吉村 哲 | 東北大学大学院工学研究科
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概要
関連著者
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吉村 哲
東北大学大学院工学研究科
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高橋 研
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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高橋 研
東北大学大学院工学研究科
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高橋 研
東北大
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角田 匡清
東北大 大学院工学研究科
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角田 匡清
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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ジャヤプラウィラ D.
東北大学大学院工学研究科電子工学
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Djayaprawira David
東北大学大学院工学研究科電子工学
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Djayaprawira D
東北大学大学院工学研究科電子工学
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高橋 研
東北大学未来科学技術共同研究センター
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三上 正樹
東北大学大学院工学研究科電子工学
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荘司 弘樹
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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庄司 弘樹
三菱総合研 先端科研
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ジャヤプラウィラ D.
東北大学 工学部 電子工学科
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ジャヤプラウィラ D.
東北大学
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角田 匡清
東北大院工
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三上 正樹
東北大
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庄山 敏弘
東北大学工学研究科電子工学専攻
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荘司 弘樹
東北大・工
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庄山 敏弘
東北大
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荘司 弘樹
東北大
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高橋 研
東北大学大学院 工学研究科電子工学専攻
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菊池 暁
富士通
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角田 匡清
東北大学大学院 工学研究科
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小宮山 和弥
富士電機株式会社
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今北 健一
東北大学大学院工学研究科
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野澤 俊晴
東北大
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角田 匡清
東北大工
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堀井 明
アネルバ(株)mmd装置事業部プロセス技術部
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尾形 聡
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻:月島機械(株)真空事業推進部技術グループ
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吉村 哲
日本学術振興会
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タム キム・コング
東北大
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渡辺 義彦
東北大学大学院工学研究科
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成澤 洋祐
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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成澤 洋祐
東北大
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堀井 明
東北大分子病理
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高桑 雄二
東北大科研
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高桑 雄二
東北大学多元物質科学研究所
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高橋 研
東北大学未来共同科学研究センター
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高橋 研
東北大学 未来科学技術共同研究センター
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土門 宏紀
東北大
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角田 匡清
東北大学工学部電子工学科
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高桑 雄二
東北大
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尾形 聡
東北大学工学研究科電子工学専攻
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吉村 哲
東北大学未来科学技術共同研究センター
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荘司 弘樹
東北大学 電子工学科
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堀井 明
東北大 大学院
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高橋 研
東北大学
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高橋 研
東北大学工学研究科電子工学専攻
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大野 玲
三菱化学株式会社
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ジャヤプラウィラ D.
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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尹 大植
東北大学工学研究科電子工学専攻
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岩田 昇
東北大学
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タム キム
東北大
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三ツ谷 晴仁
富士電機
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片山 慎也
三菱化学株式会社
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Djayaprawira D.
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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二上 正樹
コマグ(株)技術開発統括部
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KONG Tham
東北大
著作論文
- 強磁性トンネル接合用Al薄膜の酸化過程とマイクロ波励起プラズマ中の酸化種との相関
- マイクロ波励起プラズマ窒化法で作製した強磁性トンネル接合
- RLSA放射マイクロ波励起プラズマのプローブ診断と発光分光分析
- 清浄雰囲気中で作製したCoCrTa媒体における熱擾乱の影響
- 清浄雰囲気中で作製したCoNiCrTa薄膜媒体(結晶粒径及び粒径分散への基板バイアスの影響)
- 異方性及び等方性CoCrTa媒体の磁気的微細構造(磁性結晶粒径・粒間相互作用と磁気クラスター径)
- 清浄雰囲気中で作製したCoNiCrTa薄膜磁気記録媒体(磁気異方性と粒間相互作用へのNi添加効果)
- 清浄雰囲気中で作製したCoCrTaPt薄膜磁気記録媒体
- 極薄WCrシードへの酸素暴露による薄膜媒体の結晶粒制御(WCrシードの初期成長核作用増大による粒径微細化の促進)
- 薄膜磁気記録媒体における諸特性の極薄Cr基シード層組成依存性 : Cr基シード層の成長様式及び融点・酸素親和性と媒体の微細構造との関係(磁気記録媒体)
- トンネル接合膜のTMR特性に及ぼすAl-N絶縁層へのイオン照射の効果
- トンネル接合膜のTMR特性に及ぼすAl-N絶縁層へのイオン照射の効果
- トンネル接合膜のTMR特性に及ぼすAl-N絶縁層へのイオン照射の効果
- 高濃度オゾン酸化法による金属Al膜の酸化過程とそれを用いて作製した強磁性トンネル接合膜の磁気抵抗効果
- Mg-Oバリアを用いた多結晶強磁性トンネル接合膜の作製
- 高濃度オゾン酸化法を用いて作製した強磁性トンネル接合膜
- 酸素添加成膜法による金属膜の平坦化とそれによるトンネル接合膜のTMR特性の改善
- Al-N絶縁層を有するトンネル接合膜のTMR特性に及ぼす窒化種の影響
- 強磁性トンネル接合膜用バリア層材料
- 下地層による薄膜面内結晶粒径の増大とマイクロ波励起プラズマによるトンネル障壁膜の形成プロセス
- マイクロ波励起プラズマ窒化法で作成した強磁性トンネル接合(II)
- マイクロ波励起プラズマによる種々の酸化物絶縁膜の形成
- マイクロ波励起プラズマによるAl膜の酸化過程
- 極薄Cr基シード層への酸素暴露による薄膜媒体の結晶粒制御 : 極薄Cr基シードの酸素親和性と粒径微細化効果との関係
- 薄膜媒体における諸特性の極薄Cr基シード層組成依存性 : 極薄Cr基シードの融点及び成長様式と媒体の微細構造との関係
- AFC媒体におけるRuスペーサ層への酸素添加による交換磁界の増大
- 薄膜媒体の微細組織におけるWCrシード層組成依存性
- 基板表面への酸素暴露によるWCrシード層の微細構造制御
- 高Pt濃度CoCrPtB薄膜媒体における高保磁力化に関する検討
- 極薄高融点WCrシード層による薄膜磁気記録媒体の結晶粒微細化 : 高H^_k媒体における低ノイズ化
- 新規なシード層による薄膜媒体の結晶粒制御 : 極薄島状高融点シード層による結晶粒径の微細化
- 新規なスパッタプロセスによる薄膜媒体の結晶粒制御 : 酸素暴露及びCo共析NiP/Al基板による結晶粒径の微細化
- 清浄雰囲気中で作製したCoNiCrTaPt薄膜磁気記録媒体 (Ni添加による静磁気的な相互作用の抑制)