中の結晶相の評価