プラズマCVMの開発
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概要
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Conventional machining processes, such as turning, grinding, or lapping are still applied for many materials including functional ones. But those processes are accompanied with deformed layer, so that machined surfaces cannot perform original functions. In order to avoid such points, Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining) has been developed. Plasma CVM is a chemical machining method using neutral radicals, which are generated by the atmospheric pressure plasma. By using the high-speed rotary electrode for generating the plasma, the machining efficiency which was equal to the mechanical machining method was achieved. Furthermore, , generated plasma is localized around the electrode with effect of high-pressure atmosphere, so good spatial resoution of machining. is also achieved. The defect density of machined surface is very low, and it is equivalent to the chemical etching.
- 2000-08-05
著者
-
佐野 泰久
阪大院工
-
山内 和人
阪大院工
-
森 勇藏
大阪大学大学院工学研究科
-
山内 和人
大阪大学大学院工学研究科
-
佐野 泰久
大阪大 大学院工学研究科
-
山村 和也
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
-
佐野 泰久
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
-
森 勇藏
大阪大学大学院 工学研究科
-
佐野 泰久
大阪大学大学院工学研究科
-
山村 和也
大阪大学大学院
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