佐野 泰久 | 大阪大 大学院工学研究科
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概要
関連著者
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佐野 泰久
阪大院工
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佐野 泰久
大阪大 大学院工学研究科
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山内 和人
阪大院工
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佐野 泰久
大阪大学大学院工学研究科
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佐野 泰久
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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山内 和人
大阪大学大学院工学研究科
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山村 和也
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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山村 和也
大阪大学大学院
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森 勇藏
大阪大学大学院 工学研究科
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Yamamura K
Kyoto Univ. Kyoto
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森 勇藏
大阪大学大学院工学研究科
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三村 秀和
阪大院工
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三村 秀和
大阪大 大学院工学研究科
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山内 和人
大阪大学大学院 工学研究科
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山内 和人
阪大工
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矢橋 牧名
JASRI
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玉作 賢治
理研
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玉作 賢治
理化学研究所播磨研究所
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石川 哲也
理化学研究所放射光科学総合研究センター
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森 勇蔵
大阪大学大学院工学研究科
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三村 秀和
大阪大学大学院工学研究科 精密科学・応用物理学専攻
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石川 哲也
理化学研究所
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Yamauchi Kazuto
Department Of Precision Science And Technology Graduate School Of Engineering Osaka University
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三村 秀和
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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有馬 健太
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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三村 秀和
大阪大学大学院工学研究科
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矢橋 牧名
高輝度光科学研究センター放射光研究所
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有馬 健太
大阪大学 大学院工学研究科
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森 勇蔵
大阪大学工学部精密工学科
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遠藤 勝義
阪大院工
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スボロフ アレクセイ
高輝度光科学研究センター放射光研究所
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SOUVOROV Alexei
高輝度光科学研究センター
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Souvorov A
高輝度光科学研究セ
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Souvorov A
高輝度光科学研究セ 放射光研
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森 勇蔵
大阪大 工
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森 勇臓
大阪大学大学院工学研究所
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松山 智至
阪大院工
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有馬 健太
阪大院工
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西野 吉則
理化学研究所
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遠藤 勝義
大阪大学大学院工学研究科
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遠藤 勝義
大阪大学大学院
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岡本 武志
阪大院工
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服部 梓
阪大院工
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湯本 博勝
JASRI/SPring-8
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矢橋 牧名
財団法人高輝度光科学研究センター
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矢橋 牧名
(財)高輝度光科学研究センタービームライン・技術部門
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石川 哲也
(独)理化学研究所播磨研究所
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石川 哲也
独立行政法人理化学研究所播磨研究所
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原 英之
大阪大学 大学院工学研究科
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柴原 正文
兵庫県立工業技術センター
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湯本 博勝
高輝度光科学研究センター
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湯本 博勝
Jasri
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齋藤 彰
大阪大学大学院工学研究科
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半田 宗一郎
阪大院工
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木村 隆志
阪大院工
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原 英之
大阪大学大学院工学研究科 精密科学・応用物理学専攻
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有馬 健太
大阪大学大学院工学研究科 精密科学・応用物理学専攻
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久保田 章亀
熊本大学大学院工学研究科
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久保田 章亀
大阪大学大学院工学研究科
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杉山 剛
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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石川 哲也
理化学研究所播磨研究所x線干渉光学研究室
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杉山 剛
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻:(現)(株)ニコン
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斉藤 彰
大阪大学
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有馬 健太
大阪大学大学院工学研究科
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石川 哲也
理研
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加藤 有香子
JASRI
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
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須川 成利
東北大学 大学院 工学研究科
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松井 文彦
奈良先端大物質創成
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加藤 有香子
Jasri Spring-8
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西嘉山 徳之
奈良先端大物質
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後藤 謙太郎
奈良先端大物質
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前島 尚行
奈良先端大物質
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松井 公佑
奈良先端大物質
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松下 智裕
JASRI, SPring-8
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橋本 美絵
奈良先端大物質
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大門 寛
奈良先端大物質
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田中 攻
奈良先端大物質創成
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大門 寛
奈良先端科学技術大学院大学
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石川 哲也
JASRI
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前島 尚行
奈良先端大物質創成:jasri Spring-8
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石川 哲也
理研・播磨研
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西野 吉則
理研
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須川 成利
東北大学大学院工学研究科
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松下 智裕
Jasri
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松下 智裕
(財)高輝度光科学研究センター
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矢橋 牧名
理化学研究所
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矢橋 牧名
理研・jasri X線自由電子レーザー合同計画推進本部
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村田 順二
阪大院工
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大門 寛
奈良先端大
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稲垣 耕司
阪大工
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後藤 謙太郎
奈良先端大物質創成
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西嘉山 徳之
奈良先端大物質創成
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橋本 美絵
奈良先端大物質創成
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松井 公佑
奈良先端大物質創成
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山村 和也
大阪大学
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三村 秀和
大阪大学
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佐野 泰久
大阪大学
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SOUVOROV A.
(財)高輝度光科学研究センター
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斉藤 彰
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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玉作 賢治
RIKEN
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石川 哲也
RIKEN
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山村 和也
阪大院工
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稲垣 耕司
阪大院工
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松山 智至
大阪大学大学院
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湯本 博勝
大阪大学大学院
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山内 和人
大阪大学
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石川 哲也
理化学研究所 播磨研究所 構造生物物理研究室
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上野 一匡
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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金岡 政彦
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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大嶋 一郎
東北大学未来科学技術共同研究センター
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大嶋 一郎
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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玉作 賢治
独立行政法人理化学研究所播磨研究所
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森田 諭
大阪大学大学院工学研究科
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森田 瑞穂
大阪大学大学院工学研究科
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斉藤 祐司
東北大学大学院工学研究科
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上島 洋輝
大阪大学大学院工学研究科
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森田 瑞穂
大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻
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大嶋 一郎
東北大学大学院工学研究科
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石川 哲也
独立行政法人理化学研究所播磨研究所放射光科学総合研究センター
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稲垣 耕司
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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石川 哲也
(独)理化学研究所・播磨研究所・放射光科学総合研究センター
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斎藤 彰
大阪大学大学院工学研究科
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斉藤 祐司
東北大学大学院工学研究科:(現)セイコーエプソン(株)生産技術開発本部
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稲垣 耕司
阪大院工:jst-crest
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後藤 謙太郎
奈良先端大
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前島 尚行
奈良先端大
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橋本 美絵
奈良先端大
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松井 公佑
奈良先端大
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齋藤 彰
大阪大学大学院
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矢橋 牧名
理化学研究所 放射光科学総合研究センターXFEL研究開発部門 ビームライン研究開発グループ
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後藤 健太郎
奈良先端大物質
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松下 智裕
SPring-8/JASRI
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松井 文彦
奈良先端大
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石川 哲也
理研XFEL
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森 勇藏
大阪大学
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辻村 学
(株)荏原製作所
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辻村 学
株式会社荏原製作所精密・電子事業本部
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斉藤 彰
大阪大学基礎工学部精密科学
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矢橋 牧名
SPring-8 JASRI
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玉作 賢治
SPring-8 理研
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石川 哲也
SPring-8 理研
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藤井 正輝
阪大院工
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脇岡 敏之
阪大院工
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山川 大輔
阪大院工
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玉作 賢治
理研/SPring-8
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西野 吉則
理研/SPring-8
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西野 吉則
理研 SPring-8
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玉作 賢治
理研 SPring-8
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定国 峻
阪大院工
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SOUVOROV Alexei
JASRI
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湯本 博勝
阪大院工
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片岸 恵子
阪大院工
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山村 和也
超精密研究センター
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西野 吉則
SPring-8
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杉山 和久
高知高専
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稲垣 耕司
大阪大学大学院工学研究科
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佐野 泰久
大阪大学 大学院工学研究科
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山内 和人
大阪大学 大学院工学研究科
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山本 雄介
大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻
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掛谷 悟史
阪大・工
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広瀬 喜久冶
阪大院工
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関戸 康裕
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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斎藤 彰
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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沖 一郎
シャープ(株)IC事業本部
-
伊佐次 晃司
シャープ(株)IC事業本部
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SOUVOROV A.
JASRI
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岸本 宏樹
大阪大学大学院精密科学専攻
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杉山 和久
大阪大学大学院
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服部 梓
大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター
-
岡本 武志
大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻
-
定國 峻
大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻
-
村田 順二
大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻
-
柴田 規夫
(株)栃木ニコン
-
瀧野 日出雄
(株)ニコン
-
瀧野 日出雄
ニコン
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柴田 規夫
ニコン
-
小林 輝紀
ニコン
-
湯本 博勝
Jasri Spring-8
-
鴻池 満司
大阪大学大学院精密科学専攻
-
森 勇蔵
大阪大学 工学部
-
齋藤 彰
理研 Sprine-8:大阪大院工:科学技術振興機構icorp
-
松下 智裕
財団法人高輝度光科学研究センター 制御・情報部門
-
松下 智裕
財団法人高輝度光科学研究センター
-
松井 文彦
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
-
山内 和人
大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専
-
八木 圭太
(株)荏原製作所精密・電子事業カンパニーCMP事業部CMPプロセス室プロセス開発グループ
-
松下 智裕
JASRI-SPring-8
-
辻村 学
(株)荏原製作所精密・電子事業カンパニー
-
佐野 泰久
大阪大学大学院工学研究科精密科学応用物理学専攻攻
-
大見 忠弘
東北大学未来科学共同センター
-
玉作 賢治
理研/SP-8
-
西野 吉則
理研/SP-8
著作論文
- 22pGQ-6 超平坦化加工した4H-SiC(0001)表面上のグラフェン(22pGQ 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21pPSA-27 4H-SiC(0001)表面上のグラフェン形成過程の組成・構造解析(21pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 大気圧プラズマによるエッチングを応用した種々の加工法とその特性 (特集 最近の興味深いビーム加工技術と将来動向)
- Advanced Kirkpatrick-Baez ミラー光学系の開発
- 硬X線ナノ集光ビーム用波面誤差算出法の開発
- プラズマCVMおよびEEMによる放射光用X線ミラーの作製とその応用 : 二枚の平面ミラーを用いたX線干渉計の開発
- プラズマCVMおよびEEMによる放射光用X線ミラーの作製とその応用 : 硬X線顕微鏡の開発
- 触媒基準エッチング法(CAtalyst Referred Ething: CARE)の開発--SiC, GaN基板加工への応用 (特集 グリーンエネルギー時代を支える先進加工技術とその課題)
- 触媒基準エッチング法
- 22pTC-3 超高精度ミラーによる硬X線ナノビーム形成とその応用(領域10シンポジウム主題:X線・電子線による回折イメージングの最前線,領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
- 高精度非球面ミラーの加工技術
- 高分解能硬X線顕微鏡のためのミラーマニピュレータの開発 : 硬X線領域における50nm以下の回折限界集光の実現
- 硬X線ナノ集光用超高精度楕円ミラーの作製と1次元集光性能の評価
- EEM(Elastic Emission Machining)による4H-SiC(0001)表面の平滑化
- 硬X線用斜入射平面ミラーの形状誤差が反射X線強度・位相分布に及ぼす影響の波動光学的評価
- 数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究 : 回転電極とパイプ電極を併用した数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化
- 数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究 : 円筒型回転電極を用いた数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化
- 数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究 : 加工装置の開発と基本的加工特性の取得
- 27pPSA-45 第一原理分子動力学シミュレーションを用いたα-アルミナ表面の化学反応によるエッチングプロセスの探索(領域9ポスターセッション)(領域9)
- 高精度X線ミラーのための干渉計を利用した形状計測システムの開発
- 数値制御プラズマCVM (Chemical Vaporization Machining)によるSOIの薄膜化 : デバイス用基板としての加工面の評価
- 数値制御プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)によるSOIの薄膜化 : 加工装置の開発と超薄膜SOIウエハの試作
- プラズマCVMおよびEEMによるシンクロトロン放射X線用楕円ミラーの作製と集光特性の評価
- プラズマCVMによるSOlの数値制御薄膜化:薄膜化した8インチSOlウエハのデバイス特性
- プラズマCVMおよびEEMによるX線平面ミラーの加工と放射光による評価
- 数値制御プラズマCVMおよび数値制御EEMによる硬X線集光用超精密非球面ミラーの加工
- 原子レベルで平坦な表面の創成技術
- 数値制御プラズマ CVM(Chemical Vaporization Machining) によるSOIの薄膜化 : デバイス用基板としての加工面の評価
- 超平坦化加工を施した4H-SiC(0001)表面 : 高品質グラフェン作製への応用
- SPV(Surface Photo-voltage)スペクトロスコピーによる超精密加工表面評価法の開発
- 24aPS-73 4H-SiC(0001)上のグラフェン形成過程の追跡と層分解構造解析(24aPS 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- プラズマCVMによる光学部品の超精密加工 : 薄肉光学部品の加工特性
- プラズマCVMによる機能材料の切断加工 : 内周刃型切断加工装置の試作とその切断加工特性
- 数値制御プラズマCVMによるX線ミラーの加工に関する研究(第2報)
- プラズマCVMによるSOIの数値制御薄膜化 : 加工面のデバイス特性評価
- 数値制御プラズマCVMによるX線ミラーの加工に関する研究(第1報) : X線ミラー加工用装置の開発
- プラズマCVMの開発
- プラズマCVMにおける基礎研究 : 単結晶シリコンの加工における加工条件と表面粗さの相関
- プラズマCVMにおける高融点金属材料の加工特性
- プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)による超精密加工
- SiC基板表面の原子レベル平坦化 (特集 最近のLEDとパワーデバイスの現状と将来)
- 触媒表面基準エッチングによる単結晶SiC、GaN表面の平滑化 (特集 先端部品のための高付価値研磨・切断加工技術)
- 触媒表面基準エッチングによる単結品SiC,GaN,ZnO表面の平滑化 (特集 酸化物表面のウェットプロセス)
- 触媒表面基準エッチングによる単結晶SiC,GaN表面の平滑化 (特集 先端電子デバイスの量産を支える超精密研磨技術)
- 触媒表面基準エッチングによる単結晶SiC, GaN, ZnO表面の平滑化
- 半導体SiC基板の新しい研磨技術 : 触媒表面反応を利用した研磨技術の開発(話題の材料を活かす加工技術)