fct Fe-Ni-N薄膜の構造と飽和磁化
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概要
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Fe-Ni-N films were fabricated on MgO{100}single-crystal substrates by dc facing-targets sputtering. Structural analysis and magnetic measurement were carried out. The results can be summarized as follows: (1) an Fe-Ni-N phase with fct structure and 11 at% N can be formed in a wide Ni content range from 20 to 40at%; (2) N atoms are located at the body center of the fct structure; (3) judging from the dependence of the saturation magnetization for fct Fe-Ni-N films with 11at% N on the Ni content, it is suggested that the fct phase does not strogly affect the appearance of giant magnetic moment in Fe-N films.
- 社団法人日本磁気学会の論文
- 1999-04-15
著者
-
高橋 研
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
荘司 弘樹
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
高橋 研
東北大学大学院工学研究科
-
庄司 弘樹
三菱総合研 先端科研
-
河野 有紀子
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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