デュアルシリサイドを用いた低直列抵抗CMOSソース/ドレイン電極形成技術
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概要
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- 2011-03-01
著者
-
寺本 章伸
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
須川 成利
東北大学 大学院 工学研究科
-
大見 忠弘
東北大学
-
大見 忠弘
東北大学 未来科学技術共同研究センター
-
須川 成利
東北大学大学院工学研究科
-
田中 宏明
東北大学大学院工学研究科
-
宮本 直人
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
黒田 理人
東北大学大学院工学研究科技術社会システム専攻
-
黒田 理人
東北大学工学研究科
-
大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター:東北大学wpiリサーチセンター
-
田中 宏明
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
中尾 幸久
東北大学大学院工学研究科
-
Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering Tohoku University
-
Ohmi Tadahiro
The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University
-
Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Tohoku University:(present Addre
-
黒田 理人
東北大学大学院工学研究科
-
Ohmi T
Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn
-
宮本 直人
東北大学 未来科学技術共同研究センター
-
寺本 章伸
東北大学未来科学共同センター
-
大見 忠弘
東北大学未来科学共同センター
-
田中 宏明
東北大学未来科学共同センター
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