高橋 研 | 東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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概要
関連著者
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高橋 研
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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高橋 研
東北大学大学院工学研究科
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高橋 研
東北大
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斉藤 伸
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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角田 匡清
東北大 大学院工学研究科
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荘司 弘樹
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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庄司 弘樹
三菱総合研 先端科研
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角田 匡清
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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高橋 研
東北大学未来科学技術共同研究センター
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荘司 弘樹
東北大・工
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吉村 哲
東北大学大学院工学研究科
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角田 匡清
東北大院工
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斉藤 伸
東北大・工
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ジャヤプラウィラ D.
東北大学大学院工学研究科電子工学
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角田 匡清
東北大工
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高橋 研
東北大学未来共同科学研究センター
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菊池 暁
富士通
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高橋 研
東北大学 未来科学技術共同研究センター
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小川 智之
東北大院工
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小川 智之
東北大工
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ジャヤプラウィラ D.
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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小川 智之
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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高橋 研
東北大学工学部電子工学専攻
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須永 和晋
東北大工
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須永 和晋
東北大学大学院工学研究科
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高橋 有紀子
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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高橋 大輔
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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長谷川 大二
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板垣 憲和
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土門 宏紀
東北大
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星 文和
東北大学大学院工学研究科電子工学
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三上 正樹
東北大
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赤羽 浩一
ネオアーク株式会社
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ジャヤデワン B.
東北大・環境科学
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三浦 聡
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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橋本 篤志
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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芦沢 好人
東北大
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渡辺 誠
東北大学大学院歯学研究科加齢歯科学分野
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目黒 栄
ネオアーク株式会社
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高橋 研
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三浦 聡
東北大
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芝 隆司
(株)日立メディアエレクトロニクス横浜事業所
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庄山 敏弘
東北大学工学研究科電子工学専攻
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島津 武仁
東北大学電気通信研究所
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平井 健一
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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水野 幹久
ソニー株式会社
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佐々木 勇一
ソニー株式会社
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小熊 博
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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原 寛
帝人
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河野 有紀子
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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島津 武仁
東北大 工
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小宮山 和弥
富士電機株式会社
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田路 和幸
東北大学大学院環境科学研究科
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堀井 明
アネルバ(株)mmd装置事業部プロセス技術部
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佐藤 王高
同和鉱業株式会社
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久野 誠一
同和鉱業株式会社
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渡辺 誠
東北大
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中井 淳一
神戸製鋼所
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斉藤 伸
東北大学医学部整形外科
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チナサミー C.
東北大院環境
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田中 啓太
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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佐々木 晋五
一関工業高等専門学校
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佐藤 王高
同和鉱業
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日向 慎太朗
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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仲 真美子
東北大学大学院工学研究科
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岩田 昇
東北大学
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タム キム・コング
東北大
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中井 淳一
神戸製鋼所 材料研
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佐藤 岳
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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小熊 博
東北大学電気通信研究所
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田路 和幸
東北大院環境
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宮崎 照宣
東北大学原子分子材料科学高等研究機構(WPI)
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堀井 明
東北大分子病理
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西川 和宏
東北大
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高桑 雄二
東北大科研
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宮内 貞一
ソニー
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YU A.
ソニー(株)RMカンパニー
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小川 智之
東北大学工学研究科電子工学専攻
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長谷川 大二
東北大院工
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ジャヤデワン B.
東北大院環境
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菅野 聡
東北大
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高橋 研
東北大工
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小熊 博
東北大学 電気通信研究所
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柴田 雅博
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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井上 誠
ソニー株式会社
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浦川 潔
東北大学大学院環境科学研究科
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浦川 潔
東北大・環境
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篠田 弘造
東北大・環境
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柳沢 龍一
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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志摩 智之
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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柳沢 栄二
ネオアーク株式会社
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迎 展彰
東洋鋼鈑
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迎 展彰
東洋鋼鉄株式会社技術研究所
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佐藤 好浩
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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芦沢 好人
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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八田 芳仁
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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ジャヤプラウィラ D.D.
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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斉藤 伸
学振特別研究員
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庄司 弘樹
東北大
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井上 誠
ソニー(株)
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高橋 秀行
東北大・工
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土屋 芳弘
東北大
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芦野 雅一
東北大学大学院工学研究科
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伊藤 友教
現住所
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芦澤 好人
日本学術振興会:東北大学未来科学技術共同研究センター
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高桑 雄二
東北大
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宮崎 照宣
東北大 原子分子材料科学高等研究機構
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尾形 聡
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻:月島機械(株)真空事業推進部技術グループ
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吉村 哲
日本学術振興会
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工藤 大弥
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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許 文彬
東北大
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篠田 弘造
東北大学大学院環境科学研究科
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菊池 暁
東北大学大学院工学研究科
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原 寛
東北大学大学院工学研究科
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高崎 通崇
東北大学大学院工学研究科 電子工学専攻
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石橋 信一
東北大学大学院工学研究科 電子工学専攻
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芦澤 好人
東北大学大学院工学研究科 電子工学専攻
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小野寺 政信
東北大学工学部 技術部
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保々 旭
東北大
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渡辺 洋
三井化学(株)電子情報材料研究所
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島津 武仁
東北大
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柴田 雅博
京都大学大学院工学研究科数理工学専攻:(現)大阪ガス(株)
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武田 全康
原子力機構J-PARCセ
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
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磯上 慎二
東北大院工
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飯嶋 和明
三機工業(株)エネルギーソリューションセシター
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斉藤 準
秋田大学工学資源学部
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三俣 千春
日立金属生産システム研究所
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高橋 宏和
東北大工
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宮崎 照宣
東北大 工
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加倉井 和久
原子力機構
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宮崎 照宣
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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駒崎 洋亮
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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磯上 慎二
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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陳 哲勤
國立彰化師範大學大学院物理学科
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ジャヤデワン バラチャンドラン
東北大学大学院環境科学研究科
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中村 哲也
理研
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中村 哲也
高輝度光科学研究センター
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水野 幹久
ソニー(株)RMカンパニー
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佐々木 勇一
ソニー(株)RMカンパニー
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宮内 貞一
ソニー(株)RMカンパニー
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柿部 策
東北大学工学研究科電子工学専攻
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田中 啓太
東北大院工
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高橋 研
東北大院工
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宮内 貞一
ソニー株式会社
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遠藤 敦
東北大学産婦人科
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屋上 公二郎
東北大
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長塚 俊也
東北大
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大野 玲
三菱化学株式会社
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脇山 徳雄
東北大学工学部電子工学科
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高桑 雄二
東北大学多元物質科学研究所
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張 其武
東北大学多元物質科学研究所
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高橋 宏和
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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長谷川 大二
東北大工
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YU A.
ソニー株式会社
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近藤 洋文
ソニー株式会社
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太田 一平
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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佐々木 勇一
ソニー(株)
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近藤 洋文
ソニー
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植村 聡
東北大学工学部電子工学専攻
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鈴木 康司
三機工業(株)技術開発本部
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渡辺 誠
東北大学
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瀬戸 亨
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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YANG H.
東北大学未来科学技術共同研究センター(NICHe)
-
YANG Haitao
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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JEYADEVAN Balachandran
東北大学大学院環境科学研究科
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YANG Haitao
Department of Electronic Engineering, Graduate School of Engineering, Tohoku University
-
JEYADEVAN Balachandran
Graduate School of Environmental Studies, Tohoku University
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ジャヤデワン B.
東北大学
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芝 隆司
日立メディアエレ
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上野 友典
日立金属株式会社冶金研究所
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伊藤 聡
ネオアーク株式会社
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小西 泰司
ネオアーク(株)
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藤尾 真也
東北大
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鈴木 祐司
東北大
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斉藤 伸
学振
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芝 隆司
日立・映像研
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伊藤 友教
東北大学
-
三俣 千春
日立金属(株)先端エレクトロニクス研究所
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高橘 宏和
東北大工
-
大山 博久
東北大学大学院工学研究科
-
渡邉 義彦
東北大学大学院工学研究科
-
高橋 研
東北大・工
-
尹 大植
東北大学工学研究科電子工学専攻
-
白石 一雄
東北大
-
鈴木 康司
三機工業
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菊池 暁
東北大
-
原 寛
東北大
-
髙﨑 通崇
東北大学大学院工学研究科 電子工学専攻
-
ジャヤデワン バラチャンドラン
東北大学環境科学研究科
-
Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering Tohoku University
-
Ohmi Tadahiro
The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University
-
遠藤 敦
東北大学
-
尾形 聡
東北大・歯・保存II
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タム キム
東北大
-
三ツ谷 晴仁
富士電機
-
中井 淳
神戸製鋼所
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谷津 明生
ジャパンエナジー
-
廣田 好彦
三井化学(株)市原システム部
-
片山 慎也
三菱化学株式会社
著作論文
- Fe4N/MgO/CoFeB強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果の温度依存性
- γ-Mn-Ir/Fe-Co-Ni積層膜の交換磁気異方性と強磁性層結晶構造との相関
- mmオーダーの磁区観察可能な広視野縦Kerr効果ベクトル磁区観察装置の開発(媒体,一般)
- 垂直磁気記録媒体のための擬似六方晶薄膜の開発(媒体,一般)
- Hcp Co ナノ粒子群の液相合成と磁気特性
- ポリオール法により合成したFePtナノ粒子の構造と磁気特性
- 「Kerr効果顕微鏡BH-78シリーズ」 : μmオーダー面内/垂直磁区の高明暗比観察のために(新技術・新商品)
- Ni-Fe/Mn-Ir積層膜の交換磁気異方性と微細構造 -Mn-Ir膜の成膜レートとIr量に対する依存性-
- Co/Cu多層膜のGMR効果に及ぼす成膜雰囲気中の残留ガスの影響
- 21pWD-2 窒化鉄薄膜の偏極中性子回折による巨大磁気モーメントの検証(薄膜・人工格子磁性,領域3,磁性,磁気共鳴)
- ポリオールプロセスより合成されたCoPtナノ粒子単層膜の磁気特性および結晶構造
- FePtナノ粒子単層膜の構造と磁気特性
- CoSi合金ターゲットのリアクティブスパッタリングによるCo—SiO2グラニュラー膜の作製プロセスの低ガス圧化
- Co-Si-O素材組換えターゲットにより作製されるグラニュラー薄膜の成膜条件と構造および磁気特性
- 高周波デバイス対応磁性ナノ粒子集合体の形成と動的磁気特性
- 粒子成長速度がFeナノ粒子の飽和磁化に及ぼす影響
- 高周波デバイス対応磁性ナノ粒子/ポリマー複合材料
- 超常磁性ナノ粒子集合体形成とその高周波磁気特性
- ポリオール法で作製したFePtナノ粒子の養生過程における規則化過程
- ポリオール法で作製したFePtナノ粒子の養生過程における規則化過程(ハードディスクドライブ及び一般)
- 化学合成によるL1_0型FePtナノ粒子の規則化過程と磁気特性
- 高保磁力ナノ粒子の化学合成 : 酸化物および金属ナノ粒子について
- Qバンド強磁性共鳴を用いたc面配向CoPtCr合金薄膜の異方性磁界およびg因子の評価
- c面配向擬似六方晶Co_Ge_x薄膜の一軸結晶磁気異方性(記録システムおよび一般)
- c面配向擬似六方晶Co_Ge_x薄膜の一軸結晶磁気異方性(記録システム及び一般)
- グラニュラー型垂直磁気記録媒体における界面制御
- Kerr 効果顕微鏡 : μmオーダの迅速な磁区構造観察と磁区内局所磁化方向の決定
- 機能性薄膜作製のためのスパッタリングターゲット : 技術課題と今後への指針
- 垂直磁気記録媒体用物理的/化学的分離テンプレート中間層の作製
- 垂直磁気記録媒体用物理的/化学的分離テンプレート中間層の作製(磁気記録に関わる材料及びシステムの開発と評価)
- 負の一軸結晶磁気異方性をもつ軟磁性材料を用いた裏打ち膜の提案 : WATEおよびスパイクノイズの同時抑制のために(磁気記録)
- Kerr効果顕微鏡 : μm磁区構造の迅速な観察のために(「磁性に関連したセンシング技術の広がりとその最前線」その2-磁気イメージング-)
- μm磁区観察を可能とする高明暗比縦 Kerr 効果顕微鏡の開発
- サブμm孤立パターンの磁化過程検出を可能とする縦 Kerr 効果磁気履歴曲線検出装置の開発
- ポストアニールを用いた非磁性元素拡散によるCoCrPtエピタキシャル垂直磁気記録媒体の粒間相互作用低減
- 反強磁性的交換結合を有するCo/Pd系多層垂直磁化膜の磁気特性
- めっき裏打ち膜付きAl/NiP基板の開発 : 強磁性層/反強磁性層の作製工程の低減
- 反強磁性/軟磁性積層裏打ち膜における磁化過程の軟磁性膜厚依存性
- Ti/CoCrPt/Ti垂直記録媒体におよぼす in situ anneal の効果
- Ti下地, Tiキャップ層を用いたCoCrPt系 in situ anneal 媒体の磁気特性の向上
- Mn-Si-Cスパッタリング薄膜の構造および磁気特性
- RKKY的層間結合を有する積層裏打ち膜の交換結合磁界の増大
- 新規めっき裏打ち層付Ni-P/Al基板の作製 : 磁気特性並びに単磁区化
- 磁気的層間結合を利用した裏打ち膜の高浮遊磁界耐性化
- FeTaN/CoCrPtB垂直二層膜媒体用中間層の構造制御と薄膜化
- CoCr/C中間層の導入によるCoCrPt系垂直薄膜媒体の高K_u化
- CoCrPtB垂直薄膜媒体の磁気特性の温度変化
- 高角型比・高規格化保磁力CoCr基垂直磁気記録媒体の材料設計
- インラインプロセスにより制御した裏打ちFeTaN薄膜の軟磁気特性ならびにノイズ特性 : 垂直磁気記録媒体
- CoCr基垂直薄膜媒体の回転ヒステリシス損失消失磁界の膜厚依存性 : 垂直磁気記録媒体
- Co_Cr_/極薄C中間層を用いたCoCrPtB垂直磁気記録媒体の磁気特性と微細構造 : 垂直磁気記録媒体
- インラインプロセスにより制御した裏打ちFeTaN薄膜の軟磁気特性ならびにノイズ特性
- c面配向MnSbスパッタ薄膜の垂直磁気異方性の温度特性
- CoCr基垂直薄膜媒体の回転ヒステリシス損失消失磁界に関する考察
- 非磁性CoCr/極薄C中間層を用いたCoCrPtB垂直磁気記憶媒体の磁気特性と微細構造
- 種々の下地・磁性層材料を用いたCoCr基垂直薄膜媒体の初期層厚の定量解析
- スパッタリング法により作製したC面配向MnSb薄膜の平坦化
- 光学的手法による垂直薄膜媒体磁化過程の膜厚方向解析
- CoCr基垂直薄膜媒体におけるコラム状結晶と初期層の磁気特性の分離評価
- Co基垂直薄膜媒体のコラム状晶内結晶磁気異方性 : 垂直トルクの膜厚依存性の解析
- 光学的手法による垂直薄膜媒体磁化過程の膜厚方向解析
- c面高配向MnSb薄膜作製プロセスの低温化
- プレーナ配置式スパッタリング法によるMnSbエピタキシャル薄膜の作製 : エピタキシャル成長に及ぼす基板温度ならびに基板バイアスの効果
- MnSbスパッタ薄膜の成長過程に及ぼす基板バイパス効果
- プレーナ配置式スパッタ法によるMnSbエピタキシャル薄膜の作製 (種々のSi基板上に作製したMnSb薄膜の配向制御)
- スパッタ法ならびに蒸着法で作製したCu薄膜の初期成長過程
- スパッタ法ならびに蒸着法で作製したCu薄膜の初期成長過程-SAWと電気抵抗による観察-
- Crシード上に蒸着したAg薄膜の初期成長過程における構造変化
- Ag蒸着膜の初期成長過程における連続化膜厚と二次元化膜厚
- Ag薄膜の初期成長過程(弾性表面波による観察)
- CoFeB/MgO/CoFeB強磁性トンネル接合におけるMgO障壁層の結晶配向性制御および巨大トンネル磁気抵抗効果の導出
- 強磁性トンネル接合用Al薄膜の酸化過程とマイクロ波励起プラズマ中の酸化種との相関
- 高密度低電子温度プラズマを用いて作製した強磁性トンネル接合
- スパッタリング法によるMnSbエピタキシャル薄膜の作製 : 荷電粒子のエピタキシャル成長への影響
- MnSbPt薄膜の微細構造と磁気光学効果 : PtMnSb相の析出・再結晶と磁気光学構造の波長シフト
- スパッタリング法によるMnSbエピタキシャル薄膜の作製
- MnSbPt薄膜の微細構造と磁気光学効果(PtMnSb相の析出・再結晶と磁気光学構造の波長シフト)
- スパッタリング法によるMnSbエピタキシャル膜の作製 : Si基板上に作製したMnSb薄膜の配向制御
- MnSbPt薄膜の誘電率テンソルと磁気光学効果
- MnSbPt薄膜の微細構造と磁気光学効果
- MnSbM(M=Pt, Au, Pd)薄膜の構造および磁気光学特性
- MnSbPt薄膜の光学および磁気光学効果
- MnSbPt薄膜の微細構造と磁気光学効果
- スパッタリング法によるMnSbエピタキシャル膜の作製 (Si基板上に作製したMnSb薄膜の配向制御)
- MnSbPd薄膜の構造および磁気光学特性
- 巨大磁気力-回転角を有するMnSbPt薄膜の微細構造
- MnSbPt薄膜の光学および磁気光学特性
- mmオーダーの磁区観察可能な広視野縦Kerr効果べクトル磁区観察装置の開発(媒体,一般)
- コリメーターを用いて作製したFe_N_2スパッタ薄膜の構造と飽和磁化
- コリメーターを用いて作製したFe_N_2スパッタ薄膜の構造と飽和磁化
- 垂直磁気記録媒体のための擬似六方晶薄膜の開発(媒体,一般)
- 今, 改めて問われる成膜プロセスの質
- 今，改めて問われる成膜プロセスの質
- 6)クリーン化プロセスによる高密度磁気記録媒体の作製(画像情報記録研究会)
- 清浄雰囲気中で作製したCo基薄膜媒体の記録再生特性(結晶粒径と静磁気的相互作用)
- クリーン化プロセスによる高密度磁気記録媒体の作製
- クリーン化プロセスによる高密度磁気記録媒体の作製
- 清浄雰囲気中で作製したCoCrTa媒体における熱擾乱の影響
- 極薄Co基磁性膜の磁気特性と微細構造 (清浄雰囲気中で作製したCo基薄膜媒体)
- 清浄雰囲気中で作製した薄膜媒体の粒間相互作用の評価(磁気トルクの温度変化の測定による解析)
- 清浄雰囲気中で作製したCoNiCrTa薄膜媒体(結晶粒径及び粒径分散への基板バイアスの影響)
- 異方性及び等方性CoCrTa媒体の磁気的微細構造(磁性結晶粒径・粒間相互作用と磁気クラスター径)
- 清浄雰囲気中で作製したCoNiCrTa薄膜磁気記録媒体(磁気異方性と粒間相互作用へのNi添加効果)
- 清浄雰囲気中で作製したCoCrTaPt薄膜磁気記録媒体
- 清浄雰囲気中で作製したCoCrTa薄膜媒体のCr偏析構造
- Co基薄膜媒体の粒間相互作用と記録再生特性 (清浄雰囲気中で作製した薄膜媒体の記録再生特性)
- 薄膜媒体のリバースDCイレーズノイズと磁化状態 (清浄雰囲気中で作製した薄膜媒体のノイズ特性)
- 電子デバイス製造用クリーンルームにおける室内系統水噴霧加湿の研究 : 第1報-省エネルギー効果の検証
- ナノ結晶Fe-Al-Nb-B合金薄帯の軟磁気特性
- ナノ結晶Fe-Al-Si-M-B (M=V, Nb, Ta)合金薄帯の構造と軟磁気特性
- 高密度薄膜磁気記録媒体の物理
- ウルトラクリーンプロセスと微細構造制御 : 薄膜媒体並びに薄膜ヘッド材料を例として
- スパッタリング雰囲気の清浄性の超高密度磁気記録デバイス用薄膜の磁気性への影響
- スパッタ雰囲気の極清浄化
- 組織制御による新磁気的機能の発現
- (2) スパッタプロセスの超清浄化と薄膜の微細組織 : ガス不純物の組織への影響(主題「スパッタ法による薄膜の作製・評価と素材」)(特定テーマシンポジウム)(素材工学研究会記事)
- スパッタリング雰囲気の清浄性の磁気特性への影響
- 超高密度薄膜磁気記録媒体 -次世代ハードディスクと真空成膜装置-
- ウルトラクリーンプロセスと薄膜磁気記録媒体-ハードディスクを例として-
- BCC固溶体下地層上に作製したCo/Cu多層膜のGMR効果の耐熱性
- 微量酸素添加スパッタ雰囲気中で作製したCo-Fe/Cu多層膜のGMR効果
- Co/Cu多層膜のGMR効果に及ぼすFe-Si下地層の影響
- 成膜雰囲気制御によるCo-Fe/Cu多層膜のGMR効果の高感度化
- 結晶配向面の異なるMn-Ir/Co-Feエピタキシャル交換結合膜の磁化過程観察
- 極薄WCrシードへの酸素暴露による薄膜媒体の結晶粒制御(WCrシードの初期成長核作用増大による粒径微細化の促進)
- 高周波デバイス対応磁性ナノ粒子集合体の形成と動的磁気特性
- Co/Cu多層膜のGMR効果の耐熱性に及ぼす成膜雰囲気清浄性の効果
- M-Co(M=Au, Ag, Cu)グラニュラー薄膜の構造と磁気特性 -固容体形成に及ぼす成膜雰囲気中不純物の影響-
- 極清浄雰囲気中で作製したAg-Co薄膜の構造とGMR効果 : Cu-Co薄膜との比較
- 極清浄雰囲気中で作製したAg-Co薄膜の構造とGMR効果
- Co/Cu多層膜のGMR効果へ及ぼす成膜雰囲気の清浄性の影響
- Co/Cu多層膜のGMR効果へ及ぼす基板エッチングの影響 (GMR効果の温度依存性)
- 面内高配向Mn-Ir/Ni-Fe交換結合膜の反強磁性層の磁気異方性の温度依存性
- 種々のN濃度を有するα'及びγ'-Fe-N相の合成と磁気モーメント(薄膜)
- 種々のN濃度を有するγ'-Fe-N/Cu多層膜の合成と磁気モーメント
- α'-Fe-B相の合成と磁気特性
- C, N共添加α'-Fe相の合成と結晶磁気異方性
- α'-FeCo-Cスパッタ薄膜の構造と磁気特性 : 合金薄膜
- α'-Fe-Co-Cスパッタ薄膜の構造と磁気特性
- α'-Fe-Cスパッタ薄膜の結晶磁気異方性
- α'-Fe-Cスパッタ薄膜の構造と熱安定性
- トンネル接合膜のTMR特性に及ぼすAl-N絶縁層へのイオン照射の効果
- トンネル接合膜のTMR特性に及ぼすAl-N絶縁層へのイオン照射の効果
- トンネル接合膜のTMR特性に及ぼすAl-N絶縁層へのイオン照射の効果
- Mn_3Ir反強磁性合金による巨大交換バイアス
- Co-Fe/Mn-Ir積層膜の交換磁気異方性の強磁性層組成依存性
- 清浄雰囲気中で作製されたγ-Fe-N/Cu多層膜の構造と磁気モーメント
- α′-(Fe_Ni_x)-N(x=5-30)薄膜の構造と飽和磁化
- α'-(Fe_Ni_x)-N(x=5-30)薄膜の構造と飽和磁化
- 清浄雰囲気中で作製されたFe_N_2薄膜の構造
- (FeCo)-Nマルテンサイト薄膜の合成と熱安定性
- Fe_N_2スパッタ薄膜の微細構造と磁性
- CS-8-1 超高密度ハードディスク用再生ヘッドの材料・プロセス技術(CS-8.次世代情報ストレージ技術の動向,シンポジウムセッション)
- CoFeB/MgO/CoFeB強磁性トンネル接合膜の積層界面制御による障壁膜配向制御とトンネル磁気抵抗効果
- 高濃度オゾン酸化法による金属Al膜の酸化過程とそれを用いて作製した強磁性トンネル接合膜の磁気抵抗効果
- Mn_3Ir/Co-Fe積層膜の巨大交換磁気異方性
- Mn-Ir/Co-Fe積層膜の巨大交換磁気異方性
- 微量酸素添加成膜による巨大磁気抵抗(GMR)/トンネル磁気抵抗(TMR)多層膜の積層界面平坦化
- Mn-Ir/Co-Fe多結晶積層膜の巨大交換磁気異方性
- メカニカルアロイング法によって作製した(Cr-M)O_2粉末のPMR効果
- Mg-Oバリアを用いた多結晶強磁性トンネル接合膜の作製
- 高濃度オゾン酸化法を用いて作製した強磁性トンネル接合膜
- 磁界中熱処理による強磁性/反強磁性多結晶積層膜の交換磁気異方性の可逆的方向制御
- Ni-Fe/Mn-Ni面内高配向膜による反強磁性膜の磁気異方性解析
- 面内高配向Ni-Fe/Mn-Ni交換結合膜の磁気トルク解析から求めた反強磁性層の磁気異方性
- 蒸着法で作製したNi-Fe/Mn-(Ni-Fe)積層膜の構造と交換磁気異方性
- Ni-Fe/Mn-Ni面内高配向膜の構造と交換磁気異方性(II) -反強磁性膜の磁気異方性の磁気トルク解析-
- Ni-Fe/Mn-Ni面内高配向膜の構造と交換磁気異方性(I) -MgO単結晶基板上へのエピタキシャル成長-
- Ni-Fe/Mn_Ni_x積層膜の交換結合に及ぼす結晶配向面変化の影響
- Ni-Fe/Ni-Mn膜の交換結合に及ぼす結晶配向面変化の影響
- Ni-Fe/Ni_Mn_膜の交換結合に及ぼす基板表面クリーニングの効果
- 酸素添加成膜法による金属膜の平坦化とそれによるトンネル接合膜のTMR特性の改善
- Al-N絶縁層を有するトンネル接合膜のTMR特性に及ぼす窒化種の影響
- 強磁性トンネル接合膜用バリア層材料
- 下地層による薄膜面内結晶粒径の増大とマイクロ波励起プラズマによるトンネル障壁膜の形成プロセス
- マイクロ波励起プラズマ窒化法で作成した強磁性トンネル接合(II)
- マイクロ波励起プラズマによる種々の酸化物絶縁膜の形成
- マイクロ波励起プラズマによるAl膜の酸化過程
- 極薄Cr基シード層への酸素暴露による薄膜媒体の結晶粒制御 : 極薄Cr基シードの酸素親和性と粒径微細化効果との関係
- 薄膜媒体における諸特性の極薄Cr基シード層組成依存性 : 極薄Cr基シードの融点及び成長様式と媒体の微細構造との関係
- AFC媒体におけるRuスペーサ層への酸素添加による交換磁界の増大
- NiFeCrシード層がCo/Pd多層膜の結晶成長と磁気特性に与える影響
- 相分離型Pd-X下地によるCo/Pd多層膜の磁気的相互作用低減の検討
- ポリオールプロセスによるfct-FePtの直接合成(その2)
- ポリオールプロセスによるfct-FePtナノ粒子の直接合成(その1)
- 相分離型Pd-SiO下地によるCoB/Pd多層膜垂直媒体の磁気的相互作用の低減
- ポストアニールしたCoCrGePt薄膜媒体におけるCrMnの拡散効果
- 薄膜媒体の微細組織におけるWCrシード層組成依存性
- 基板表面への酸素暴露によるWCrシード層の微細構造制御
- 高Pt濃度CoCrPtB薄膜媒体における高保磁力化に関する検討
- スパッタリングプロセス中の不純物制御による機能性磁性薄膜の微細組織制御
- 極薄高融点WCrシード層による薄膜磁気記録媒体の結晶粒微細化 : 高H^_k媒体における低ノイズ化
- 新規なシード層による薄膜媒体の結晶粒制御 : 極薄島状高融点シード層による結晶粒径の微細化
- 新規なスパッタプロセスによる薄膜媒体の結晶粒制御 : 酸素暴露及びCo共析NiP/Al基板による結晶粒径の微細化
- CoCrPt薄膜磁気記録媒体へのTaとBの添加効果
- 薄膜磁気記録媒体用Co基合金の結晶磁気異方性
- α^-Fe_N_2問題の現状
- 極清浄雰囲気中で作製したNi-Fe/M-lr積層膜の交換磁気異方性 -磁気トルク曲線の反強磁性層厚依存性-
- fct Fe-Ni-N薄膜の構造と飽和磁化
- 清浄雰囲気で作製したα"-Fe_N_2スパッタ薄膜の構造と飽和磁化