fct(Fe_<100-x>Ni_x)-N(x=10-40)薄膜の飽和磁化
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概要
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- 1998-09-01
著者
-
高橋 研
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
荘司 弘樹
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
高橋 研
東北大
-
庄司 弘樹
三菱総合研 先端科研
-
荘司 弘樹
東北大・工
-
河野 有紀子
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
河野 有紀子
東北大・工
-
荘司 弘樹
東北大
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