三上 正樹 | 東北大学大学院工学研究科電子工学
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概要
関連著者
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高橋 研
東北大学大学院工学研究科
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ジャヤプラウィラ D.
東北大学大学院工学研究科電子工学
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三上 正樹
東北大学大学院工学研究科電子工学
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吉村 哲
東北大学大学院工学研究科
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高橋 研
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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Djayaprawira David
東北大学大学院工学研究科電子工学
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Djayaprawira D
東北大学大学院工学研究科電子工学
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高橋 研
東北大
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ジャヤプラウィラ D.
東北大学 工学部 電子工学科
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ジャヤプラウィラ D.
東北大学
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三上 正樹
東北大
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荘司 弘樹
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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庄司 弘樹
三菱総合研 先端科研
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小宮山 和弥
富士電機株式会社
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堀井 明
アネルバ(株)mmd装置事業部プロセス技術部
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荘司 弘樹
東北大・工
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荘司 弘樹
東北大
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堀井 明
東北大分子病理
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高桑 雄二
東北大科研
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高桑 雄二
東北大学多元物質科学研究所
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高桑 雄二
東北大
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堀井 明
東北大 大学院
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大野 玲
三菱化学株式会社
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ジャヤプラウィラ D.
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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高橋 研
東北大学未来共同科学研究センター
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土門 宏紀
東北大
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吉村 哲
日本学術振興会
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片山 慎也
三菱化学株式会社
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Djayaprawira D.
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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二上 正樹
コマグ(株)技術開発統括部
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三上 正樹
旭コマグ(株)
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コング T.
東北大
-
高橋 研
東北大学大学院 工学研究科電子工学専攻
著作論文
- 極薄WCrシードへの酸素暴露による薄膜媒体の結晶粒制御(WCrシードの初期成長核作用増大による粒径微細化の促進)
- 薄膜磁気記録媒体における諸特性の極薄Cr基シード層組成依存性 : Cr基シード層の成長様式及び融点・酸素親和性と媒体の微細構造との関係(磁気記録媒体)
- 極薄Cr基シード層への酸素暴露による薄膜媒体の結晶粒制御 : 極薄Cr基シードの酸素親和性と粒径微細化効果との関係
- 薄膜媒体における諸特性の極薄Cr基シード層組成依存性 : 極薄Cr基シードの融点及び成長様式と媒体の微細構造との関係
- 薄膜媒体の微細組織におけるWCrシード層組成依存性
- 基板表面への酸素暴露によるWCrシード層の微細構造制御
- 高Pt濃度CoCrPtB薄膜媒体における高保磁力化に関する検討
- 極薄高融点WCrシード層による薄膜磁気記録媒体の結晶粒微細化 : 高H^_k媒体における低ノイズ化
- 新規なシード層による薄膜媒体の結晶粒制御 : 極薄島状高融点シード層による結晶粒径の微細化
- 新規なスパッタプロセスによる薄膜媒体の結晶粒制御 : 酸素暴露及びCo共析NiP/Al基板による結晶粒径の微細化
- CoCrPt薄膜磁気記録媒体へのTaとBの添加効果