高橋 研 | 東北大学大学院工学研究科
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概要
関連著者
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高橋 研
東北大学大学院工学研究科
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高橋 研
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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高橋 研
東北大
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角田 匡清
東北大 大学院工学研究科
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角田 匡清
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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高橋 研
東北大学未来科学技術共同研究センター
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斉藤 伸
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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吉村 哲
東北大学大学院工学研究科
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角田 匡清
東北大院工
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ジャヤプラウィラ D.
東北大学大学院工学研究科電子工学
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荘司 弘樹
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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庄司 弘樹
三菱総合研 先端科研
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角田 匡清
東北大工
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高橋 研
東北大学未来共同科学研究センター
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小川 智之
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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小川 智之
東北大院工
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小川 智之
東北大工
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ジャヤプラウィラ D.
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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高橋 研
東北大学工学研究科電子工学専攻
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角田 匡清
東北大学工学部電子工学科
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高橋 大輔
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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ジャヤデワン B.
東北大・環境科学
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三浦 聡
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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長谷川 大二
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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高橋 研
東北大学工学部電子工学専攻
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須永 和晋
東北大工
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土門 宏紀
東北大
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須永 和晋
東北大学大学院工学研究科
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三浦 聡
東北大
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芦沢 好人
東北大
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水野 幹久
ソニー株式会社
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佐々木 勇一
ソニー株式会社
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屋上 公二郎
東北大
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チナサミー C.
東北大院環境
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高橋 研
東北大学 未来科学技術共同研究センター
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田路 和幸
東北大学大学院環境科学研究科
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目黒 栄
ネオアーク株式会社
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赤羽 浩一
ネオアーク株式会社
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ジャヤデワン バラチャンドラン
東北大学大学院環境科学研究科
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西川 和宏
東北大
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堀井 明
アネルバ(株)mmd装置事業部プロセス技術部
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高橋 研
東北大院工
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佐藤 王高
同和鉱業株式会社
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久野 誠一
同和鉱業株式会社
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張 其武
東北大学多元物質科学研究所
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田中 啓太
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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佐々木 晋五
一関工業高等専門学校
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芝 隆司
(株)日立メディアエレクトロニクス横浜事業所
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佐藤 王高
同和鉱業
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篠田 弘造
東北大・環境
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日向 慎太朗
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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渡辺 誠
東北大学大学院歯学研究科加齢歯科学分野
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田路 和幸
東北大院環境
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宮崎 照宣
東北大学原子分子材料科学高等研究機構(WPI)
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堀井 明
東北大分子病理
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佐藤 徹哉
慶大理工
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藏 裕彰
東北大工
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高桑 雄二
東北大科研
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宮内 貞一
ソニー
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YU A.
ソニー(株)RMカンパニー
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小川 智之
東北大学工学研究科電子工学専攻
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長谷川 大二
東北大院工
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ジャヤデワン B.
東北大院環境
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佐藤 徹哉
慶大
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高橋 研
東北大工
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廣井 孝介
慶大理工
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小熊 博
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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菊池 暁
富士通
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柴田 雅博
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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高桑 雄二
東北大学多元物質科学研究所
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高橋 有紀子
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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高橋 宏和
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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井上 誠
ソニー株式会社
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原 寛
帝人
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浦川 潔
東北大学大学院環境科学研究科
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浦川 潔
東北大・環境
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柳沢 龍一
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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仲 真美子
東北大学大学院工学研究科
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星 文和
東北大学大学院工学研究科電子工学
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芦沢 好人
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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ジャヤプラウィラ D.D.
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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斉藤 伸
学振特別研究員
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庄司 弘樹
東北大
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井上 誠
ソニー(株)
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伊藤 友教
現住所
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芦澤 好人
日本学術振興会:東北大学未来科学技術共同研究センター
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高桑 雄二
東北大
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宮崎 照宣
東北大 原子分子材料科学高等研究機構
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武田 全康
原子力機構J-PARCセ
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磯上 慎二
東北大院工
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岡本 昭夫
大阪府立産業技術総合研究所
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三俣 千春
日立金属生産システム研究所
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高橋 宏和
東北大工
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宮崎 照宣
東北大 工
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田中 俊一郎
科学技術振興事業団 田中固体融合プロジェクト
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加倉井 和久
原子力機構
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大熊 春夫
理化学研究所
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平井 健一
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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林 智広
早稲田大学各務記念材料技術研究所
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宮崎 照宣
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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草野 英二
金沢工業大学
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駒崎 洋亮
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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磯上 慎二
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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陳 哲勤
國立彰化師範大學大学院物理学科
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藤村 喜久郎
鳥取大学工学部
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鈴木 一弘
川崎製鉄(株)技術研究所
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高橋 夏木
日本真空技術(株)産業機器事業部
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大久保 治
日本真空技術(株)産業機器事業部
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中村 哲也
理研
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中村 哲也
高輝度光科学研究センター
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水野 幹久
ソニー(株)RMカンパニー
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佐々木 勇一
ソニー(株)RMカンパニー
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宮内 貞一
ソニー(株)RMカンパニー
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柿部 策
東北大学工学研究科電子工学専攻
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田中 啓太
東北大院工
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宮内 貞一
ソニー株式会社
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山本 陽一
日本電子株式会社
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石川 順三
京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻
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福谷 克之
東京大学生産技術研究所
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張 小威
高エネルギー加速器研究機構
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大野 玲
三菱化学株式会社
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加地 博子
岡山理科大学工学部
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吉森 昭夫
岡山理科大学
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岸本 俊二
高エネルギー加速器機構・物質構造科学研究所
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岡野 達雄
東京大学生産技術研究所
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張 小威
高エネルギー加速器研究機構物質構造科学研究所
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篠田 弘造
東北大学 多元物質科学研究所
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田中 寿郎
愛媛大学大学院理工学研究科物質生命工学専攻
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田中 寿郎
東北大工
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田中 寿郎
愛媛大学大学院理工学研究科
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平山 孝人
学習院大学理学部
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安 東秀
早稲田大学応用物理学科
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長谷川 大二
東北大工
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YU A.
ソニー株式会社
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近藤 洋文
ソニー株式会社
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太田 一平
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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関 整爾
日本真空技術株式会社
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北河 勝
金沢工業大学 高度材料科学研究開発センター
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佐藤 彰繁
金沢工業大学 高度材料科学研究開発センター
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櫻井 利夫
東北大学金属材料研究所
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岸田 悟
鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻
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道園 真一郎
高エネルギー加速器研究機構
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大谷 茂樹
科学技術庁 無機材質研究所
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永山 勝也
Miyagi National College Of Technology
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田路 和幸
東北大学 大学院 環境科学研究科
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佐々木 勇一
ソニー(株)
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近藤 洋文
ソニー
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井藤 浩志
早稲田大学応用物理学科
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川崎 豊誠
早稲田大学応用物理学科
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渡部 徹
鳥取大学工学部電気電子工学科
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大島 忠平
早稲田大学応用物理学科
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小川 倉一
大阪府立産業技術総合研究所
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桜井 誠
分子科学研究所
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中山 正昭
大阪市立大学大学院 工学研究科電子情報系専攻 応用物理学講座
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岩本 和之
鳥取大学工学部
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安達 俊
学習院大学理学部
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瀬戸 亨
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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YANG H.
東北大学未来科学技術共同研究センター(NICHe)
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YANG Haitao
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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JEYADEVAN Balachandran
東北大学大学院環境科学研究科
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YANG Haitao
Department of Electronic Engineering, Graduate School of Engineering, Tohoku University
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JEYADEVAN Balachandran
Graduate School of Environmental Studies, Tohoku University
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ジャヤデワン B.
東北大学
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吉竹 正明
大阪府立産業技術総合研究所
-
野坂 俊紀
大阪府立産業技術総合研究所
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寺井 真之
早稲田大学
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羽山 彰
学習院大学理学部
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小林 信一
埼玉大学工学部電気電子システム工学科
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樋之津 崇
東北大
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上野 友典
日立金属株式会社冶金研究所
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伊藤 聡
ネオアーク株式会社
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佐藤 好浩
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
八田 芳仁
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
早川 和延
北海道大学触媒化学研究センター
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正木 満博
高輝度光科学研究センター
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中島 秀文
玉川大学工学部
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酒井 創
福島女子短期大学
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小池 卓郎
玉川大学工学部
-
野口 正俊
玉川大学工学部
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小越 康弘
福島女子短期大学
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坂井 大輔
早稲田大学大学院
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猪狩 佳幸
東北大学科学計測研究所
-
石塚 真治
東北大学科学計測研究所
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峰 哲朗
東北大学科学計測研究所
-
高岡 毅
東北大学科学計測研究所
-
高見 知秀
東北大学科学計測研究所
-
楠 勲
東北大学科学計測研究所
-
後藤 康仁
京都大学大学院工学研究科
-
市ノ川 竹男
早稲田大学
-
一村 信吾
電子技術総合研究所
-
芦野 雅一
東北大学大学院工学研究科
-
三俣 千春
日立金属(株)先端エレクトロニクス研究所
-
川田 洋揮
(株)日立ハイテクノロジーズ ナノテクノロジー製品事業本部研究開発本部
-
斉藤 一也
日本真空(株)筑波超材研
-
塩川 善郎
JRCAT(アトムテクノロジー研究体)-ATP
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高橘 宏和
東北大工
-
大山 博久
東北大学大学院工学研究科
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渡邉 義彦
東北大学大学院工学研究科
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国分 清秀
電子技術総合研究所
-
小林 和彦
玉川大学工学部
著作論文
- Fe4N/MgO/CoFeB強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果の温度依存性
- γ-Mn-Ir/Fe-Co-Ni積層膜の交換磁気異方性と強磁性層結晶構造との相関
- mmオーダーの磁区観察可能な広視野縦Kerr効果ベクトル磁区観察装置の開発(媒体,一般)
- 垂直磁気記録媒体のための擬似六方晶薄膜の開発(媒体,一般)
- Hcp Co ナノ粒子群の液相合成と磁気特性
- ポリオール法により合成したFePtナノ粒子の構造と磁気特性
- 「Kerr効果顕微鏡BH-78シリーズ」 : μmオーダー面内/垂直磁区の高明暗比観察のために(新技術・新商品)
- 21pWD-2 窒化鉄薄膜の偏極中性子回折による巨大磁気モーメントの検証(薄膜・人工格子磁性,領域3,磁性,磁気共鳴)
- ポリオールプロセスより合成されたCoPtナノ粒子単層膜の磁気特性および結晶構造
- FePtナノ粒子単層膜の構造と磁気特性
- CoSi合金ターゲットのリアクティブスパッタリングによるCo—SiO2グラニュラー膜の作製プロセスの低ガス圧化
- Co-Si-O素材組換えターゲットにより作製されるグラニュラー薄膜の成膜条件と構造および磁気特性
- 高周波デバイス対応磁性ナノ粒子集合体の形成と動的磁気特性
- 粒子成長速度がFeナノ粒子の飽和磁化に及ぼす影響
- 高周波デバイス対応磁性ナノ粒子/ポリマー複合材料
- 超常磁性ナノ粒子集合体形成とその高周波磁気特性
- ポリオール法で作製したFePtナノ粒子の養生過程における規則化過程
- ポリオール法で作製したFePtナノ粒子の養生過程における規則化過程(ハードディスクドライブ及び一般)
- 化学合成によるL1_0型FePtナノ粒子の規則化過程と磁気特性
- 高保磁力ナノ粒子の化学合成 : 酸化物および金属ナノ粒子について
- Qバンド強磁性共鳴を用いたc面配向CoPtCr合金薄膜の異方性磁界およびg因子の評価
- c面配向擬似六方晶Co_Ge_x薄膜の一軸結晶磁気異方性(記録システムおよび一般)
- c面配向擬似六方晶Co_Ge_x薄膜の一軸結晶磁気異方性(記録システム及び一般)
- グラニュラー型垂直磁気記録媒体における界面制御
- インラインプロセスにより制御した裏打ちFeTaN薄膜の軟磁気特性ならびにノイズ特性 : 垂直磁気記録媒体
- CoCr基垂直薄膜媒体の回転ヒステリシス損失消失磁界の膜厚依存性 : 垂直磁気記録媒体
- Co_Cr_/極薄C中間層を用いたCoCrPtB垂直磁気記録媒体の磁気特性と微細構造 : 垂直磁気記録媒体
- c面配向MnSbスパッタ薄膜の垂直磁気異方性の温度特性
- スパッタリング法により作製したC面配向MnSb薄膜の平坦化
- 光学的手法による垂直薄膜媒体磁化過程の膜厚方向解析
- CoCr基垂直薄膜媒体におけるコラム状結晶と初期層の磁気特性の分離評価
- Co基垂直薄膜媒体のコラム状晶内結晶磁気異方性 : 垂直トルクの膜厚依存性の解析
- プレーナ配置式スパッタリング法によるMnSbエピタキシャル薄膜の作製 : エピタキシャル成長に及ぼす基板温度ならびに基板バイアスの効果
- MnSbスパッタ薄膜の成長過程に及ぼす基板バイパス効果
- プレーナ配置式スパッタ法によるMnSbエピタキシャル薄膜の作製 (種々のSi基板上に作製したMnSb薄膜の配向制御)
- スパッタ法ならびに蒸着法で作製したCu薄膜の初期成長過程
- Crシード上に蒸着したAg薄膜の初期成長過程における構造変化
- Ag蒸着膜の初期成長過程における連続化膜厚と二次元化膜厚
- CoFeB/MgO/CoFeB強磁性トンネル接合におけるMgO障壁層の結晶配向性制御および巨大トンネル磁気抵抗効果の導出
- 強磁性トンネル接合用Al薄膜の酸化過程とマイクロ波励起プラズマ中の酸化種との相関
- マイクロ波励起プラズマ窒化法で作製した強磁性トンネル接合
- RLSA放射マイクロ波励起プラズマのプローブ診断と発光分光分析
- マイクロ波励起プラズマ酸化法で作製した強磁性トンネル接合 : TMR効果に及ぼす希ガスの影響
- 高密度低電子温度プラズマを用いて作製した強磁性トンネル接合
- スパッタリング法によるMnSbエピタキシャル薄膜の作製 : 荷電粒子のエピタキシャル成長への影響
- スパッタリング法によるMnSbエピタキシャル膜の作製 : Si基板上に作製したMnSb薄膜の配向制御
- MnSbPt薄膜の誘電率テンソルと磁気光学効果
- MnSbPt薄膜の微細構造と磁気光学効果
- mmオーダーの磁区観察可能な広視野縦Kerr効果べクトル磁区観察装置の開発(媒体,一般)
- コリメーターを用いて作製したFe_N_2スパッタ薄膜の構造と飽和磁化
- 垂直磁気記録媒体のための擬似六方晶薄膜の開発(媒体,一般)
- 今, 改めて問われる成膜プロセスの質
- 今,改めて問われる成膜プロセスの質
- クリーン化プロセスによる高密度磁気記録媒体の作製
- クリーン化プロセスによる高密度磁気記録媒体の作製
- 高密度薄膜磁気記録媒体の物理
- ウルトラクリーンプロセスと微細構造制御 : 薄膜媒体並びに薄膜ヘッド材料を例として
- スパッタリング雰囲気の清浄性の超高密度磁気記録デバイス用薄膜の磁気性への影響
- (2) スパッタプロセスの超清浄化と薄膜の微細組織 : ガス不純物の組織への影響(主題「スパッタ法による薄膜の作製・評価と素材」)(特定テーマシンポジウム)(素材工学研究会記事)
- スパッタリング雰囲気の清浄性の磁気特性への影響
- 超高密度薄膜磁気記録媒体 -次世代ハードディスクと真空成膜装置-
- ウルトラクリーンプロセスと薄膜磁気記録媒体-ハードディスクを例として-
- BCC固溶体下地層上に作製したCo/Cu多層膜のGMR効果の耐熱性
- 微量酸素添加スパッタ雰囲気中で作製したCo-Fe/Cu多層膜のGMR効果
- Co/Cu多層膜のGMR効果に及ぼすFe-Si下地層の影響
- 成膜雰囲気制御によるCo-Fe/Cu多層膜のGMR効果の高感度化
- 結晶配向面の異なるMn-Ir/Co-Feエピタキシャル交換結合膜の磁化過程観察
- 極薄WCrシードへの酸素暴露による薄膜媒体の結晶粒制御(WCrシードの初期成長核作用増大による粒径微細化の促進)
- 高周波デバイス対応磁性ナノ粒子集合体の形成と動的磁気特性
- 薄膜磁気記録媒体における諸特性の極薄Cr基シード層組成依存性 : Cr基シード層の成長様式及び融点・酸素親和性と媒体の微細構造との関係(磁気記録媒体)
- BCC固溶体下地層上に作製したCo/Cu多層膜のGMR効果の耐熱性
- BCC固溶体下地層上に作製したCo/Cu多層膜の構造とGMR効果
- Fe-Si下地層上に作製したCo/Cu多層膜の面内結晶粒径の増大
- Co/Cu多層膜のGMR効果の耐熱性に及ぼす成膜雰囲気清浄性の効果
- M-Co(M=Au, Ag, Cu)グラニュラー薄膜の構造と磁気特性 -固容体形成に及ぼす成膜雰囲気中不純物の影響-
- 極清浄雰囲気中で作製したAg-Co薄膜の構造とGMR効果 : Cu-Co薄膜との比較
- 面内高配向Mn-Ir/Ni-Fe交換結合膜の反強磁性層の磁気異方性の温度依存性
- 種々のN濃度を有するα'及びγ'-Fe-N相の合成と磁気モーメント(薄膜)
- 種々のN濃度を有するγ'-Fe-N/Cu多層膜の合成と磁気モーメント
- α'-Fe-X(X=B, C, N)相の形成能と熱安定性
- α'-Fe-B相の合成と磁気特性
- α'-FeCo-Cスパッタ薄膜の構造と磁気特性 : 合金薄膜
- トンネル接合膜のTMR特性に及ぼすAl-N絶縁層へのイオン照射の効果
- トンネル接合膜のTMR特性に及ぼすAl-N絶縁層へのイオン照射の効果
- トンネル接合膜のTMR特性に及ぼすAl-N絶縁層へのイオン照射の効果
- Mn_3Ir反強磁性合金による巨大交換バイアス
- Co-Fe/Mn-Ir積層膜の交換磁気異方性の強磁性層組成依存性
- α′-(Fe_Ni_x)-N(x=5-30)薄膜の構造と飽和磁化
- CS-8-1 超高密度ハードディスク用再生ヘッドの材料・プロセス技術(CS-8.次世代情報ストレージ技術の動向,シンポジウムセッション)
- CoFeB/MgO/CoFeB強磁性トンネル接合膜の積層界面制御による障壁膜配向制御とトンネル磁気抵抗効果
- 高濃度オゾン酸化法による金属Al膜の酸化過程とそれを用いて作製した強磁性トンネル接合膜の磁気抵抗効果
- Mn_3Ir/Co-Fe積層膜の巨大交換磁気異方性
- Mn-Ir/Co-Fe積層膜の巨大交換磁気異方性
- 微量酸素添加成膜による巨大磁気抵抗(GMR)/トンネル磁気抵抗(TMR)多層膜の積層界面平坦化
- Mn-Ir/Co-Fe多結晶積層膜の巨大交換磁気異方性
- メカニカルアロイング法によって作製した(Cr-M)O_2粉末のPMR効果
- Mg-Oバリアを用いた多結晶強磁性トンネル接合膜の作製
- 高濃度オゾン酸化法を用いて作製した強磁性トンネル接合膜
- 磁界中熱処理による強磁性/反強磁性多結晶積層膜の交換磁気異方性の可逆的方向制御
- Ni-Fe/Mn-Ni面内高配向膜による反強磁性膜の磁気異方性解析
- 蒸着法で作製したNi-Fe/Mn-(Ni-Fe)積層膜の構造と交換磁気異方性
- 面内高配向Ni-Fe/Mn-Ni交換結合膜の磁気トルク解析から求めた反強磁性層の磁気異方性
- 対向ターゲット式スパッタ法によるMgO単結晶基板上へのNi-Fe/Mn-Ni積層膜のエピタキシャル成長
- 酸素添加成膜法による金属膜の平坦化とそれによるトンネル接合膜のTMR特性の改善
- Al-N絶縁層を有するトンネル接合膜のTMR特性に及ぼす窒化種の影響
- 強磁性トンネル接合膜用バリア層材料
- 下地層による薄膜面内結晶粒径の増大とマイクロ波励起プラズマによるトンネル障壁膜の形成プロセス
- マイクロ波励起プラズマ窒化法で作成した強磁性トンネル接合(II)
- マイクロ波励起プラズマによる種々の酸化物絶縁膜の形成
- マイクロ波励起プラズマによるAl膜の酸化過程
- 極薄Cr基シード層への酸素暴露による薄膜媒体の結晶粒制御 : 極薄Cr基シードの酸素親和性と粒径微細化効果との関係
- 薄膜媒体における諸特性の極薄Cr基シード層組成依存性 : 極薄Cr基シードの融点及び成長様式と媒体の微細構造との関係
- AFC媒体におけるRuスペーサ層への酸素添加による交換磁界の増大
- NiFeCrシード層がCo/Pd多層膜の結晶成長と磁気特性に与える影響
- 相分離型Pd-X下地によるCo/Pd多層膜の磁気的相互作用低減の検討
- ポリオールプロセスによるCoPtRuナノ磁性粒子の合成
- ポリオールプロセスによるfct-FePtの直接合成(その2)
- ポリオールプロセスによるfct-FePtナノ粒子の直接合成(その1)
- 相分離型Pd-SiO下地によるCoB/Pd多層膜垂直媒体の磁気的相互作用の低減
- ポストアニールしたCoCrGePt薄膜媒体におけるCrMnの拡散効果
- 薄膜媒体の微細組織におけるWCrシード層組成依存性
- 基板表面への酸素暴露によるWCrシード層の微細構造制御
- 高Pt濃度CoCrPtB薄膜媒体における高保磁力化に関する検討
- スパッタリングプロセス中の不純物制御による機能性磁性薄膜の微細組織制御
- 極薄高融点WCrシード層による薄膜磁気記録媒体の結晶粒微細化 : 高H^_k媒体における低ノイズ化
- メカニカルアロイング法によって作製した(Cr-M)O_2粉末のPMR効果(薄膜)
- メカニカルアロイング法によって作製したCrO_2粉末のPMR効果
- 新規なシード層による薄膜媒体の結晶粒制御 : 極薄島状高融点シード層による結晶粒径の微細化
- 新規なスパッタプロセスによる薄膜媒体の結晶粒制御 : 酸素暴露及びCo共析NiP/Al基板による結晶粒径の微細化
- CoCrPt薄膜磁気記録媒体へのTaとBの添加効果
- 薄膜磁気記録媒体用Co基合金の結晶磁気異方性
- fct Fe-Ni-N薄膜の構造と飽和磁化
- 清浄雰囲気で作製したα"-Fe_N_2スパッタ薄膜の構造と飽和磁化
- 結晶配向面の異なるMn-Ir/Co-Feエピタキシャル積層膜の交換磁気異方性
- Mn-Ir/Co-Fe多結晶積層膜の長時間熱処理による交換磁気異方性の変化
- Mn-Ir/Co-Fe多結晶積層膜における反強磁性粒子の磁気異方性評価
- PtMn/Co-Fe積層膜の交換磁気異方性と反強磁性層の規則化度との相関
- 真空熱処理によるFeナノ粒子基バルクの作製と軟磁気特性の発現
- 磁気双極子相互作用がFeナノ粒子集合体の磁気特性に及ぼす影響
- 清浄雰囲気中で作製したCoNiCrTaPt薄膜磁気記録媒体 (Ni添加による静磁気的な相互作用の抑制)
- 斜め入射成膜した Ru 中間層によるグラニュラ型垂直磁気記録媒体の非磁性スペーシングの低減
- サマリー・アブストラクト
- 巨大面内結晶粒構造を有する下部電極膜を用いた強磁性トンネル接合膜の構造と磁気輸送特性
- 下地層ならびに超高真空中加熱プロセスによるCu薄膜の面内結晶粒径の増大と表面平坦化
- 超高真空中加熱処理による金属薄膜の粒成長と平坦化(薄膜)
- BCC固溶体下地層上に作製したCu膜の面内結晶粒径の増大
- 赤外線加熱処理による金属薄膜の巨大粒子化と高平坦化
- スピンバルブ膜の自由層磁化過程に及ぼす層間結合磁界の影響 : 磁気抵抗効果・交換結合
- スピンバルブ膜の自由層磁化過程に及ぼす層間結合磁界の影響
- スピンバルブ膜の構造と磁気特性に影響を及ぼすTa/Ni-Fe下地層の成長過程
- スピンバルブ膜の構造と磁気特性に及ぼす下地層の影響 : In-situ STMによるTa/Ni-Fe下地層表面形態の評価
- 超清浄雰囲気下で作製したSV膜における強磁性的層間結合の低減
- 強磁性/反強磁性積層膜の交換磁気異方性 : 反強磁性層の磁気異方性とその役割
- [招待講演]金属磁性薄膜の微細組織制御プロセス : 超高密度ストレージ用薄膜の粒径制御
- [招待講演]金属磁性薄膜の微細組織制御プロセス : 超高密度ストレージ用薄膜の粒径制御
- 超高密度ストレージ用磁性薄膜成膜技術の動向と展望 : ウルトラクリーンプロセス下での微細組織・界面制御
- 高性能スピンバルブの極薄膜化に対するクリーンプロセスの意義
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- 21aPS-86 強い磁気双極子相互作用を有するα-Fe粒子集合体のスピングラス的磁気挙動II(21aPS 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
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- 清浄零囲気中で作製したNi-Fe/Cu多層スパッタ膜の構造とGMR効果
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