Ohmi Tadahiro | The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University

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概要

• 同名の論文著者
• The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku Universityの論文著者

関連著者

• Ohmi Tadahiro

  The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• Ohmi T

  Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn

• 大見 忠弘

  東北大学

• Ohmi Tadahiro

  Department Of Electronic Engineering Tohoku University

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学技術共同研究センター:東北大学wpiリサーチセンター

• 寺本 章伸

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• Teramoto A

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• Ohmi Tadahiro

  Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Tohoku University:(present Addre

• 大見 忠弘

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• 須川 成利

  東北大学 大学院 工学研究科

• TERAMOTO Akinobu

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• Teramoto Akinobu

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• 諏訪 智之

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• Teramoto Akinobu

  Department Of Electronic Engineering Faculty Of Engineering Tohoku University

• 須川 成利

  東北大学大学院工学研究科

• OHMI Tadahiro

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• Sugawa S

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• SUGAWA Sigetoshi

  Tohoku University

• 宮本 直人

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 黒田 理人

  東北大学大学院工学研究科技術社会システム専攻

• 黒田 理人

  東北大学大学院工学研究科

• 服部 健雄

  東北大学未来情報産業共同研究センター

• 服部 健雄

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 黒田 理人

  東北大学工学研究科

• SUGAWA Shigetoshi

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• 阿部 健一

  日本大学工学部情報工学科

• 阿部 健一

  東北大学大学院工学研究科

• 阿部 健一

  東北大

• 服部 健雄

  東京工業大学フロンティア研究機構

• 阿部 健一

  東北大学大学院工学研究科技術社会システム専攻

• 阿部 健一

  東北大学工学部電気系

• 中尾 幸久

  東北大学大学院工学研究科

• 阿部 健一

  東北大学工学部電気工学科

• SUWA Tomoyuki

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 野平 博司

  Musashi Institute Of Technology

• 田中 宏明

  東北大学大学院工学研究科

• 森田 瑞穂

  大阪大学大学院工学研究科

• 廣江 昭彦

  東北大学未来科学技術共同研究センター未来情報産業創製研究部門

• 熊谷 勇喜

  東北大学大学院工学研究科

• 小谷 光司

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• KURODA Rihito

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• 森田 瑞穂

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• Kuroda Rihito

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• 阿部 健一

  東北大 大学院工学研究科

• 田中 宏明

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 小谷 光司

  東北大学大学院工学研究科

• 陳 キュウ

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 李 菲菲

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 広江 昭彦

  東工大理

• 室 隆桂之

  JASRI

• 谷 クン

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• 根本 剛直

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 室隆 桂之

  SPring-8 JASRI

• 阿部 健一

  東北大学大学院工学研究科 電気・通信工学専攻

• 室 隆桂之

  高輝度光科学研究センター

• 室 桂隆之

  JASRI SPring-8

• 後藤 哲也

  東北大学未来科学技術共同研究センター未来情報産業創製研究部門

• 須川 成利

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 白井 泰雪

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 伊藤 隆司

  (株)富士通研究所

• 伊藤 隆司

  富士通研究所

• Ikenaga Eiji

  Japan Synchrotron Radiation Research Institute

• Hattori Tetsuya

  Depaetment Of Electrical And Electronic Engineering Tokyo Institute Of Technology

• 伊藤 隆司

  東京工業大学ソリューション研究機構:広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所

• 木下 豊彦

  高輝度光科学研究センター

• ARATANI Takashi

  Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

• HIGUCHI Masaaki

  TOSHIBA CORPORATION

• NOHIRA Hiroshi

  Musashi Institute of Technology

• HATTORI Takeo

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 白井 泰雪

  東北大未来科学技術共同研究センター

• Hattori Takashi

  Central Research Laboratory Hitachi Ltd.

• KONDA Masahiro

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 伊藤 隆司

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• 廣沢 一郎

  Japan Synchrotron Radiation Research Institute (JASRI)

• 山口 拓也

  島根医科大学 第三内科

• 須川 成利

  東北大学工学研究科技術社会システム

• 山下 哲

  東北大未来科学技術共同研究センター

• 広沢 一郎

  Nec分析評価センター

• IMAI Hiroshi

  Graduate School of Science and Engineering, Kagoshima University

• 石原 良夫

  大陽日酸株式会社

• 藤澤 孝文

  東北大学大学院工学研究科

• 渡部 俊一

  東北大学大学院工学研究科

• 北野 真史

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• IKENAGA Eiji

  Japan Synchrotron Radiation Research Institute/SPring-8

• 永田 晃基

  明治大学理工学部

• 山口 拓也

  明治大学理工学部

• 小金澤 智之

  財団法人高輝度光科学センター

• 吉川 和博

  株式会社フジキン大阪ハイテック研究所

• Konda Masahiro

  NICHe, Tohoku University

• Teramoto Akinobu

  NICHe, Tohoku University

• Suwa Tomoyuki

  NICHe, Tohoku University

• Ohmi Tadahiro

  NICHe, Tohoku University

• 松本 洋平

  東京海洋大学

• 小池 帆平

  産業技術総合研究所

• 小椋 厚志

  明治大学理工学部

• USHIO Jiro

  Hitachi, Ltd.

• Abe Kenichi

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• Fujisawa Takafumi

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• Watabe Shunichi

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• Sugimura Masahiko

  Research and Development Center, Zeon Corporation

• Kawasaki Masafumi

  Research and Development Center, Zeon Corporation

• 渡辺 高行

  宇部マテリアルズ（株）

• 飯嶋 和明

  三機工業(株)エネルギーソリューションセシター

• 室 隆桂之

  財団法人高輝度光科学研究センター

• 高橋 研

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 石井 裕

  シャープ株式会社ディスプレイ技術開発本部

• 阿部 健一

  東北大学工学部

• 室隆 佳之

  JASRI

• 広沢 一郎

  NEC

• SHIBATA Tadashi

  Department of Physics,Faculty of Science,Osaka University

• 広沢 一郎

  高輝度光科学研究センター

• 高橋 研

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• 池永 英司

  高輝度光科学研究センター

• 広沢 一郎

  Jasri

• 廣沢 一郎

  高輝度光科学研究センター(spring-8)

• 廣沢 一郎

  (財)高輝度光科学研究センター利用研究促進部門i

• 廣沢 一郎

  財団法人高輝度光科学研究センター

• 池永 英司

  Crest・jst

• 稲葉 仁

  高砂熱学工業(株)

• 石井 裕

  シャープ(株)ディスプレイ技術開発本部

• 池永 英司

  (財)高輝度光科学研究センター

• 野平 博司

  武蔵工業大学工学部

• 伊藤 隆司

  東北大学大学院工学研究科

• 山田 祐一郎

  シャープ(株)ディスプレイ技術開発本部avcディスプレイ研究所第2研究部

• 梅田 浩司

  ULSI技術開発センター

• 樋口 正顕

  株式会社東芝

• 荒谷 崇

  信越化学工業株式会社

• 牛尾 二郎

  株式会社日立製作所

• 平山 昌樹

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• Kobayashi Keisuke

  JASRI SPring8

• 河瀬 和雅

  三菱電機(株)先端総研

• 梅田 浩司

  (株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部

• 井上 真雄

  (株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部

• 荒川 公平

  日本ゼオン(株)

• 宮城 孝一

  日本ゼオン(株)高岡工場

• 鈴木 克昌

  大陽日酸株式会社

• 植村 聡

  東北大学工学部電子工学専攻

• 鈴木 康司

  三機工業(株)技術開発本部

• 若山 恵英

  大成建設(株)

• 迫田 薫

  大陽日酸株式会社

• 井上 真雄

  (株)ルネサステクノロジ

• Philipossian Ara

  University of Arizona

• Sampurno Yasa

  University of Arizona

• Cheng Jiang

  Araca, Inc.

• Zhuang Yun

  University of Arizona

• 譽田 正宏

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 梅田 浩司

  (株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部

• 山本 真也

  (株)豊田自動織機

• 長田 健一

  (株)日立製作所中央研究所

• Shibata Tadashi

  Department Of Information And Communication Engineering The University Of Tokyo

• 山下 哲

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 石井 秀和

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• NAKANO Yukihisa

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• TANAKA Hiroaki

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 黒木 伸一郎

  東北大学大学院工学研究科

• 村岡 祐介

  大日本スクリーン製造(株) 開発本部

• 木下 豊彦

  高輝度光科学研究センター利用研究促進部門

• Shibata T

  Univ. Tokyo Tokyo Jpn

• Shibata T

  Department Of Information And Communication Engineering The University Of Tokyo

• Tanaka Hiroaki

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• 広沢 一郎

  Necデバイス評価技術研究所

• 高橋 研

  東北大学工学部電子工学専攻

• 小椋 厚志

  明治大学理工学部電気電子生命学科

• 鈴木 康司

  三機工業

• Zhuang Yun

  University Of Arizona:araca Inc.

• Cheng Jiang

  Araca Inc.

• Sampurno Yasa

  University Of Arizona:araca Inc.

• 石井 裕

  シャープ(株) 液晶研究所

• 小瀬村 大亮

  明治大学理工学部

• 服部 真季

  明治大学理工学部

• 武井 宗久

  明治大学理工学部

• 赤松 弘彬

  明治大学理工学部

• 富田 基裕

  明治大学理工学部

• 水上 雄輝

  明治大学理工学部

• 橋口 裕樹

  明治大学理工学部

• Tye Ching

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• 木村 純

  松下電器産業eネット事業本部

• CHENG Weitao

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 山崎 正宏

  (株)オプテス

• 飯嶋 和明

  三機工業(株)

• 飯嶋 和明

  三機工業

• 廣沢 一郎

  財団法人高輝度光科学センター

• Shibata Tadashi

  Department Of Electrical Engineering And Information Systems School Of Engineering The University Of

• 富田 祐吾

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 黒木 伸一郎

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• Cheng Weitao

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• 渡辺 高行

  宇部マテリアルズ株式会社

• 渡辺 高行

  宇部マテリアルズ(株)

• HIGUCHI Masaaki

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• ARATANI Takashi

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• HAMADA Tatsufumi

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• TERAMOTO Akinobu

  The New Industry Creation Hatchery Center (NICHe), Tohoku University

• HATTORI Takeo

  The New Industry Creation Hatchery Center (NICHe), Tohoku University

• SHINAGAWA Seiji

  Musashi Institute of Technology

• IKENAGA Eiji

  JASRI/SPring8

• HIRAYAMA Masaki

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 川田 幸司

  (株)フジキン大阪ハイテック研究開発センター

• KONDA Masahiro

  Graduate School of Engineering ,Department of Electronic Engineering, Tohoku University

• Nakano Yukihisa

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

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著作論文

• ノンポーラスULK層間膜(フロロカーボン)へのダメージを抑制したCu-CMP後洗浄液の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
• マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• 高精度CMP終点検出方法の検討(プロセス科学と新プロセス技術)
• 角度分解光電子分光法によるゲート絶縁膜/シリコン基板界面に形成される構造遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
• RTN測定の高精度化・高速化技術とRTN特性に強い影響度を示すプロセス条件(携帯電話用カメラ,デジタルスチルカメラ,ビデオカメラ(ハイビジョン)とそのためのイメージセンサ,モジュール,特別企画「CCD誕生40周年記念講演-黎明期-」)
• フッ素固定式パーフルオロ化合物(PFCs)除害システム
• MOSFET特性ばらつき、RTSノイズの統計的評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• Stress Induced Leakage CurrentとRandom Telegraph Signalノイズとの相関(プロセス科学と新プロセス技術)
• 原子オーダ平坦化ウェハ表面のAFM評価手法及びデータ解析手法(プロセス科学と新プロセス技術)
• ラジカル窒化シリコン酸窒化膜における窒素プロファイルのX線光電子分光分析による評価
• 大型液晶ディスプ***ロジェクトが切り開く未来(総合報告)
• High Current Drivability FD-SOI CMOS with Low Source/Drain Series Resistance(Session 9B : Nano-Scale devices and Physics)
• 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
• 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
• 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
• マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• ULSI用低抵抗コンタクトのための低バリアハイトメタルシリサイドの形成(プロセス科学と新プロセス技術)
• 酸素ラジカルを用いて形成したSiO_2/Si界面における組成遷移と価電子帯オフセットの基板面方位依存性(プロセス科学と新プロセス技術)
• 次世代LSI向け低誘電率絶縁膜/Cuダマシン配線の形成(プロセス科学と新プロセス技術)
• 原子スケールで平坦なSiO_2/Si酸化膜界面歪の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• 電子デバイス製造用クリーンルームにおける室内系統水噴霧加湿の研究 : 第1報-省エネルギー効果の検証
• ガス供給系における金属表面の吸着水とその除去
• Impact of fully depleted silicon-on-insulator accumulation-mode CMOS on Si(110) (シリコン材料・デバイス)
• MOSFETにおけるランダムテレグラフシグナルの統計的評価方法(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• The data analysis technique of the atomic force microscopy for the atomically flat silicon surface(Session9A: Silicon Devices IV)
• The data analysis technique of the atomic force microscopy for the atomically flat silicon surface(Session9A: Silicon Devices IV)
• 差分量子化によるヒストグラム特徴を用いた映像の高速探索(画像信号処理及び一般)
• VQ-SIFTを用いた物体認識ためのロバストな局所画像記述子(画像信号処理及び一般)
• 差分量子化によるヒストグラム特徴を用いた映像の高速探索(画像信号処理及び一般)
• VQ-SIFTを用いた物体認識ためのロバストな局所画像記述子(画像信号処理及び一般)
• Study on Compositional Transition Layers at Gate Dielectrics/Si Interface by using Angle-resolved X-ray Photoelectron Spectroscopy
• Study on Compositional Transition Layers at Gate Dielectrics/Si Interface by using Angle-resolved X-ray Photoelectron Spectroscopy
• Electric characteristics of Si_3N_4 films formed by directly radical nitridation on Si (110) and Si (100) surfaces
• A Compact Memory-Merged Vector-Matching Circuitry for Neuron-MOS Associative Processor (Special Issue on Integrated Electronics and New System Paradigms)
• Data Analysis Technique of Atomic Force Microscopy for Atomically Flat Silicon Surfaces
• A Statistical Analysis of Distributions of RTS Characteristics by Wide-Range Sampling Frequencies
• A Statistical Analysis of Distributions of RTS Characteristics by Wide-Range Sampling Frequencies
• A Material of Semiconductor Package with Low Dielectric Constant, Low Dielectric Loss and Flat Surface for High Frequency and Low Power Propagation(Session2: Silicon Devices I)
• A Material of Semiconductor Package with Low Dielectric Constant, Low Dielectric Loss and Flat Surface for High Frequency and Low Power Propagation(Session2: Silicon Devices I)
• デュアルシリサイドを用いた低直列抵抗CMOSソース/ドレイン電極形成技術
• ホモジニアス・タイル構造3次元FPGAの性能評価(3D-I,集積回路とアーキテクチャの協創〜3次元集積回路技術とアーキテクチャ〜)
• 高純度有機金属ガス供給システムに関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
• TSVを用いた3次元FPGAの性能評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• 学問に基づいた本物のシリコン産業技術の創出(プロセス科学と新プロセス技術)
• 埋め込み構造によるMOSFETにおけるランダム・テレグラフ・ノイズの低減(プロセス科学と新プロセス技術)
• SiO_2/Si界面における構造遷移層の酸化手法依存性(プロセス科学と新プロセス技術)
• ラジカル反応ベース絶縁膜形成技術における界面平坦化効果と絶縁膜破壊特性との関係(プロセス科学と新プロセス技術)
• 異常Stress Induced Leakage Currentの発生・回復特性の統計的評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• 高精密三次元実装にむけた、アルカリエッチングによるシリコン貫通電極形成技術(プロセス科学と新プロセス技術)
• 特別講演 シリコンLSI : 微細化に替る高性能化の道 (シリコン材料・デバイス)
• 微小角入射X線回折法を用いたSiO_2薄膜中の結晶相の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• PECVD法を用いたゲートスペーサー用高品質シリコン窒化膜の低温形成プロセス(プロセス科学と新プロセス技術)
• シリコンウェーハプロセスにおける超高速ウェットエッチング技術(プロセス科学と新プロセス技術)
• SiO_2/Si(100)界面における組成遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
• シリコンLSI : 微細化に替る高性能化の道(プロセス科学と新プロセス技術)

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