山内 和人 | 大阪大学大学院 工学研究科
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概要
関連著者
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山内 和人
大阪大学大学院 工学研究科
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山内 和人
大阪大学大学院工学研究科
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山内 和人
阪大院工
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三村 秀和
大阪大 大学院工学研究科
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三村 秀和
大阪大学大学院工学研究科
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三村 秀和
大阪大学大学院工学研究科 精密科学・応用物理学専攻
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森 勇藏
大阪大学大学院 工学研究科
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森 勇蔵
大阪大学大学院工学研究科
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森 勇藏
大阪大学大学院工学研究科
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遠藤 勝義
大阪大学大学院
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稲垣 耕司
大阪大学大学院工学研究科
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遠藤 勝義
大阪大学大学院工学研究科
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Yamamura K
Kyoto Univ. Kyoto
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佐野 泰久
大阪大学大学院工学研究科
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佐野 泰久
阪大院工
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佐野 泰久
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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佐野 泰久
大阪大 大学院工学研究科
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山村 和也
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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山村 和也
大阪大学大学院
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稲垣 耕司
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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片岡 俊彦
大阪大学大学院
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森 勇蔵
大阪大学工学部精密工学科
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片岡 俊彦
大阪大 大学院工学研究科
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久保田 章亀
熊本大学大学院工学研究科
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杉山 和久
高知高専
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久保田 章亀
大阪大学大学院工学研究科
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安 弘
大阪電気通信大学工学部
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安 弘
阪電通
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石川 哲也
理化学研究所放射光科学総合研究センター
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杉山 和久
大阪大学大学院
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佐々木 都至
大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター
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佐々木 都至
大阪電気通信大学工学部
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森 勇蔵
大阪大 工
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森 勇臓
大阪大学大学院工学研究所
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矢橋 牧名
JASRI
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玉作 賢治
理研
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玉作 賢治
理化学研究所播磨研究所
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遠藤 勝義
阪大院工
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広瀬 喜久治
大阪大学大学院工学研究科
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石川 哲也
理化学研究所
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稲垣 耕司
阪大工
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井上 晴行
大阪大学大学院
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安 弘
大阪電通大
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有馬 健太
大阪大学大学院工学研究科
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矢橋 牧名
高輝度光科学研究センター放射光研究所
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スボロフ アレクセイ
高輝度光科学研究センター放射光研究所
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有馬 健太
大阪大学大学院工学研究科 精密科学・応用物理学専攻
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有馬 健太
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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SOUVOROV Alexei
高輝度光科学研究センター
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有馬 健太
大阪大学 大学院工学研究科
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打越 純一
大阪大学大学院
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打越 純一
大阪大学
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Souvorov A
高輝度光科学研究セ
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Souvorov A
高輝度光科学研究セ 放射光研
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山内 和人
阪大工
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有馬 健太
阪大院工
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湯本 博勝
高輝度光科学研究センター
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後藤 英和
阪大院工
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後藤 英和
大阪大学大学院工学研究科
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森田 健一
大阪大学大学院工学研究科
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湯本 博勝
JASRI/SPring-8
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斉藤 彰
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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金岡 政彦
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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島田 尚一
大阪大学大学院
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Yamauchi Kazuto
Department Of Precision Science And Technology Graduate School Of Engineering Osaka University
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谷口 浩之
大阪電気通信大学工学部
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斉藤 彰
大阪大学
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湯本 博勝
Jasri
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後藤 英和
大阪大学
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松山 智至
阪大院工
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原 英之
大阪大学大学院工学研究科 精密科学・応用物理学専攻
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松山 智至
大阪大学大学院
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湯本 博勝
大阪大学大学院
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原 英之
大阪大学 大学院工学研究科
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関戸 康裕
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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井上 晴行
精密科学専攻
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神尾 豪
大阪大学大学院工学研究科
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後藤 英和
阪大・工
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瑞原 重勲
大阪電気通信大学工学部
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押鐘 寧
精密科学専攻
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稲垣 耕司
阪大院工:jst-crest
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齋藤 彰
大阪大学大学院工学研究科
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矢橋 牧名
財団法人高輝度光科学研究センター
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石川 哲也
(独)理化学研究所播磨研究所
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西野 吉則
理化学研究所
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東 保男
高エネルギー加速器研究機構
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玉作 賢治
RIKEN
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石川 哲也
RIKEN
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東保 男
高エ研
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上野 一匡
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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幾島 悠喜
住友重機械工業株式会社
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大谷 和男
大阪工業技術試験所
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押鐘 寧
大阪大学大学院工学研究科
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大谷 和男
大阪工業技術研究所
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大谷 和男
工業技術院大阪工業技術研究所
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新林 洋介
大阪大学大学院工学研究科
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中越 亮祐
大阪大学大学院工学研究科
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今井 利幸
大阪大学大学院工学研究科
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東 保男
Kek
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斎藤 彰
大阪大学大学院工学研究科
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竹村 太一
精密科学専攻
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竹村 太一
大阪大学大学院工学研究科:(現)キヤノン(株)
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石川 哲也
理研
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石川 哲也
理研XFEL
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大橋 治彦
理研XFEL
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小畠 厳貴
荏原
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岡本 武志
阪大院工
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服部 梓
阪大院工
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坂本 正雄
阪大工
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石川 哲也
JASRI
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辻村 学
(株)荏原製作所
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當間 康
(株)荏原総合研究所
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小畠 厳貴
(株)荏原製作所
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松本 光弘
大阪大学大学院医学系研究科保健学専攻
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辻村 学
株式会社荏原製作所精密・電子事業本部
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大森 整
(独)理化学研究所
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矢橋 牧名
SPring-8 JASRI
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玉作 賢治
SPring-8 理研
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石川 哲也
SPring-8 理研
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大橋 治彦
理研xfel:jasri
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大橋 治彦
(財)高輝度光科学研究センター
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村田 順二
阪大院工
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石川 哲也
独立行政法人理化学研究所播磨研究所
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大橋 治彦
高輝度光科学研究センター放射光研究所
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當間 康
荏原総研
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後藤 英和
京都工芸繊維大学工芸学部
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漢 健太郎
大阪大学大学院工学研究科
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岡本 弥華
大阪大学大学院工学研究科
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杉山 和久
高知高等専門学校
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杉山 和久
高知高専専門学校
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當間 康
荏原総合研究所
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SOUVOROV Alexei
JASRI
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山村 和也
超精密研究センター
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西野 吉則
SPring-8
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堤 建一
日本電子(株)
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大橋 治彦
Jasri
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石川 哲也
理化学研究所 播磨研究所 構造生物物理研究室
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斎藤 彰
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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SOUVOROV A.
JASRI
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岸本 宏樹
大阪大学大学院精密科学専攻
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南部 征一郎
大阪大学大学院
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平岡 大治
光洋精工総合技術研究所
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石川 哲也
独立行政法人理化学研究所播磨研究所放射光科学総合研究センター
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石川 哲也
理化学研究所播磨研究所x線干渉光学研究室
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竹崎 尚之
大阪電気通信大学工学部
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中越 亮佑
大阪大学大学院工学研究科
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小野 倫也
大阪大学大学院工学研究科:大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター
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松本 光弘
三洋電機(株)
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服部 梓
大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター
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岡本 武志
大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻
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定國 峻
大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻
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村田 順二
大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻
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杉山 和人
高知高専
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石川 哲也
(独)理化学研究所・播磨研究所・放射光科学総合研究センター
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金村 一秀
大阪大学大学院
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藤原 宏樹
Ntn(株):大阪大学大学院工学研究科
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藤原 宏樹
Ntn(株)
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松本 光弘
三洋電機
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遠藤 勝義
大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター
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辻本 崇
Ntn(株)
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谷口 浩之
日本分光(株)
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井山 章吾
大阪大学大学院
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牧野 修之
大阪大学大学院
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坂本 正雄
阪大・工・精密
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松本 光弘
大阪大学大学院
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石川 哲也
理化学研究所 放射光科学総合研究センター
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小畠 巌貴
大阪大学大学院工学研究科
-
大橋 治彦
(財) 高輝度光科学研究センター
-
牧野 修之
大阪大学大学院:(現)シャープ(株)
-
坂本 正雄
新技術事業団
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杉江 利章
大阪大学大学院工学研究科
-
久保田 章亀
熊本大学大学院
-
齋藤 彰
大阪大学大学院
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三村 秀和
東京大学大学院工学系研究科
-
齋藤 彰
理研 Sprine-8:大阪大院工:科学技術振興機構icorp
-
小山 貴久
高輝度光科学研究センター
-
大橋 治彦
JASRI:SPrin-8
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山内 和人
大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専
-
山内 和人
大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻
-
八木 圭太
(株)荏原製作所精密・電子事業カンパニーCMP事業部CMPプロセス室プロセス開発グループ
-
辻村 学
(株)荏原製作所精密・電子事業カンパニー
-
佐野 泰久
大阪大学大学院工学研究科精密科学応用物理学専攻攻
-
佐野 泰久
大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻
-
森 勇蔵
大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター
-
大橋 治彦
高輝度光科学研究センター/SPring-8
著作論文
- X線ミラー用ナノ精度表面創成法の開発 : —形状修正加工の高分解能化とX線集光ミラーへの適応—
- 超純粋超高速せん断流によるシリコンウエハ表面の洗浄:汚染微粒子の除去特性
- プラズマCVMおよびEEMによる放射光用X線ミラーの作製とその応用 : 硬X線顕微鏡の開発
- コヒーレント照射でのX線全反射ミラー
- 触媒基準エッチング法
- 高精度非球面ミラーの加工技術
- 高分解能硬X線顕微鏡のためのミラーマニピュレータの開発 : 硬X線領域における50nm以下の回折限界集光の実現
- EEM (Elastic Emission Machining) によるナノ精度加工
- 超純水・高速せん断流による洗浄法の開発(第2報) : 超純水・高速せん断流によるCu除去メカニズムの研究
- 超純水・高速せん断流によるSi基板洗浄法の研究 : Si基板表面のDOP汚染の洗浄効果
- 硬X線ナノ集光用超高精度楕円ミラーの作製と1次元集光性能の評価
- EEM(Elastic Emission Machining)プロセスにおける微粒子表面の形態が加工表面に及ぼす影響
- EEM(Elastic Emission Machining)プロセスにおける加工液がSi(001)表面のマイクロラフネスに及ぼす影響
- EEM(Elastic Emission Machining)による4H-SiC(0001)表面の平滑化
- EEM(Elastic Emission Machining)によるSi(001)表面の平坦化(第2報) : 加工表面の原子像観察と構造評価
- EEM(Elastic Emission Machining)によるSi(001)表面の平坦化(第1報) : 半導体表面の超平坦化のための超清浄EEMシステムの開発
- 硬X線用斜入射平面ミラーの形状誤差が反射X線強度・位相分布に及ぼす影響の波動光学的評価
- 高精度X線ミラーのための干渉計を利用した形状計測システムの開発
- プラズマCVMおよびEEMによるシンクロトロン放射X線用楕円ミラーの作製と集光特性の評価
- プラズマCVMおよびEEMによるX線平面ミラーの加工と放射光による評価
- プラズマCVMおよびEEMによるX線光学素子の加工と放射光による評価
- 超清浄数値制御EEM(Elastic Emission Machining)の開発(第2報) -ノズル噴射流れを利用した加工ヘッドの開発-
- 超清浄数値制御EEM(Elastic Emission Machining)の開発(第1報) -超純水静圧軸受けを用いた数値制御ステージシステムの開発-
- 超純水・高速せん断流による洗浄法の開発(第1報) : Si基板表面のCu汚染の洗浄効果
- 超清浄EEM(Elastic Emission Machining)システムに関する研究 : 最適加工条件の探索
- 超清浄EEM (Elastic Emission Machining)加工システムの開発:加工表面の原子レベルでの評価
- 超清浄EEM(Elastic Emission Machining)システムに関する研究(第2報) : 原子像による加工表面の評価
- ナノパーティクル測定機によるシリコンウエハ面のナノ欠陥計測
- Elastic Emission Machiningにおける表面原子除去過程の解析とその機構の電子論的な解釈
- 第一原理分子動力学シミュレーションによるEEM(Elastic Emission Maching)加工機構の解明:加工物表面構造に対する反応性の依存性
- 超平坦化加工を施した4H-SiC(0001)表面 : 高品質グラフェン作製への応用
- 円すいころ軸受ころ大端面の最適曲率半径(機械要素,潤滑,設計,生産加工,生産システムなど)
- 傾斜角積分法による形状測定(第2報)-EEMよる修正加工前後の形状測定-
- 傾斜角積分法による形状測定(第1報)-製作した自動測定装置の性能-
- 第一原理分子動力学シミュレーションによるEEM(Elastic Emission Machining)加工特性の加工物材料(Si, Ge)依存性の解析
- 数値制御EEM(Elastic Emission Machining)加工システムの開発 : nmオーダでの加工精度の評価
- SPV(Surface Photo-voltage)スペクトロスコピーによる超精密加工表面評価法の開発
- EEM(Elastic Emission Machining)による超精密数値制御加工に関する研究(第1報) : nmオーダの形状修正加工システムの開発
- 超洗浄EEM(Elastic Emission Machining)システムに関する研究(第1報) : シリコン表面の平坦化及び評価
- 第一原理分子動力学シミュレーションによるEEM(Elastic Emission Machinig)加工機構の解明 : Si(001)表面とSiO_2微粒子の結合過程および分離過程の解明
- 光散乱法を用いたシリコンウエハ面の洗浄によるナノ構造評価
- レーザー光散乱法によるSiウエハ表面上のナノパーティクルの計測
- 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発 (第5報) : Siウエハ表面に対する洗浄前後の微粒子測定による表面評価
- ナノメータオーダの粒径測定機を用いたSiウエハ表面の微粒子および欠陥計測による表面評価
- ナノメータオーダの粒径測定機を用いたSiウェーハの洗浄による表面評価
- 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法 (第7報) -ウルトラクリーンルームでのSiウェーハ面の測定と微粒子測定表面評価-
- X線自由電子レーザー用大型集光ミラーの開発
- EEM (Elastic Emission Machining)用微粒子作製装置の開発
- EEM(Elastic Emission Machining)による超精密数値制御加工に関する研究(第3報) : 形状修正加工システムの高精度化
- 微粒子定機によるナノメータオーダのSiウエハ表面形状の測定
- 微粒子測定機を用いたSiウェハ表面におけるナノメータオーダのスクラッチ形状の測定
- EEM(Elastic Emission Machining)に関する研究 : 加工液中の溶存酸素がSiウエハ表面に与える影響
- 数値制御EEM(Elastic Emission Machining)加工システムの開発
- 光反射率スペクトルによるSiウエハ表面評価法の開発 : 装置の開発と加工表面評価
- 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第4報) : 光電子増倍管出力特性の定式化とダイナミックレンジの改善法
- プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)における加工現象の第一原理分子動力学シミュレーション(第5報)-Si表面とハロゲン原子の相互作用の解析(その3)-
- P3002-(4) 高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点「自然現象の精緻さによって製造技術をかえる」(【P3002】世界で活躍する若手研究者の育成に向けた大学院博士課程教育,特別企画)
- SACLAにおける1μmコヒーレント集光装置の開発
- 触媒表面基準エッチングによる単結晶SiC, GaN, ZnO表面の平滑化
- X線自由電子レーザーのナノ集光
- 半導体SiC基板の新しい研磨技術 : 触媒表面反応を利用した研磨技術の開発(話題の材料を活かす加工技術)
- Flattening of Si (001) Surface by EEM (Elastic Emission Machining):—Atomic Structure Identification of Processed Surface—
- グローバルCOEプログラムを振り返って:—自然現象の精緻さによって製造技術をかえる—