クリーン化プロセスによる高密度磁気記録媒体の作製
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概要
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清浄なスパッタリング雰囲気を実現したUC(Ultra Clean)プロセスにより薄膜媒体を作製した。その結果、Crの粒界偏析構造などの微細組織の制御が可能となり、磁性粒間の交換相互作用が低減化され、媒体の高保磁力化を達成した。また、微細構造を制御した状態で、磁性結晶粒径の低減化を実現し、その結果S/N_mが改善されることを見出した。将来の超高密度磁気記録媒体の実現に向けた本プロセスの有用性を明らかにした。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-06-13
著者
-
高橋 研
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
荘司 弘樹
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
菊池 暁
富士通
-
原 寛
帝人
-
高橋 研
東北大学大学院工学研究科
-
庄司 弘樹
三菱総合研 先端科研
-
菊池 暁
東北大学大学院工学研究科
-
原 寛
東北大学大学院工学研究科
-
高橋 研
東北大学大学院 工学研究科電子工学専攻
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