Ohmi Tadahiro | Department Of Electronic Engineering Tohoku University
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概要
関連著者
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Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering Tohoku University
-
Ohmi Tadahiro
The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University
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Ohmi T
Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
大見 忠弘
東北大学
-
大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター:東北大学wpiリサーチセンター
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寺本 章伸
東北大学未来科学技術共同研究センター
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Teramoto A
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
-
Teramoto Akinobu
Tohoku Univ. Sendai Jpn
-
TERAMOTO Akinobu
New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University
-
Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Tohoku University:(present Addre
-
Teramoto Akinobu
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
-
Teramoto Akinobu
Department Of Electronic Engineering Faculty Of Engineering Tohoku University
-
大見 忠弘
東北大学 未来科学技術共同研究センター
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OHMI Tadahiro
New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University
-
Ohmi Tadahiro
New Industry Creation Hatchery Center Future Information Industry Creation Center Tohoku University
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須川 成利
東北大学 大学院 工学研究科
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Sugawa S
Graduate School Of Engineering Tohoku University
-
SUGAWA Sigetoshi
Tohoku University
-
Sugawa Shigetoshi
Graduate School Of Engineering Tohoku University
-
Sugawa Shigetoshi
Department Of Electronic Engineering Tohoku University
-
宮本 直人
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
須川 成利
東北大学大学院工学研究科
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諏訪 智之
東北大学未来科学技術共同研究センター
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SUGAWA Shigetoshi
Graduate School of Engineering, Tohoku University
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SUWA Tomoyuki
New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University
-
Suwa Tomoyuki
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
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阿部 健一
日本大学工学部情報工学科
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阿部 健一
東北大学大学院工学研究科
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阿部 健一
東北大
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服部 健雄
東北大学未来情報産業共同研究センター
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森田 瑞穂
大阪大学大学院工学研究科
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服部 健雄
東北大学未来科学技術共同研究センター
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廣江 昭彦
東北大学未来科学技術共同研究センター未来情報産業創製研究部門
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小谷 光司
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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服部 健雄
東京工業大学フロンティア研究機構
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KURODA Rihito
Graduate School of Engineering, Tohoku University
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阿部 健一
東北大学大学院工学研究科技術社会システム専攻
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森田 瑞穂
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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Kuroda Rihito
Graduate School Of Engineering Tohoku University
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阿部 健一
東北大 大学院工学研究科
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阿部 健一
東北大学工学部電気系
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小谷 光司
東北大学大学院工学研究科
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阿部 健一
東北大学工学部電気工学科
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陳 キュウ
東北大学未来科学技術共同研究センター
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李 菲菲
東北大学未来科学技術共同研究センター
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広江 昭彦
東工大理
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廣江 昭彦
東北大未来科学技術共同研究センター
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谷 クン
東北大学工学研究科電子工学専攻
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根本 剛直
東北大学未来科学技術共同研究センター
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野平 博司
Musashi Institute Of Technology
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阿部 健一
東北大学大学院工学研究科 電気・通信工学専攻
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後藤 哲也
東北大学未来科学技術共同研究センター未来情報産業創製研究部門
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黒田 理人
東北大学大学院工学研究科技術社会システム専攻
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黒田 理人
東北大学工学研究科
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黒田 理人
東北大学大学院工学研究科
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KONDA Masahiro
New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University
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Nohira Hiroshi
Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology
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Nakazawa Hiroshi
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
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Konda Masahiro
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
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阿部 健一
東北大学大学院
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伊藤 隆司
東北大学工学研究科電子工学専攻
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須川 成利
東北大学工学研究科技術社会システム
-
田中 宏明
東北大学大学院工学研究科
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IMAI Hiroshi
Graduate School of Science and Engineering, Kagoshima University
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藤澤 孝文
東北大学大学院工学研究科
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渡部 俊一
東北大学大学院工学研究科
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熊谷 勇喜
東北大学大学院工学研究科
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伊藤 隆司
(株)富士通研究所
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IKENAGA Eiji
Japan Synchrotron Radiation Research Institute/SPring-8
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田中 宏明
東北大学未来科学技術共同研究センター
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中尾 幸久
東北大学大学院工学研究科
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伊藤 隆司
富士通研究所
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Ikenaga Eiji
Japan Synchrotron Radiation Research Institute
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Hattori Tetsuya
Depaetment Of Electrical And Electronic Engineering Tokyo Institute Of Technology
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Konda Masahiro
NICHe, Tohoku University
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Teramoto Akinobu
NICHe, Tohoku University
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Suwa Tomoyuki
NICHe, Tohoku University
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Ohmi Tadahiro
NICHe, Tohoku University
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Shibata Tadashi
Department Of Electrical Engineering And Information Systems School Of Engineering The University Of
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伊藤 隆司
東京工業大学ソリューション研究機構:広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
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ARATANI Takashi
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
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HIGUCHI Masaaki
TOSHIBA CORPORATION
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USHIO Jiro
Hitachi, Ltd.
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NOHIRA Hiroshi
Musashi Institute of Technology
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HATTORI Takeo
New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University
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Hattori Takashi
Central Research Laboratory Hitachi Ltd.
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Shibata Tadashi
Department Of Electronic Engineering Tohoku University
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Abe Kenichi
Graduate School of Engineering, Tohoku University
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Fujisawa Takafumi
Graduate School of Engineering, Tohoku University
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Watabe Shunichi
Graduate School of Engineering, Tohoku University
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Sugimura Masahiko
Research and Development Center, Zeon Corporation
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Kawasaki Masafumi
Research and Development Center, Zeon Corporation
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Hirayama Masaki
Toshiba Corporation
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Sugimura Masahiko
Research And Development Center Zeon Corporation
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Hattori T
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
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Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering
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Ushio Jiro
Hitachi Ltd.
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室 隆桂之
JASRI
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室隆 桂之
SPring-8 JASRI
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飯嶋 和明
三機工業(株)エネルギーソリューションセシター
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室 隆桂之
財団法人高輝度光科学研究センター
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高橋 研
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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廣沢 一郎
Japan Synchrotron Radiation Research Institute (JASRI)
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石井 裕
シャープ株式会社ディスプレイ技術開発本部
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阿部 健一
東北大学工学部
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山口 拓也
島根医科大学 第三内科
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室隆 佳之
JASRI
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広沢 一郎
NEC
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広沢 一郎
高輝度光科学研究センター
-
高橋 研
東北大学工学研究科電子工学専攻
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池永 英司
高輝度光科学研究センター
-
室 隆桂之
高輝度光科学研究センター
-
山下 哲
東北大未来科学技術共同研究センター
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広沢 一郎
Nec分析評価センター
-
広沢 一郎
Jasri
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廣沢 一郎
高輝度光科学研究センター(spring-8)
-
廣沢 一郎
(財)高輝度光科学研究センター利用研究促進部門i
-
廣沢 一郎
財団法人高輝度光科学研究センター
-
池永 英司
Crest・jst
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室 桂隆之
JASRI SPring-8
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稲葉 仁
高砂熱学工業(株)
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石井 裕
シャープ(株)ディスプレイ技術開発本部
-
池永 英司
(財)高輝度光科学研究センター
-
野平 博司
武蔵工業大学工学部
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山田 祐一郎
シャープ(株)ディスプレイ技術開発本部avcディスプレイ研究所第2研究部
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梅田 浩司
ULSI技術開発センター
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樋口 正顕
株式会社東芝
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荒谷 崇
信越化学工業株式会社
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牛尾 二郎
株式会社日立製作所
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平山 昌樹
東北大学未来科学技術共同研究センター
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河瀬 和雅
三菱電機(株)先端総研
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梅田 浩司
(株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部
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井上 真雄
(株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部
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荒川 公平
日本ゼオン(株)
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宮城 孝一
日本ゼオン(株)高岡工場
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植村 聡
東北大学工学部電子工学専攻
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鈴木 康司
三機工業(株)技術開発本部
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若山 恵英
大成建設(株)
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石原 良夫
大陽日酸株式会社
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白井 泰雪
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
井上 真雄
(株)ルネサステクノロジ
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Philipossian Ara
University of Arizona
-
Sampurno Yasa
University of Arizona
-
Cheng Jiang
Araca, Inc.
-
Zhuang Yun
University of Arizona
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譽田 正宏
東北大学未来科学技術共同研究センター
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梅田 浩司
(株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部
-
山本 真也
(株)豊田自動織機
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長田 健一
(株)日立製作所中央研究所
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北野 真史
東北大学未来科学技術共同研究センター
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NAKANO Yukihisa
Graduate School of Engineering, Tohoku University
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TANAKA Hiroaki
New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University
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黒木 伸一郎
東北大学大学院工学研究科
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村岡 祐介
大日本スクリーン製造(株) 開発本部
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木下 豊彦
高輝度光科学研究センター利用研究促進部門
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Tanaka Hiroaki
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
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広沢 一郎
Necデバイス評価技術研究所
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高橋 研
東北大学工学部電子工学専攻
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小椋 厚志
明治大学理工学部電気電子生命学科
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鈴木 康司
三機工業
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Zhuang Yun
University Of Arizona:araca Inc.
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Cheng Jiang
Araca Inc.
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Sampurno Yasa
University Of Arizona:araca Inc.
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石井 裕
シャープ(株) 液晶研究所
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小瀬村 大亮
明治大学理工学部
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服部 真季
明治大学理工学部
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武井 宗久
明治大学理工学部
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永田 晃基
明治大学理工学部
-
赤松 弘彬
明治大学理工学部
-
富田 基裕
明治大学理工学部
-
水上 雄輝
明治大学理工学部
-
橋口 裕樹
明治大学理工学部
-
山口 拓也
明治大学理工学部
-
小金澤 智之
財団法人高輝度光科学センター
-
Tye Ching
Graduate School Of Engineering Tohoku University
-
木村 純
松下電器産業eネット事業本部
-
CHENG Weitao
New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University
-
山崎 正宏
(株)オプテス
-
飯嶋 和明
三機工業(株)
-
飯嶋 和明
三機工業
-
廣沢 一郎
財団法人高輝度光科学センター
-
松本 洋平
東京海洋大学
-
小池 帆平
産業技術総合研究所
-
富田 祐吾
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
黒木 伸一郎
東北大学工学研究科電子工学専攻
-
木下 豊彦
高輝度光科学研究センター
-
Cheng Weitao
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
-
小椋 厚志
明治大学理工学部
-
白井 泰雪
東北大未来科学技術共同研究センター
-
川田 幸司
(株)フジキン大阪ハイテック研究開発センター
-
Nakano Yukihisa
Graduate School Of Engineering Tohoku University
-
Philipossian Ara
University Of Arizona:araca Inc.
-
小瀬村 大亮
明治大学理工学部:日本学術振興会
-
北野 真史
東北大未来科学技術共同研究センター
-
村岡 祐介
大日本スクリーン製造(株)
-
木村 純
浜松ホトニクス(株)電子管事業部営業部営業推進g
-
稲葉 仁
高砂熱学工業 総研
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石原 良夫
大陽日酸株式会社電子機材事業本部事業戦略推進部
-
別所 正博
三菱重工業(株)名古屋研究所
著作論文
- ノンポーラスULK層間膜(フロロカーボン)へのダメージを抑制したCu-CMP後洗浄液の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
- マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 高精度CMP終点検出方法の検討(プロセス科学と新プロセス技術)
- 角度分解光電子分光法によるゲート絶縁膜/シリコン基板界面に形成される構造遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
- RTN測定の高精度化・高速化技術とRTN特性に強い影響度を示すプロセス条件(携帯電話用カメラ,デジタルスチルカメラ,ビデオカメラ(ハイビジョン)とそのためのイメージセンサ,モジュール,特別企画「CCD誕生40周年記念講演-黎明期-」)
- MOSFET特性ばらつき、RTSノイズの統計的評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- Stress Induced Leakage CurrentとRandom Telegraph Signalノイズとの相関(プロセス科学と新プロセス技術)
- 原子オーダ平坦化ウェハ表面のAFM評価手法及びデータ解析手法(プロセス科学と新プロセス技術)
- ラジカル窒化シリコン酸窒化膜における窒素プロファイルのX線光電子分光分析による評価
- 大型液晶ディスプ***ロジェクトが切り開く未来(総合報告)
- High Current Drivability FD-SOI CMOS with Low Source/Drain Series Resistance(Session 9B : Nano-Scale devices and Physics)
- 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
- 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
- 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
- マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- ULSI用低抵抗コンタクトのための低バリアハイトメタルシリサイドの形成(プロセス科学と新プロセス技術)
- 酸素ラジカルを用いて形成したSiO_2/Si界面における組成遷移と価電子帯オフセットの基板面方位依存性(プロセス科学と新プロセス技術)
- 次世代LSI向け低誘電率絶縁膜/Cuダマシン配線の形成(プロセス科学と新プロセス技術)
- 原子スケールで平坦なSiO_2/Si酸化膜界面歪の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- 電子デバイス製造用クリーンルームにおける室内系統水噴霧加湿の研究 : 第1報-省エネルギー効果の検証
- ガス供給系における金属表面の吸着水とその除去
- Impact of fully depleted silicon-on-insulator accumulation-mode CMOS on Si(110) (シリコン材料・デバイス)
- MOSFETにおけるランダムテレグラフシグナルの統計的評価方法(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- The data analysis technique of the atomic force microscopy for the atomically flat silicon surface(Session9A: Silicon Devices IV)
- The data analysis technique of the atomic force microscopy for the atomically flat silicon surface(Session9A: Silicon Devices IV)
- 差分量子化によるヒストグラム特徴を用いた映像の高速探索(画像信号処理及び一般)
- VQ-SIFTを用いた物体認識ためのロバストな局所画像記述子(画像信号処理及び一般)
- 差分量子化によるヒストグラム特徴を用いた映像の高速探索(画像信号処理及び一般)
- VQ-SIFTを用いた物体認識ためのロバストな局所画像記述子(画像信号処理及び一般)
- Study on Compositional Transition Layers at Gate Dielectrics/Si Interface by using Angle-resolved X-ray Photoelectron Spectroscopy
- Study on Compositional Transition Layers at Gate Dielectrics/Si Interface by using Angle-resolved X-ray Photoelectron Spectroscopy
- Data Analysis Technique of Atomic Force Microscopy for Atomically Flat Silicon Surfaces
- A Statistical Analysis of Distributions of RTS Characteristics by Wide-Range Sampling Frequencies
- A Statistical Analysis of Distributions of RTS Characteristics by Wide-Range Sampling Frequencies
- A Material of Semiconductor Package with Low Dielectric Constant, Low Dielectric Loss and Flat Surface for High Frequency and Low Power Propagation(Session2: Silicon Devices I)
- A Material of Semiconductor Package with Low Dielectric Constant, Low Dielectric Loss and Flat Surface for High Frequency and Low Power Propagation(Session2: Silicon Devices I)
- デュアルシリサイドを用いた低直列抵抗CMOSソース/ドレイン電極形成技術
- ホモジニアス・タイル構造3次元FPGAの性能評価(3D-I,集積回路とアーキテクチャの協創〜3次元集積回路技術とアーキテクチャ〜)
- Functionality Enhancement in Elemental Devices for Implementing Intelligence on Integrated Circuits (Special Issue on New Concept Device and Novel Architecture LSIs)
- Four-Terminal Device Electronics for Intelligent Silicon Integrated Systems