山内 和人 | 大阪大学大学院工学研究科
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概要
関連著者
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山内 和人
大阪大学大学院工学研究科
-
山内 和人
阪大院工
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三村 秀和
大阪大 大学院工学研究科
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森 勇藏
大阪大学大学院 工学研究科
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三村 秀和
阪大院工
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佐野 泰久
阪大院工
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森 勇蔵
大阪大学大学院工学研究科
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Yamamura K
Kyoto Univ. Kyoto
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森 勇藏
大阪大学大学院工学研究科
-
三村 秀和
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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佐野 泰久
大阪大 大学院工学研究科
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遠藤 勝義
大阪大学大学院工学研究科
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遠藤 勝義
大阪大学大学院
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佐野 泰久
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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稲垣 耕司
大阪大学大学院工学研究科
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山村 和也
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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杉山 和久
高知高専
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片岡 俊彦
大阪大学大学院
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石川 哲也
理化学研究所放射光科学総合研究センター
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矢橋 牧名
JASRI
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玉作 賢治
理研
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玉作 賢治
理化学研究所播磨研究所
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石川 哲也
理化学研究所
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久保田 章亀
熊本大学大学院工学研究科
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安 弘
大阪電気通信大学工学部
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遠藤 勝義
阪大院工
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久保田 章亀
大阪大学大学院工学研究科
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佐々木 都至
大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター
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山内 和人
大阪大学
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有馬 健太
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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有馬 健太
大阪大学 大学院工学研究科
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杉山 和久
大阪大学大学院
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矢橋 牧名
高輝度光科学研究センター放射光研究所
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有馬 健太
阪大院工
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スボロフ アレクセイ
高輝度光科学研究センター放射光研究所
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SOUVOROV Alexei
高輝度光科学研究センター
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広瀬 喜久治
大阪大学大学院工学研究科
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稲垣 耕司
阪大工
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有馬 健太
大阪大学大学院工学研究科 精密科学・応用物理学専攻
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打越 純一
大阪大学大学院
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岡本 武志
阪大院工
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服部 梓
阪大院工
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後藤 英和
大阪大学
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後藤 英和
大阪大学大学院工学研究科
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森田 健一
大阪大学大学院工学研究科
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松山 智至
阪大院工
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湯本 博勝
JASRI/SPring-8
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矢橋 牧名
財団法人高輝度光科学研究センター
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石川 哲也
(独)理化学研究所播磨研究所
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森 勇藏
大阪大学
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矢橋 牧名
(財)高輝度光科学研究センタービームライン・技術部門
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西野 吉則
理化学研究所
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斉藤 彰
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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金岡 政彦
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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原 英之
大阪大学 大学院工学研究科
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島田 尚一
大阪大学大学院
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石川 哲也
理研
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広瀬 喜久治
大阪大学
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杉山 和久
大阪大学
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稲垣 耕司
大阪大学
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齋藤 彰
大阪大学大学院工学研究科
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矢橋 牧名
理研・jasri X線自由電子レーザー合同計画推進本部
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石川 哲也
独立行政法人理化学研究所播磨研究所
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山村 和也
大阪大学
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佐野 泰久
大阪大学
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原 英之
大阪大学大学院工学研究科 精密科学・応用物理学専攻
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松山 智至
大阪大学大学院
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湯本 博勝
大阪大学大学院
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石川 哲也
理化学研究所 播磨研究所 構造生物物理研究室
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関戸 康裕
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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押鐘 寧
大阪大学大学院工学研究科
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石川 哲也
独立行政法人理化学研究所播磨研究所放射光科学総合研究センター
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石川 哲也
理化学研究所播磨研究所x線干渉光学研究室
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加藤 有香子
JASRI
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石川 哲也
理研XFEL
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松井 文彦
奈良先端大物質創成
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加藤 有香子
Jasri Spring-8
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西嘉山 徳之
奈良先端大物質
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後藤 謙太郎
奈良先端大物質
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前島 尚行
奈良先端大物質
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松井 公佑
奈良先端大物質
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松下 智裕
JASRI, SPring-8
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橋本 美絵
奈良先端大物質
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大門 寛
奈良先端大物質
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田中 攻
奈良先端大物質創成
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大門 寛
奈良先端科学技術大学院大学
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坂本 正雄
阪大工
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石川 哲也
JASRI
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前島 尚行
奈良先端大物質創成:jasri Spring-8
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石川 哲也
理研・播磨研
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大森 整
(独)理化学研究所
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半田 宗一郎
阪大院工
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木村 隆志
阪大院工
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西野 吉則
理研
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松下 智裕
Jasri
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松下 智裕
(財)高輝度光科学研究センター
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矢橋 牧名
理化学研究所
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村田 順二
阪大院工
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大門 寛
奈良先端大
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後藤 英和
京都工芸繊維大学工芸学部
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後藤 謙太郎
奈良先端大物質創成
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西嘉山 徳之
奈良先端大物質創成
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橋本 美絵
奈良先端大物質創成
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松井 公佑
奈良先端大物質創成
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東 保男
高エネルギー加速器研究機構
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三村 秀和
大阪大学
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SOUVOROV A.
(財)高輝度光科学研究センター
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玉作 賢治
RIKEN
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石川 哲也
RIKEN
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堤 建一
日本電子(株)
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東保 男
高エ研
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上野 一匡
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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幾島 悠喜
住友重機械工業株式会社
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大谷 和男
大阪工業技術試験所
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玉作 賢治
独立行政法人理化学研究所播磨研究所
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大谷 和男
大阪工業技術研究所
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大谷 和男
工業技術院大阪工業技術研究所
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新林 洋介
大阪大学大学院工学研究科
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辛 埴
東大物性研
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菅 滋正
阪大基礎工
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大森 整
理研
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今田 真
阪大基礎工
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大橋 治彦
理研XFEL
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小畠 厳貴
荏原
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當間 康
(株)荏原総合研究所
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小畠 厳貴
(株)荏原製作所
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松本 光弘
大阪大学大学院医学系研究科保健学専攻
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斉藤 彰
大阪大学基礎工学部精密科学
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矢橋 牧名
SPring-8 JASRI
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玉作 賢治
SPring-8 理研
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石川 哲也
SPring-8 理研
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Chainani A.
理研:spring-8
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大橋 治彦
理研xfel:jasri
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大橋 治彦
(財)高輝度光科学研究センター
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網塚 浩
北大理
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藤井 正輝
阪大院工
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脇岡 敏之
阪大院工
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山川 大輔
阪大院工
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玉作 賢治
理研/SPring-8
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西野 吉則
理研/SPring-8
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定国 峻
阪大院工
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SUGA Shigemasa
Graduate School of Engineering Science, Osaka University
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SEKIYAMA Akira
Graduate School of Engineering Science, Osaka University
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IMADA Shin
Graduate School of Engineering Science, Osaka University
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YAMAGUCHI Junichi
Graduate School of Engineering Science, Osaka University
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SHIGEMOTO Akihiko
Graduate School of Engineering Science, Osaka University
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IRIZAWA Akinori
Graduate School of Science and Technology, Kobe University
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YOSHIMURA Kazuyoshi
Graduate School of Science, Kyoto University
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YABASHI Makina
SPring-8/Riken
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TAMASAKU Kenji
SPring-8/Riken
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HIGASHIYA Atsushi
SPring-8/Riken
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ISHIKAWA Tetsuya
SPring-8/Riken
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大橋 治彦
高輝度光科学研究センター放射光研究所
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當間 康
荏原総研
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漢 健太郎
大阪大学大学院工学研究科
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岡本 弥華
大阪大学大学院工学研究科
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杉山 和久
高知高等専門学校
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杉山 和久
高知高専専門学校
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HORIKAWA Yuka
RIKEN/SPring-8
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CHAINANI Ashish
RIKEN/SPring-8
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OHASHI Haruhiko
JASRI/SPring-8
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當間 康
荏原総合研究所
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SOUVOROV Alexei
JASRI
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山村 和也
超精密研究センター
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西野 吉則
SPring-8
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Sekiyama Akira
Graduate School Of Engineering Science Osaka University
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Imada S
Graduate School Of Engineering Science Osaka University
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Imada Shin
Osaka Univ. Osaka Jpn
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Tamasaku K
Department Of Physics And Department Of Complexity Science And Engineering University Of Tokyo
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Tamasaku Kenji
Superconductivity Research Course University Of Tokyo
-
Tamasaku Kenji
Superconductivity Research Course The Niversity Of Tokyo
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Shigemoto Akihiko
Osaka Univ. Osaka
-
Shigemoto Akihiko
Graduate School Of Engineering Science Osaka University
-
Irizawa Akinori
Kobe Univ. Kobe
-
Irizawa Akinori
Graduate School Of Science And Technology Kobe University
-
Higashiya Atsushi
Riken Hyogo
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Vlaicu Aurel
Harima Office National Institute For Materials Science:(present Office)national Institute Of Materia
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遠藤 勝義
大阪大学
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大森 整
独立行政法人理化学研究所
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大橋 治彦
Jasri
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Park Chon-Yun
成均館大理
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YAMAMOTO Kazuya
Harima Institute, RIKEN (The Institute of Physical and Chemical Research)
-
YAMAOKA Hitoshi
Harima Institute, RIKEN (The Institute of Physical and Chemical Research)
-
TSUJII Naohito
Quantum Beam Center, National Institute for Materials Science
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OOHASHI Hirofumi
Harima Office, National Institute for Materials Science
-
SAKAKURA Shusuke
Institute for Chemical Research, Kyoto University
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TOCHIO Tatsuki
Keihanna Interaction Plaza Incorporated
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ITO Yoshiaki
Institute for Chemical Research, Kyoto University
-
CHAINANI Ashish
Harima Institute, RIKEN (The Institute of Physical and Chemical Research)
-
SHIN Shik
Institute for Solid State Physics, University of Tokyo
-
TSUJII Naohito
National Institute for Materials Science
-
佐野 泰久
大阪大学 大学院工学研究科
-
山内 和人
大阪大学 大学院工学研究科
-
糟谷 忠雄
東北大学理学部
-
斎藤 彰
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
-
SOUVOROV A.
JASRI
-
岸本 宏樹
大阪大学大学院精密科学専攻
-
南部 征一郎
大阪大学大学院
-
平岡 大治
光洋精工総合技術研究所
-
安武 潔
大阪大学大学院工学研究科
著作論文
- 22pGQ-6 超平坦化加工した4H-SiC(0001)表面上のグラフェン(22pGQ 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21pPSA-27 4H-SiC(0001)表面上のグラフェン形成過程の組成・構造解析(21pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 大気圧プラズマによるエッチングを応用した種々の加工法とその特性 (特集 最近の興味深いビーム加工技術と将来動向)
- X線ミラー用ナノ精度表面創成法の開発 : —形状修正加工の高分解能化とX線集光ミラーへの適応—
- Advanced Kirkpatrick-Baez ミラー光学系の開発
- 超平坦化加工を施した4H-SiC(0001)表面--高品質グラフェン作製への応用 (第29回表面科学学術講演会特集号(3))
- 硬X線ナノ集光ビーム用波面誤差算出法の開発
- Unraveling Genuine First Order Bulk Valence Transition and Kondo Resonance Behaviors in YbInCu_4 by High Energy Photoelectron Spectroscopy
- 超純粋超高速せん断流によるシリコンウエハ表面の洗浄:汚染微粒子の除去特性
- プラズマCVMおよびEEMによる放射光用X線ミラーの作製とその応用 : 二枚の平面ミラーを用いたX線干渉計の開発
- プラズマCVMおよびEEMによる放射光用X線ミラーの作製とその応用 : 硬X線顕微鏡の開発
- コヒーレント照射でのX線全反射ミラー
- 触媒基準エッチング法(CAtalyst Referred Ething: CARE)の開発--SiC, GaN基板加工への応用 (特集 グリーンエネルギー時代を支える先進加工技術とその課題)
- X線自由電子レーザ集光ミラーの開発
- 触媒基準エッチング法
- 高精度非球面ミラーの加工技術
- 高分解能硬X線顕微鏡のためのミラーマニピュレータの開発 : 硬X線領域における50nm以下の回折限界集光の実現
- EEM (Elastic Emission Machining) によるナノ精度加工
- 超純水・高速せん断流による洗浄法の開発(第2報) : 超純水・高速せん断流によるCu除去メカニズムの研究
- 超純水・高速せん断流によるSi基板洗浄法の研究 : Si基板表面のDOP汚染の洗浄効果
- 硬X線ナノ集光用超高精度楕円ミラーの作製と1次元集光性能の評価
- EEM(Elastic Emission Machining)プロセスにおける微粒子表面の形態が加工表面に及ぼす影響
- EEM(Elastic Emission Machining)プロセスにおける加工液がSi(001)表面のマイクロラフネスに及ぼす影響
- EEM(Elastic Emission Machining)による4H-SiC(0001)表面の平滑化
- EEM(Elastic Emission Machining)によるSi(001)表面の平坦化(第2報) : 加工表面の原子像観察と構造評価
- EEM(Elastic Emission Machining)によるSi(001)表面の平坦化(第1報) : 半導体表面の超平坦化のための超清浄EEMシステムの開発
- 硬X線用斜入射平面ミラーの形状誤差が反射X線強度・位相分布に及ぼす影響の波動光学的評価
- Intermediate-Valence Behavior of YbCu_Al_x around Quantum Critical Point Measured by Resonant Inelastic X-ray Scattering at Yb L_3 Absorption Edge(Condensed matter: electronic structure and electrical, magnetic, and optical properties)
- 高精度X線ミラーのための干渉計を利用した形状計測システムの開発
- プラズマCVMおよびEEMによるシンクロトロン放射X線用楕円ミラーの作製と集光特性の評価
- プラズマCVMおよびEEMによるX線平面ミラーの加工と放射光による評価
- 数値制御プラズマCVMおよび数値制御EEMによる硬X線集光用超精密非球面ミラーの加工
- プラズマCVMおよびEEMによるX線光学素子の加工と放射光による評価
- 超清浄数値制御EEM(Elastic Emission Machining)の開発(第2報) -ノズル噴射流れを利用した加工ヘッドの開発-
- 超清浄数値制御EEM(Elastic Emission Machining)の開発(第1報) -超純水静圧軸受けを用いた数値制御ステージシステムの開発-
- 超純水・高速せん断流による洗浄法の開発(第1報) : Si基板表面のCu汚染の洗浄効果
- 超清浄EEM(Elastic Emission Machining)システムに関する研究 : 最適加工条件の探索
- 超清浄EEM (Elastic Emission Machining)加工システムの開発:加工表面の原子レベルでの評価
- 超清浄EEM(Elastic Emission Machining)システムに関する研究(第2報) : 原子像による加工表面の評価
- ナノパーティクル測定機によるシリコンウエハ面のナノ欠陥計測
- Elastic Emission Machiningにおける表面原子除去過程の解析とその機構の電子論的な解釈
- 第一原理分子動力学シミュレーションによるEEM(Elastic Emission Maching)加工機構の解明:加工物表面構造に対する反応性の依存性
- 原子レベルで平坦な表面の創成技術
- 超平坦化加工を施した4H-SiC(0001)表面 : 高品質グラフェン作製への応用
- 円すいころ軸受ころ大端面の最適曲率半径(機械要素,潤滑,設計,生産加工,生産システムなど)
- 円すいころ軸受ころ大端面の最適曲率半径 (特集 環境対応) -- (環境対応商品/技術)
- 傾斜角積分法による形状測定(第2報)-EEMよる修正加工前後の形状測定-
- 傾斜角積分法による形状測定(第1報)-製作した自動測定装置の性能-
- 第一原理分子動力学シミュレーションによるEEM(Elastic Emission Machining)加工特性の加工物材料(Si, Ge)依存性の解析
- 数値制御EEM(Elastic Emission Machining)加工システムの開発 : nmオーダでの加工精度の評価
- SPV(Surface Photo-voltage)スペクトロスコピーによる超精密加工表面評価法の開発
- EEM(Elastic Emission Machining)による超精密数値制御加工に関する研究(第1報) : nmオーダの形状修正加工システムの開発
- 超洗浄EEM(Elastic Emission Machining)システムに関する研究(第1報) : シリコン表面の平坦化及び評価
- 超純水・高速せん断流による洗浄法の開発(第2報) : 超純水・高速せん断流によるCu除去メカニズムの研究
- 24aPS-73 4H-SiC(0001)上のグラフェン形成過程の追跡と層分解構造解析(24aPS 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 第一原理分子動力学シミュレーションによるEEM(Elastic Emission Machinig)加工機構の解明 : Si(001)表面とSiO_2微粒子の結合過程および分離過程の解明
- 光散乱法を用いたシリコンウエハ面の洗浄によるナノ構造評価
- レーザー光散乱法によるSiウエハ表面上のナノパーティクルの計測
- 円筒ころ軸受における対数クラウニングの公差設計
- 次世代の超精密加工 : 原子制御製造プロセスの創出に向けて(超精密加工専門委員会,専門委員会・分科会研究レビュー)
- 円筒ころ軸受における部分円弧クラウニングと対数クラウニングの実験的比較(機械要素,潤滑,工作,生産管理など)
- 超精密加工専門委員会活動報告(5.3 専門委員会・分科会の活動,5.精密工学の輪,創立75周年記念)
- 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発 (第5報) : Siウエハ表面に対する洗浄前後の微粒子測定による表面評価
- ナノメータオーダの粒径測定機を用いたSiウエハ表面の微粒子および欠陥計測による表面評価
- ナノメータオーダの粒径測定機を用いたSiウェーハの洗浄による表面評価
- 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法 (第7報) -ウルトラクリーンルームでのSiウェーハ面の測定と微粒子測定表面評価-
- X線自由電子レーザー用大型集光ミラーの開発
- 未踏の光源、X線自由電子レーザー開発に挑む!
- EEM (Elastic Emission Machining)用微粒子作製装置の開発
- EEM(Elastic Emission Machining)による超精密数値制御加工に関する研究(第3報) : 形状修正加工システムの高精度化
- 微粒子定機によるナノメータオーダのSiウエハ表面形状の測定
- 微粒子測定機を用いたSiウェハ表面におけるナノメータオーダのスクラッチ形状の測定
- 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法 (第6報) -Siウェーハ面の測定と微粒子付着分布による表面評価-
- プラズマCVMによる機能材料の切断加工 : 内周刃型切断加工装置の試作とその切断加工特性
- EEM(Elastic Emission Machining)に関する研究 : 加工液中の溶存酸素がSiウエハ表面に与える影響
- EEM(Elastic Emission Machining) 加工システムの超清浄化
- EEMにおける原子除去過程の第一原理分子動力学シミュレーション
- EEMにおける原子除去過程の第一原理分子動力学シミュレーション
- 数値制御EEM(Elastic Emission Machining)加工システムの開発
- Plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)におけるポリシング加工に関する研究(第3報) -加工面の平坦度と電極形状ならびに試料保持方法の相関(その2)-
- プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)における切断加工に関する研究 -切断加工用高速回転電極の試作とその加工特性-
- 光反射率スペクトルによるSiウエハ表面評価法の開発 : 装置の開発と加工表面評価
- プラズマCVMの開発
- 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第4報) : 光電子増倍管出力特性の定式化とダイナミックレンジの改善法
- 次世代を担う原子・電子レベルの先端技術 : 超精密加工専門委員会の目指すところ(超精密加工専門委員会)(専門委員会研究レビュー)
- EEM(Elastic Emission Machining)における加工現象の第一原理分子動力学シミュレーション (第3報) -化学結合の分子軌道計算-
- プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)における加工現象の第一原理分子動力学シミュレーション(第5報)-Si表面とハロゲン原子の相互作用の解析(その3)-
- P3002-(4) 高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点「自然現象の精緻さによって製造技術をかえる」(【P3002】世界で活躍する若手研究者の育成に向けた大学院博士課程教育,特別企画)
- SACLAにおける1μmコヒーレント集光装置の開発
- 触媒表面基準エッチングによる単結晶SiC, GaN, ZnO表面の平滑化
- 次世代の超精密加工原子制御製造プロセスの創出に向けて
- グローバルCOEプログラムを振り返って:—自然現象の精緻さによって製造技術をかえる—