A Material of Semiconductor Package with Low Dielectric Constant, Low Dielectric Loss and Flat Surface for High Frequency and Low Power Propagation(Session2: Silicon Devices I)
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概要
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For the next generation LSI package, low power consumption and high frequency propagation must be satisfied. In order to meet such requirements, we investigated a dielectric material for semiconductor package which has three superior features: low dielectric constant, low dielectric loss, and a flat surface. The propagation loss of a microstrip line on the developed material is about 40% of the conventional material at 30GHz. The significant reduction of the propagation loss is caused by the flat surface and low dielectric loss. This technology greatly contributes to the next generation of semiconductor packages.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2008-07-02
著者
-
TERAMOTO Akinobu
New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University
-
大見 忠弘
東北大学
-
IMAI Hiroshi
Graduate School of Science and Engineering, Kagoshima University
-
SUGAWA Shigetoshi
Graduate School of Engineering, Tohoku University
-
OHMI Tadahiro
New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University
-
Teramoto A
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
-
Sugawa S
Graduate School Of Engineering Tohoku University
-
Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering Tohoku University
-
Ohmi Tadahiro
The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University
-
Ohmi T
Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn
-
SUGAWA Sigetoshi
Tohoku University
-
Sugimura Masahiko
Research and Development Center, Zeon Corporation
-
Kawasaki Masafumi
Research and Development Center, Zeon Corporation
-
Teramoto Akinobu
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University
-
Teramoto Akinobu
Department Of Electronic Engineering Faculty Of Engineering Tohoku University
-
Sugawa Shigetoshi
Graduate School Of Engineering Tohoku University
-
Sugawa Shigetoshi
Department Of Electronic Engineering Tohoku University
-
Sugimura Masahiko
Research And Development Center Zeon Corporation
-
Ohmi Tadahiro
New Industry Creation Hatchery Center Future Information Industry Creation Center Tohoku University
-
Teramoto Akinobu
New Industry Creation Hatchery Center Tohoku Univ.
-
Teramoto Akinobu
University Of Tohoku New Industry Creation Hatchery Center (niche)
-
Kawasaki Masafumi
Research And Development Center Zeon Corporation
-
Imai Hiroshi
Graduate School Of Engineering Tohoku University
-
Ohmi Tadahiro
New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University
-
Teramoto Akinobu
New Industry Creation Hatchery Center (NICHe), Tohoku University, Sendai 980-8579, Japan
-
Sugimura Masahiko
Research & Development Center, Zeon Corp., 1-2-1 Yako, Kawasaki-ku, Kawasaki 210-9507, Japan
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