堀井 明 | アネルバ(株)mmd装置事業部プロセス技術部
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概要
関連著者
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吉村 哲
東北大学大学院工学研究科
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高橋 研
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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荘司 弘樹
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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堀井 明
アネルバ(株)mmd装置事業部プロセス技術部
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高橋 研
東北大学大学院工学研究科
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ジャヤプラウィラ D.
東北大学大学院工学研究科電子工学
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庄司 弘樹
三菱総合研 先端科研
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Djayaprawira David
東北大学大学院工学研究科電子工学
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三上 正樹
東北大学大学院工学研究科電子工学
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Djayaprawira D
東北大学大学院工学研究科電子工学
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堀井 明
東北大分子病理
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高橋 研
東北大
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荘司 弘樹
東北大・工
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三上 正樹
東北大
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ジャヤプラウィラ D.
東北大学 工学部 電子工学科
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堀井 明
東北大 大学院
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荘司 弘樹
東北大
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ジャヤプラウィラ D.
東北大学
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Djayaprawira D.
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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二上 正樹
コマグ(株)技術開発統括部
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高橋 研
東北大学大学院 工学研究科電子工学専攻
著作論文
- 極薄高融点WCrシード層による薄膜磁気記録媒体の結晶粒微細化 : 高H^_k媒体における低ノイズ化
- 新規なシード層による薄膜媒体の結晶粒制御 : 極薄島状高融点シード層による結晶粒径の微細化
- 新規なスパッタプロセスによる薄膜媒体の結晶粒制御 : 酸素暴露及びCo共析NiP/Al基板による結晶粒径の微細化