庄司 弘樹 | 三菱総合研 先端科研
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概要
関連著者
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庄司 弘樹
三菱総合研 先端科研
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荘司 弘樹
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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高橋 研
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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高橋 研
東北大
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荘司 弘樹
東北大・工
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荘司 弘樹
東北大
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高橋 研
東北大学大学院工学研究科
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斉藤 伸
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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河野 有紀子
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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菊池 暁
富士通
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斉藤 伸
東北大・工
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高橋 研
東北大学大学院 工学研究科電子工学専攻
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吉村 哲
東北大学大学院工学研究科
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高橋 有紀子
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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河野 有紀子
東北大・工
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高橋 有紀子
東北大
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渡辺 誠
東北大学大学院歯学研究科加齢歯科学分野
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斉藤 伸
東北大学大学院工学研究科 電子工学専攻
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須永 和晋
東北大工
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芦沢 好人
東北大
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須永 和晋
東北大学大学院工学研究科
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ジャヤプラウィラ D.
東北大学大学院工学研究科電子工学
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小熊 博
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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原 寛
帝人
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高橋 研
東北大学 未来科学技術共同研究センター
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タム キム・コング
東北大
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加藤 昌史
東北大
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荘司 弘樹
東北大学 電子工学科
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Djayaprawira David
東北大学大学院工学研究科電子工学
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三上 正樹
東北大学大学院工学研究科電子工学
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ジャヤプラウィラ D.
東北大学 工学部 電子工学科
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Djayaprawira D
東北大学大学院工学研究科電子工学
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高橋 研
東北大学
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斉藤 伸
東北大学大学院 工学研究科
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ジャヤプラウィラ D.
東北大学
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堀井 明
アネルバ(株)mmd装置事業部プロセス技術部
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渡辺 誠
東北大
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高橋 研
東北大・工
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小熊 博
東北大学電気通信研究所
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宮崎 照宣
東北大学原子分子材料科学高等研究機構(WPI)
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堀井 明
東北大分子病理
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小熊 博
東北大学 電気通信研究所
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ジャヤプラウィラ D.
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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芦沢 好人
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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斉藤 伸
学振特別研究員
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庄司 弘樹
東北大
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宮崎 照宣
東北大 原子分子材料科学高等研究機構
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工藤 大弥
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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許 文彬
東北大
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菊池 暁
東北大学大学院工学研究科
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原 寛
東北大学大学院工学研究科
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三上 正樹
東北大
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門脇 静穂
東北大学工学研究科電子工学専攻
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堀井 明
東北大 大学院
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門脇 静穂
東北大
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渡辺 誠
東北大学大学院歯学研究科加齢歯科学
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宮崎 照宣
東北大 工
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宮崎 照宣
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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高橋 研
東北大学工学研究科電子工学専攻
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斉藤 伸
東北大学医学部整形外科
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三浦 尚人
東北大・工
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渡辺 誠
東北大学
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土門 宏紀
東北大
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高橋 秀行
東北大・工
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斉藤 伸
東北大学工学部電子工学科
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渡辺 誠
東北大学工学部電子工学科
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荘司 弘樹
東北大学工学部電子工学科
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白石 一雄
東北大
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菊池 暁
東北大
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原 寛
東北大
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岩田 昇
東北大学
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タム キム
東北大
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三ツ谷 晴仁
富士電機
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中井 淳
神戸製鋼所
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島津 武仁
東北大 工
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梨子 公貴
東北大・工
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Djayaprawira D.
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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二上 正樹
コマグ(株)技術開発統括部
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三上 正樹
旭コマグ(株)
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コング T.
東北大
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島津 武仁
東北大学 電気通信研究所
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加藤 昌史
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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門脇 静穂
東北大 工
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KONG Tham
東北大
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久慈 智子
東北大学
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奥山 健太郎
東北大学
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奥山 健太郎
東北大学工学部
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久慈 智子
東北大学工学部
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小森 美典
東北大
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宮崎 照宣
東北大学大学院 工学研究科
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島津 武仁
東北大学 学際科学国際高等研究センター
著作論文
- スパッタリング法により作製したC面配向MnSb薄膜の平坦化
- c面高配向MnSb薄膜作製プロセスの低温化
- プレーナ配置式スパッタリング法によるMnSbエピタキシャル薄膜の作製 : エピタキシャル成長に及ぼす基板温度ならびに基板バイアスの効果
- MnSbスパッタ薄膜の成長過程に及ぼす基板バイパス効果
- プレーナ配置式スパッタ法によるMnSbエピタキシャル薄膜の作製 (種々のSi基板上に作製したMnSb薄膜の配向制御)
- スパッタリング法によるMnSbエピタキシャル薄膜の作製 : 荷電粒子のエピタキシャル成長への影響
- MnSbPt薄膜の微細構造と磁気光学効果 : PtMnSb相の析出・再結晶と磁気光学構造の波長シフト
- スパッタリング法によるMnSbエピタキシャル薄膜の作製
- MnSbPt薄膜の微細構造と磁気光学効果(PtMnSb相の析出・再結晶と磁気光学構造の波長シフト)
- スパッタリング法によるMnSbエピタキシャル膜の作製 : Si基板上に作製したMnSb薄膜の配向制御
- MnSbPt薄膜の誘電率テンソルと磁気光学効果
- MnSbPt薄膜の微細構造と磁気光学効果
- MnSbM(M=Pt, Au, Pd)薄膜の構造および磁気光学特性
- MnSbPt薄膜の光学および磁気光学効果
- MnSbPt薄膜の微細構造と磁気光学効果
- スパッタリング法によるMnSbエピタキシャル膜の作製 (Si基板上に作製したMnSb薄膜の配向制御)
- MnSbPt薄膜の構造と巨大磁気光学効果 (磁気光学・光磁気記録)
- MnSbPd薄膜の構造および磁気光学特性
- 巨大磁気力-回転角を有するMnSbPt薄膜の微細構造
- MnSbPt薄膜の光学および磁気光学特性
- コリメーターを用いて作製したFe_N_2スパッタ薄膜の構造と飽和磁化
- コリメーターを用いて作製したFe_N_2スパッタ薄膜の構造と飽和磁化
- 6)クリーン化プロセスによる高密度磁気記録媒体の作製(画像情報記録研究会)
- 清浄雰囲気中で作製したCo基薄膜媒体の記録再生特性(結晶粒径と静磁気的相互作用)
- クリーン化プロセスによる高密度磁気記録媒体の作製
- クリーン化プロセスによる高密度磁気記録媒体の作製
- 清浄雰囲気中で作製したCoCrTa媒体における熱擾乱の影響
- 清浄雰囲気中で作製したCoNiCrTa薄膜媒体(結晶粒径及び粒径分散への基板バイアスの影響)
- 異方性及び等方性CoCrTa媒体の磁気的微細構造(磁性結晶粒径・粒間相互作用と磁気クラスター径)
- 清浄雰囲気中で作製したCoNiCrTa薄膜磁気記録媒体(磁気異方性と粒間相互作用へのNi添加効果)
- 清浄雰囲気中で作製したCoCrTaPt薄膜磁気記録媒体
- 清浄雰囲気中で作製したCoCrTa薄膜媒体のCr偏析構造
- (FeNi)-N薄膜の構造と飽和磁化
- C, N共添加α'-Fe相の合成と結晶磁気異方性
- α'-FeCo-Cスパッタ薄膜の構造と磁気特性 : 合金薄膜
- α'-Fe-Co-Cスパッタ薄膜の構造と磁気特性
- α'-Fe-Cスパッタ薄膜の結晶磁気異方性
- α'-Fe-Cスパッタ薄膜の構造と熱安定性
- 清浄雰囲気中で作製されたγ-Fe-N/Cu多層膜の構造と磁気モーメント
- α′-(Fe_Ni_x)-N(x=5-30)薄膜の構造と飽和磁化
- α'-(Fe_Ni_x)-N(x=5-30)薄膜の構造と飽和磁化
- 清浄雰囲気中で作製されたFe_N_2薄膜の構造
- 極薄高融点WCrシード層による薄膜磁気記録媒体の結晶粒微細化 : 高H^_k媒体における低ノイズ化
- 新規なシード層による薄膜媒体の結晶粒制御 : 極薄島状高融点シード層による結晶粒径の微細化
- 新規なスパッタプロセスによる薄膜媒体の結晶粒制御 : 酸素暴露及びCo共析NiP/Al基板による結晶粒径の微細化
- CoCrPt薄膜磁気記録媒体へのTaとBの添加効果
- 薄膜磁気記録媒体用Co基合金の結晶磁気異方性
- α^-Fe_N_2問題の現状
- fct Fe-Ni-N薄膜の構造と飽和磁化
- 清浄雰囲気で作製したα"-Fe_N_2スパッタ薄膜の構造と飽和磁化
- fct(Fe_Ni_x)-N(x=10-40)薄膜の飽和磁化
- 清浄雰囲気中で作製したα"-Fe_N_2スパッタ薄膜の構造と飽和磁化
- α"-Fe_N_2スパッタ薄膜の構造と飽和磁化(飽和磁化と単位胞体積及びNサイトの規則化の相関)
- C添加Fe-N薄膜の熱安定性
- Fe-C-N薄膜の構造と飽和磁化
- (Ar+N_+O_)プラズマ中で作製したFe-N薄膜の構造
- 清浄雰囲気中で作製したCoNiCrTaPt薄膜磁気記録媒体 (Ni添加による静磁気的な相互作用の抑制)
- (FeCo)-N薄膜の構造と飽和磁化
- α"-Fe_N_2薄膜の巨大飽和磁化に関する諸問題
- 極清浄スパッタ成膜装置の試作とその基礎性能
- SPD法によるCo-M(M=Cr, Pt, Ru)合金の結晶異方性磁界)