EEM(Elastic Emission Machining)による4H-SiC(0001)表面の平滑化
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
Silicon carbide is a leading semiconductor material for high temperature, high frequency, and high power applications, with excellent properties such as high electron mobility, large breakdown voltage, good thermal conductivity and high chemical stability. Precise surface preparation techniques to make atomically flat and defect-free SiC surfaces are strongly demanded in the next-generation semiconductor technology. However, effective technique dose not exist particularly for surface smoothing. EEM (Elastic Emission Machining), which is a precise surface preparation technique utilizing chemical reactions between solid surfaces, was applied to solve the problems. In this work, EEM is employed to flattening 4H-SiC (0001) surfaces to clarify the flattening performance and the crystallographic nature of the processed surface. Prepared surfaces are observed and characterized by PSI (Phase Shifting Interferometer), AFM (Atomic Force Microscopy) and LEED (Low Energy Electron Diffraction). Obtained images show that the processed surface has atomic-level flatness, and subsurface damages and surface scratches of the pre-processed surface are completely removed.
- 社団法人精密工学会の論文
- 2005-04-05
著者
-
佐野 泰久
阪大院工
-
山内 和人
阪大院工
-
森 勇藏
大阪大学大学院工学研究科
-
三村 秀和
阪大院工
-
山内 和人
大阪大学大学院工学研究科
-
佐野 泰久
大阪大 大学院工学研究科
-
三村 秀和
大阪大 大学院工学研究科
-
山村 和也
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
-
三村 秀和
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
-
佐野 泰久
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
-
久保田 章亀
熊本大学大学院工学研究科
-
森 勇藏
大阪大学大学院 工学研究科
-
久保田 章亀
大阪大学大学院工学研究科
-
Yamamura K
Kyoto Univ. Kyoto
-
三村 秀和
大阪大学大学院工学研究科 精密科学・応用物理学専攻
-
森 勇蔵
大阪大学工学部精密工学科
-
佐野 泰久
大阪大学大学院工学研究科
-
森 勇蔵
大阪大 工
-
森 勇臓
大阪大学大学院工学研究所
-
山村 和也
大阪大学大学院
-
山内 和人
大阪大学大学院 工学研究科
-
三村 秀和
大阪大学大学院工学研究科
関連論文
- 22pGQ-6 超平坦化加工した4H-SiC(0001)表面上のグラフェン(22pGQ 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21pPSA-27 4H-SiC(0001)表面上のグラフェン形成過程の組成・構造解析(21pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 大気圧プラズマによるエッチングを応用した種々の加工法とその特性 (特集 最近の興味深いビーム加工技術と将来動向)
- Advanced Kirkpatrick-Baez ミラー光学系の開発
- 硬X線ナノ集光ビーム用波面誤差算出法の開発
- Unraveling Genuine First Order Bulk Valence Transition and Kondo Resonance Behaviors in YbInCu_4 by High Energy Photoelectron Spectroscopy
- 超純粋超高速せん断流によるシリコンウエハ表面の洗浄:汚染微粒子の除去特性
- Gravure & Interview 精密工学の最前線 未踏の光源、X線自由電子レーザー開発に挑む!--理研・JASRI X線自由電子レーザー計画合同推進本部
- プラズマCVMおよびEEMによる放射光用X線ミラーの作製とその応用 : 二枚の平面ミラーを用いたX線干渉計の開発
- プラズマCVMおよびEEMによる放射光用X線ミラーの作製とその応用 : 硬X線顕微鏡の開発