小椋 厚志 | 明治大学理工学部
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概要
関連著者
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小椋 厚志
明治大学理工学部
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小椋 厚志
明治大学理工学研究科
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小瀬村 大亮
明治大学理工学部
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小椋 厚志
明治大学理工学部電気電子生命学科
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島根医科大学 第三内科
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武井 宗久
明治大学理工学部
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永田 晃基
明治大学理工学部
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山口 拓也
明治大学理工学部
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山口 拓也
島根大学医学部附属病院
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寺本 章伸
東北大学未来科学技術共同研究センター
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
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廣沢 一郎
Japan Synchrotron Radiation Research Institute (JASRI)
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遠藤 和彦
産業技術総合研究所
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広沢 一郎
Nec分析評価センター
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塚田 順一
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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服部 健雄
東北大学未来情報産業共同研究センター
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諏訪 智之
東北大学未来科学技術共同研究センター
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渡邉 孝信
早稲田大学工学部
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服部 健雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
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野口 隆
琉球大学工学部
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渡邉 孝信
早稲田大学理工学術院
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大泊 巌
早稲田大学理工学術院
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坂本 邦博
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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柳 永〓
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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大内 真一
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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亀井 貴弘
明治大学理工学部電気電子生命学科
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山内 洋美
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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石川 由紀
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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林田 哲郎
明治大学理工学部電気電子生命学科
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松川 貴
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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昌原 明植
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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Ohmi Tadahiro
The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University
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富田 基裕
明治大学理工学部
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橋口 裕樹
明治大学理工学部
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小金澤 智之
財団法人高輝度光科学センター
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杉浦 裕樹
早稲田大学理工学術院
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掛村 康人
明治大学理工学部
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遠藤 和彦
産業技術総合研 エレクトロニクス研究部門
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清家 綾
早稲田大学理工学術院
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丹下 智之
早稲田大学理工学術院
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佐野 一拓
早稲田大学理工学術院
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土田 育新
早稲田大学理工学術院
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太田 洋道
早稲田大学理工学術院
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大泊 巌
早稲田大学
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石川 由紀
産業技術総合研究所
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坂本 邦博
産業技術総合研究所
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大内 真一
独立行政法人産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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柳 永勲
産業技術総合研究所
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昌原 明植
産業技術総合研究所
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松川 貴
産業技術総合研究所
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大内 真一
産業技術総合研究所
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遠藤 和彦
(独)産業技術総合研究所ナノエレクトロニクス研究部門
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松川 貴
(独)産業技術総合研究所ナノエレクトロニクス研究部門
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柳 永〓
(独)産業技術総合研究所ナノエレクトロニクス研究部門
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山内 洋美
(独)産業技術総合研究所ナノエレクトロニクス研究部門
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塚田 順一
産業技術総合研究所
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渡邉 孝信
早稲田大学 理工学術院
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松川 貴
独立行政法人産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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昌原 明植
産業技術総合研究所グリーンナノエレクトロニクスセンター
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寺本 章伸
東北大学未来科学共同センター
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大見 忠弘
東北大学未来科学共同センター
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諏訪 智之
東北大学未来科学共同センター
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昌原 明植
連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター,ナノエレクトロニクス研究部門,産業技術総合研究所
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松川 貴
連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター,ナノエレクトロニクス研究部門,産業技術総合研究所
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柳 永〓
産業技術総合研究所
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山内 洋美
産業技術総合研究所
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大見 忠弘
東北大学
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大見 忠弘
東北大学 未来科学技術共同研究センター
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山下 良之
物質・材料研究機構 SPring-8
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広沢 一郎
NEC
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広沢 一郎
高輝度光科学研究センター
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広沢 一郎
Jasri
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廣沢 一郎
高輝度光科学研究センター(spring-8)
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廣沢 一郎
(財)高輝度光科学研究センター利用研究促進部門i
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廣沢 一郎
財団法人高輝度光科学研究センター
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大泊 巌
早稲田大学理工学部
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター:東北大学wpiリサーチセンター
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服部 健雄
東京工業大学フロンティア研究機構
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Teramoto A
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
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大泊 巌
早大理工
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Ohdomari Iwao
School Of Science And Engineering Waseda University:kagami-memorial Laboratory For Materials Science
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広沢 一郎
Necデバイス評価技術研究所
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知京 豊裕
物質・材料研究機構
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生田目 俊秀
(株)半導体先端テクノロジーズ(selete):(現)(独)物質・材料研究機構
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Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering Tohoku University
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Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Tohoku University:(present Addre
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服部 真季
明治大学理工学部
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赤松 弘彬
明治大学理工学部
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水上 雄輝
明治大学理工学部
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廣沢 一郎
財団法人高輝度光科学センター
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Ohmi T
Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn
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Teramoto Akinobu
Tohoku Univ. Sendai Jpn
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大泊 巌
Faculty Of Science And Engineering Waseda University
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大泊 巌
早大
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大泊 巌
早大・理工
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服部 健雄
東京工大 フロンティア研究機構
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橋口 裕樹
学振
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小椋 厚志
明治大学理工学部電気電子工学科
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廣澤 一郎
財団法人高輝度光科学センター
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生田目 俊秀
明治大学理工学研究科:物質・材料研究機構国際ナノアーキテクトニクス研究拠点
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小橋 和義
明治大学理工学研究科
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長田 貴弘
物質・材料研究機構国際ナノアーキテクトニクス研究拠点
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知京 豊裕
物質・材料研究機構国際ナノアーキテクトニクス研究拠点
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小橋 和義
明治大学理工学研究科:物質・材料研究機構国際ナノアーキテクトニクス研究拠点
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山下 良之
物質・材料研究機構国際ナノアーキテクトニクス研究拠点
著作論文
- 極微FinFETおよびMulti-FinFETにおける特性ばらつき評価(低電圧/低消費電力技術,新デバイス・回路とその応用)
- 極微FinFETおよびMulti-FinFETにおける特性ばらつき評価(デバイス,低電圧/低消費電力技術,新デバイス・回路とその応用)
- 液浸ラマン分光法による異方性2軸応力評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- 先端LSIにおけるチャネル歪評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- 原子スケールで平坦なSiO_2/Si酸化膜界面歪の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- 歪Siナノワイヤトランジスタにおけるトランスコンダクタンスエンハンスメント(ゲートスタック構造の新展開(II),ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- UV/可視ラマン分光法によるレーザー結晶化ポリシリコン薄膜の応力・結晶性の評価(TFTの材料・デバイス技術・応用及び一般)
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- 32nmノードCMOSFETのチャネルひずみ評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- UV-ラマン分光法によるSiの高空間分解能ひずみ評価
- シリコン材料の先端科学技術国際会議
- 歪Siナノワイヤトランジスタにおけるトランスコンダクタンスエンハンスメント
- 微小角入射X線回折法を用いたSiO_2薄膜中の結晶相の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- HfO_2/Ge界面へのルチル型TiO_2挿入によるGeO_x生成の抑制(高誘電率膜,界面制御,メモリ技術,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)