森田 瑞穂 | 大阪大学大学院工学研究科
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概要
関連著者
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森田 瑞穂
大阪大学大学院工学研究科
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小谷 光司
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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小谷 光司
東北大学大学院工学研究科
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
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森田 瑞穂
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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森田 瑞穂
大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻
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伊藤 隆司
富士通研究所
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伊藤 隆司
東京工業大学ソリューション研究機構:広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
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伊藤 隆司
東北大学大学院工学研究科
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伊藤 隆司
(株)富士通研究所
著作論文
- 3a-C4-7 Impurity effects of the SiO_2-Si(100)interface studied by Angle-Resolved UPS
- 数値制御プラズマCVM (Chemical Vaporization Machining)によるSOIの薄膜化 : デバイス用基板としての加工面の評価
- 動的再構成ALUを搭載した画像認識プロセッサ : 高速フーリエ変換・逆変換に適した再構成コンピューティング(プロセッサ,DSP,画像処理技術及び一般)
- 動的再構成ALUを搭載した画像認識プロセッサ : 高速フーリエ変換・逆変換に適した再構成コンピューテイング(プロセッサ,DSP,画像処理技術及び一般)
- 4a-T-1 熱エネルギーミュオニウム放出における表面効果II
- リアルタイムオブジェクト分離を行う高機能CMOSイメージセンサ
- リアルタイムオブジェクト分離を行なう高機能CMOSイメージセンサ
- レーザ光散乱法によるSiウエハ表面上の極薄酸化膜段差の計測
- 走査型トンネル顕微鏡による水素化アモルファスシリコン表面の原子像観察
- 走査型トンネル顕微鏡による水素化アモルファスシリコン表面の構造解析