プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)における加工現象の第一原理分子動力学シミュレーション(第5報)-Si表面とハロゲン原子の相互作用の解析(その3)-
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概要
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- 1995-09-01
著者
-
佐野 泰久
阪大院工
-
山内 和人
阪大院工
-
坂本 正雄
阪大工
-
森 勇藏
大阪大学大学院工学研究科
-
広瀬 喜久治
大阪大学大学院工学研究科
-
後藤 英和
京都工芸繊維大学工芸学部
-
山内 和人
大阪大学大学院工学研究科
-
山村 和也
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
-
佐野 泰久
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
-
森 勇藏
大阪大学大学院 工学研究科
-
後藤 英和
阪大院工
-
佐野 泰久
大阪大学大学院工学研究科
-
坂本 正雄
阪大・工・精密
-
坂本 正雄
新技術事業団
-
山村 和也
大阪大学大学院
-
山内 和人
大阪大学大学院 工学研究科
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