原子スケールで平坦なSiO_2/Si酸化膜界面歪の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
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概要
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原子スケールで平坦なSiO_2/Si界面の構造や歪の状態を明らかにするために、ラマン分光法およびin-plane X線回折法に基づく測定・評価を行った。ラマン分光測定によりSiO_2/Si界面近傍には圧縮歪が存在していることを確認した。また、in-plane X線回折法によりラマン分光法同様、酸化温度上昇とともに圧縮歪が増大する傾向が確認された。Si 110回折における測定では、通常禁制反射によりピークを観測できないとされているが、今回の結果からピークが2つにスプリットすることを確認した。この2つのピーク幅やピークの強度が、界面構造や局所歪と関係性があることが示唆された。
- 2010-10-14
著者
-
寺本 章伸
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
大見 忠弘
東北大学
-
大見 忠弘
東北大学 未来科学技術共同研究センター
-
廣沢 一郎
Japan Synchrotron Radiation Research Institute (JASRI)
-
山口 拓也
島根医科大学 第三内科
-
広沢 一郎
NEC
-
広沢 一郎
高輝度光科学研究センター
-
広沢 一郎
Nec分析評価センター
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広沢 一郎
Jasri
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廣沢 一郎
高輝度光科学研究センター(spring-8)
-
廣沢 一郎
(財)高輝度光科学研究センター利用研究促進部門i
-
廣沢 一郎
財団法人高輝度光科学研究センター
-
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東北大学未来情報産業共同研究センター
-
諏訪 智之
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
服部 健雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター:東北大学wpiリサーチセンター
-
服部 健雄
東京工業大学フロンティア研究機構
-
Teramoto A
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
-
広沢 一郎
Necデバイス評価技術研究所
-
小椋 厚志
明治大学理工学部電気電子生命学科
-
Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering Tohoku University
-
Ohmi Tadahiro
The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University
-
Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Tohoku University:(present Addre
-
小瀬村 大亮
明治大学理工学部
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明治大学理工学部
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明治大学理工学部
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明治大学理工学部
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赤松 弘彬
明治大学理工学部
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明治大学理工学部
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水上 雄輝
明治大学理工学部
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明治大学理工学部
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山口 拓也
明治大学理工学部
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小金澤 智之
財団法人高輝度光科学センター
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廣沢 一郎
財団法人高輝度光科学センター
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小椋 厚志
明治大学理工学部
-
Ohmi T
Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn
-
Teramoto Akinobu
Tohoku Univ. Sendai Jpn
-
小瀬村 大亮
明治大学理工学部:日本学術振興会
-
山口 拓也
島根大学医学部附属病院
-
服部 健雄
東京工大 フロンティア研究機構
-
寺本 章伸
東北大学未来科学共同センター
-
大見 忠弘
東北大学未来科学共同センター
-
諏訪 智之
東北大学未来科学共同センター
-
小椋 厚志
明治大学理工学研究科
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