高精度X線ミラーのための干渉計を利用した形状計測システムの開発

元データ 2003-06-05 社団法人精密工学会

概要

A figure measurement system with a stitching method has been developed for evaluation and fabrication of the ultraprecise hard X-ray mirror optics. This system was constructed by two interferometers. One is the Michelson-type microscopic interferometer which is improved to keep the focus distance within 0.1μm. Another is the Fizeau's interferometer employed to compensate stitching error in the long spatial wavelength range. To estimate the absolute accuracy in this figure measurement system, the reflection X-ray intensity distributions of flat and asphericl mirrors, which are fabricated by us, predicted by wave-optical simulation based on measured profile and compared with actually observed distributions. As the result, they are in good agreements. These agreements prove that the developed system has sub-nanometer absolute accuracy in all the spatial wavelength range longer than 0.5mm, because sub-nanometer figure error in those spatial wavelength ranges are known to affect reflection X-ray intensity distributions.

著者

玉作 賢治 理研
佐野 泰久 阪大院工
山内 和人 阪大院工
森 勇藏 大阪大学大学院工学研究科
三村 秀和 阪大院工
玉作 賢治 理化学研究所播磨研究所
矢橋 牧名 高輝度光科学研究センター放射光研究所
石川 哲也 理化学研究所
山内 和人 大阪大学大学院工学研究科
佐野 泰久 大阪大 大学院工学研究科
三村 秀和 大阪大 大学院工学研究科
山村 和也 大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
三村 秀和 大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
佐野 泰久 大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
スボロフ アレクセイ 高輝度光科学研究センター放射光研究所
久保田 章亀 熊本大学大学院工学研究科
石川 哲也 理化学研究所放射光科学総合研究センター
森 勇藏 大阪大学大学院 工学研究科
上野 一匡 大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
久保田 章亀 大阪大学大学院工学研究科
SOUVOROV Alexei 高輝度光科学研究センター
Yamamura K Kyoto Univ. Kyoto
関戸 康裕 大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
三村 秀和 大阪大学大学院工学研究科 精密科学・応用物理学専攻
Souvorov A 高輝度光科学研究セ
Souvorov A 高輝度光科学研究セ 放射光研
佐野 泰久 大阪大学大学院工学研究科
山村 和也 大阪大学大学院
山内 和人 大阪大学大学院 工学研究科
三村 秀和 大阪大学大学院工学研究科

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