清浄雰囲気中で作製したCoNiCrTa薄膜媒体(結晶粒径及び粒径分散への基板バイアスの影響)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 1998-09-01
著者
-
吉村 哲
東北大学大学院工学研究科
-
高橋 研
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
荘司 弘樹
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
菊池 暁
富士通
-
高橋 研
東北大
-
庄司 弘樹
三菱総合研 先端科研
-
荘司 弘樹
東北大・工
-
タム キム・コング
東北大
-
荘司 弘樹
東北大
関連論文
- Fe4N/MgO/CoFeB強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果の温度依存性
- γ-Mn-Ir/Fe-Co-Ni積層膜の交換磁気異方性と強磁性層結晶構造との相関
- mmオーダーの磁区観察可能な広視野縦Kerr効果ベクトル磁区観察装置の開発(媒体,一般)
- 垂直磁気記録媒体のための擬似六方晶薄膜の開発(媒体,一般)
- Hcp Co ナノ粒子群の液相合成と磁気特性
- ポリオール法により合成したFePtナノ粒子の構造と磁気特性
- 「Kerr効果顕微鏡BH-78シリーズ」 : μmオーダー面内/垂直磁区の高明暗比観察のために(新技術・新商品)
- Ni-Fe/Mn-Ir積層膜の交換磁気異方性と微細構造 -Mn-Ir膜の成膜レートとIr量に対する依存性-
- Co/Cu多層膜のGMR効果に及ぼす成膜雰囲気中の残留ガスの影響
- 21pWD-2 窒化鉄薄膜の偏極中性子回折による巨大磁気モーメントの検証(薄膜・人工格子磁性,領域3,磁性,磁気共鳴)
- ポリオールプロセスより合成されたCoPtナノ粒子単層膜の磁気特性および結晶構造
- FePtナノ粒子単層膜の構造と磁気特性
- CoSi合金ターゲットのリアクティブスパッタリングによるCo—SiO2グラニュラー膜の作製プロセスの低ガス圧化
- Co-Si-O素材組換えターゲットにより作製されるグラニュラー薄膜の成膜条件と構造および磁気特性
- 高周波デバイス対応磁性ナノ粒子集合体の形成と動的磁気特性
- 粒子成長速度がFeナノ粒子の飽和磁化に及ぼす影響
- 高周波デバイス対応磁性ナノ粒子/ポリマー複合材料
- 超常磁性ナノ粒子集合体形成とその高周波磁気特性
- ポリオール法で作製したFePtナノ粒子の養生過程における規則化過程
- ポリオール法で作製したFePtナノ粒子の養生過程における規則化過程(ハードディスクドライブ及び一般)
- 化学合成によるL1_0型FePtナノ粒子の規則化過程と磁気特性
- 高保磁力ナノ粒子の化学合成 : 酸化物および金属ナノ粒子について
- Qバンド強磁性共鳴を用いたc面配向CoPtCr合金薄膜の異方性磁界およびg因子の評価
- c面配向擬似六方晶Co_Ge_x薄膜の一軸結晶磁気異方性(記録システムおよび一般)
- c面配向擬似六方晶Co_Ge_x薄膜の一軸結晶磁気異方性(記録システム及び一般)
- グラニュラー型垂直磁気記録媒体における界面制御
- Kerr 効果顕微鏡 : μmオーダの迅速な磁区構造観察と磁区内局所磁化方向の決定
- 機能性薄膜作製のためのスパッタリングターゲット : 技術課題と今後への指針
- 垂直磁気記録媒体用物理的/化学的分離テンプレート中間層の作製
- 垂直磁気記録媒体用物理的/化学的分離テンプレート中間層の作製(磁気記録に関わる材料及びシステムの開発と評価)
- 負の一軸結晶磁気異方性をもつ軟磁性材料を用いた裏打ち膜の提案 : WATEおよびスパイクノイズの同時抑制のために(磁気記録)
- Kerr効果顕微鏡 : μm磁区構造の迅速な観察のために(「磁性に関連したセンシング技術の広がりとその最前線」その2-磁気イメージング-)
- μm磁区観察を可能とする高明暗比縦 Kerr 効果顕微鏡の開発
- サブμm孤立パターンの磁化過程検出を可能とする縦 Kerr 効果磁気履歴曲線検出装置の開発
- ポストアニールを用いた非磁性元素拡散によるCoCrPtエピタキシャル垂直磁気記録媒体の粒間相互作用低減
- 反強磁性的交換結合を有するCo/Pd系多層垂直磁化膜の磁気特性
- めっき裏打ち膜付きAl/NiP基板の開発 : 強磁性層/反強磁性層の作製工程の低減
- 反強磁性/軟磁性積層裏打ち膜における磁化過程の軟磁性膜厚依存性
- Ti/CoCrPt/Ti垂直記録媒体におよぼす in situ anneal の効果
- Ti下地, Tiキャップ層を用いたCoCrPt系 in situ anneal 媒体の磁気特性の向上
- Mn-Si-Cスパッタリング薄膜の構造および磁気特性
- RKKY的層間結合を有する積層裏打ち膜の交換結合磁界の増大
- 新規めっき裏打ち層付Ni-P/Al基板の作製 : 磁気特性並びに単磁区化
- 磁気的層間結合を利用した裏打ち膜の高浮遊磁界耐性化
- FeTaN/CoCrPtB垂直二層膜媒体用中間層の構造制御と薄膜化
- CoCr/C中間層の導入によるCoCrPt系垂直薄膜媒体の高K_u化
- CoCrPtB垂直薄膜媒体の磁気特性の温度変化
- 高角型比・高規格化保磁力CoCr基垂直磁気記録媒体の材料設計
- インラインプロセスにより制御した裏打ちFeTaN薄膜の軟磁気特性ならびにノイズ特性 : 垂直磁気記録媒体
- CoCr基垂直薄膜媒体の回転ヒステリシス損失消失磁界の膜厚依存性 : 垂直磁気記録媒体
- Co_Cr_/極薄C中間層を用いたCoCrPtB垂直磁気記録媒体の磁気特性と微細構造 : 垂直磁気記録媒体
- インラインプロセスにより制御した裏打ちFeTaN薄膜の軟磁気特性ならびにノイズ特性
- c面配向MnSbスパッタ薄膜の垂直磁気異方性の温度特性
- CoCr基垂直薄膜媒体の回転ヒステリシス損失消失磁界に関する考察
- 非磁性CoCr/極薄C中間層を用いたCoCrPtB垂直磁気記憶媒体の磁気特性と微細構造
- 種々の下地・磁性層材料を用いたCoCr基垂直薄膜媒体の初期層厚の定量解析
- スパッタリング法により作製したC面配向MnSb薄膜の平坦化
- 光学的手法による垂直薄膜媒体磁化過程の膜厚方向解析
- CoCr基垂直薄膜媒体におけるコラム状結晶と初期層の磁気特性の分離評価
- Co基垂直薄膜媒体のコラム状晶内結晶磁気異方性 : 垂直トルクの膜厚依存性の解析
- 光学的手法による垂直薄膜媒体磁化過程の膜厚方向解析
- c面高配向MnSb薄膜作製プロセスの低温化
- プレーナ配置式スパッタリング法によるMnSbエピタキシャル薄膜の作製 : エピタキシャル成長に及ぼす基板温度ならびに基板バイアスの効果
- MnSbスパッタ薄膜の成長過程に及ぼす基板バイパス効果
- プレーナ配置式スパッタ法によるMnSbエピタキシャル薄膜の作製 (種々のSi基板上に作製したMnSb薄膜の配向制御)
- スパッタ法ならびに蒸着法で作製したCu薄膜の初期成長過程
- スパッタ法ならびに蒸着法で作製したCu薄膜の初期成長過程-SAWと電気抵抗による観察-
- 強磁性トンネル接合用Al薄膜の酸化過程とマイクロ波励起プラズマ中の酸化種との相関
- マイクロ波励起プラズマ窒化法で作製した強磁性トンネル接合
- RLSA放射マイクロ波励起プラズマのプローブ診断と発光分光分析
- 清浄雰囲気中で作製したCoCrTa媒体における熱擾乱の影響
- 清浄雰囲気中で作製したCoNiCrTa薄膜媒体(結晶粒径及び粒径分散への基板バイアスの影響)
- 異方性及び等方性CoCrTa媒体の磁気的微細構造(磁性結晶粒径・粒間相互作用と磁気クラスター径)
- 清浄雰囲気中で作製したCoNiCrTa薄膜磁気記録媒体(磁気異方性と粒間相互作用へのNi添加効果)
- 清浄雰囲気中で作製したCoCrTaPt薄膜磁気記録媒体
- 極薄WCrシードへの酸素暴露による薄膜媒体の結晶粒制御(WCrシードの初期成長核作用増大による粒径微細化の促進)
- 薄膜磁気記録媒体における諸特性の極薄Cr基シード層組成依存性 : Cr基シード層の成長様式及び融点・酸素親和性と媒体の微細構造との関係(磁気記録媒体)
- トンネル接合膜のTMR特性に及ぼすAl-N絶縁層へのイオン照射の効果
- トンネル接合膜のTMR特性に及ぼすAl-N絶縁層へのイオン照射の効果
- トンネル接合膜のTMR特性に及ぼすAl-N絶縁層へのイオン照射の効果
- 高濃度オゾン酸化法による金属Al膜の酸化過程とそれを用いて作製した強磁性トンネル接合膜の磁気抵抗効果
- Mg-Oバリアを用いた多結晶強磁性トンネル接合膜の作製
- 高濃度オゾン酸化法を用いて作製した強磁性トンネル接合膜
- 酸素添加成膜法による金属膜の平坦化とそれによるトンネル接合膜のTMR特性の改善
- Al-N絶縁層を有するトンネル接合膜のTMR特性に及ぼす窒化種の影響
- 強磁性トンネル接合膜用バリア層材料
- 下地層による薄膜面内結晶粒径の増大とマイクロ波励起プラズマによるトンネル障壁膜の形成プロセス
- マイクロ波励起プラズマ窒化法で作成した強磁性トンネル接合(II)
- マイクロ波励起プラズマによる種々の酸化物絶縁膜の形成
- マイクロ波励起プラズマによるAl膜の酸化過程
- 極薄Cr基シード層への酸素暴露による薄膜媒体の結晶粒制御 : 極薄Cr基シードの酸素親和性と粒径微細化効果との関係
- 薄膜媒体における諸特性の極薄Cr基シード層組成依存性 : 極薄Cr基シードの融点及び成長様式と媒体の微細構造との関係
- AFC媒体におけるRuスペーサ層への酸素添加による交換磁界の増大
- 薄膜媒体の微細組織におけるWCrシード層組成依存性
- 基板表面への酸素暴露によるWCrシード層の微細構造制御
- 高Pt濃度CoCrPtB薄膜媒体における高保磁力化に関する検討
- 極薄高融点WCrシード層による薄膜磁気記録媒体の結晶粒微細化 : 高H^_k媒体における低ノイズ化
- 新規なシード層による薄膜媒体の結晶粒制御 : 極薄島状高融点シード層による結晶粒径の微細化
- 新規なスパッタプロセスによる薄膜媒体の結晶粒制御 : 酸素暴露及びCo共析NiP/Al基板による結晶粒径の微細化
- 清浄雰囲気中で作製したCoNiCrTaPt薄膜磁気記録媒体 (Ni添加による静磁気的な相互作用の抑制)