Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)におけるポリシング加工に関する研究(第3報) -加工面の平坦度と電極形状ならびに試料保持方法の相関(その2)-
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概要
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- 1996-09-01
著者
-
佐野 泰久
阪大院工
-
山内 和人
阪大院工
-
森 勇蔵
大阪大学大学院工学研究科
-
山内 和人
大阪大学大学院工学研究科
-
山村 和也
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
-
佐野 泰久
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
-
佐野 泰久
大阪大学大学院工学研究科
-
山村 和也
大阪大学大学院
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