新規なスパッタプロセスによる薄膜媒体の結晶粒制御 : 酸素暴露及びCo共析NiP/Al基板による結晶粒径の微細化
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概要
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- 2000-09-01
著者
-
堀井 明
東北大分子病理
-
吉村 哲
東北大学大学院工学研究科
-
高橋 研
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
荘司 弘樹
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
堀井 明
アネルバ(株)mmd装置事業部プロセス技術部
-
高橋 研
東北大
-
高橋 研
東北大学大学院工学研究科
-
ジャヤプラウィラ D.
東北大学大学院工学研究科電子工学
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庄司 弘樹
三菱総合研 先端科研
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荘司 弘樹
東北大・工
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三上 正樹
東北大
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Djayaprawira David
東北大学大学院工学研究科電子工学
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三上 正樹
東北大学大学院工学研究科電子工学
-
ジャヤプラウィラ D.
東北大学 工学部 電子工学科
-
Djayaprawira D
東北大学大学院工学研究科電子工学
-
堀井 明
東北大 大学院
-
荘司 弘樹
東北大
-
ジャヤプラウィラ D.
東北大学
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