酸素ラジカルを用いて形成したSiO2/Si界面における組成遷移と価電子帯オフセットの基板面方位依存性 (シリコン材料・デバイス)

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概要

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• 電子情報通信学会の論文
• 2010-10-21

著者

• 寺本 章伸

  東北大学未来科学技術共同研究センター

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