遠藤 勝義 | 阪大院工

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概要

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• 阪大院工の論文著者

関連著者

• 遠藤 勝義

  阪大院工

• 遠藤 勝義

  大阪大学大学院工学研究科

• 遠藤 勝義

  大阪大学大学院

• 森 勇藏

  大阪大学大学院 工学研究科

• 片岡 俊彦

  大阪大 大学院工学研究科

• 森 勇蔵

  大阪大学工学部精密工学科

• 片岡 俊彦

  阪大院工

• 森 勇藏

  大阪大学大学院工学研究科

• 押鐘 寧

  阪大院工

• 山内 和人

  阪大院工

• 井上 晴行

  阪大院工

• 山内 和人

  大阪大学大学院工学研究科

• Yamamura K

  Kyoto Univ. Kyoto

• 佐野 泰久

  阪大院工

• 広瀬 喜久治

  阪大院工

• 有馬 健太

  阪大院工

• 稲垣 耕司

  阪大工

• 稲垣 耕司

  大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻

• 稲垣 耕司

  阪大院工:jst-crest

• 押鐘 寧

  大阪大 大学院工学研究科

• 服部 梓

  阪大院工

• 佐野 泰久

  大阪大 大学院工学研究科

• 稲垣 耕司

  阪大院工

• 森 勇蔵

  大阪大学大学院工学研究科

• 有馬 健太

  大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻

• 有馬 健太

  大阪大学 大学院工学研究科

• 佐野 泰久

  大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻

• 片岡 俊彦

  大阪大学大学院

• 安 弘

  大阪電気通信大学工学部

• 平井 隆之

  阪大院

• 後藤 英和

  阪大院工

• 平井 隆之

  阪大院基礎工

• 佐野 泰久

  大阪大学大学院工学研究科

• 安 弘

  大阪電通大

• 大門 寛

  奈良先端科学技術大学院大学

• 後藤 英和

  大阪大学

• 後藤 英和

  大阪大学大学院工学研究科

• 森田 健一

  大阪大学大学院工学研究科

• 大門 寛

  奈良先端大

• 山村 和也

  大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻

• 有馬 健太

  大阪大学大学院工学研究科 精密科学・応用物理学専攻

• 佐々木 都至

  大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター

• 服部 賢

  奈良先端大物質

• 井上 晴行

  大阪大学大学院

• 服部 賢

  奈良先端大

• 後藤 英和

  阪大・工

• 野口 彰宏

  大阪大学大学院工学研究科

• 中川 寛文

  阪大院

• 大門 寛

  奈良先端大物質

• 広瀬 喜久治

  阪大工

• 三村 秀和

  阪大院工

• 三村 秀和

  大阪大 大学院工学研究科

• 三村 秀和

  大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻

• 山村 和也

  阪大院工

• 堤 建一

  日本電子(株)

• 服部 賢

  奈良先端大物質創成

• 柴原 正文

  兵庫県立工業技術センター

• 杉山 剛

  大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻

• 押鐘 寧

  大阪大学大学院工学研究科

• 三村 秀和

  大阪大学大学院工学研究科 精密科学・応用物理学専攻

• 中野 元博

  大阪大学大学院工学研究科

• Hirose K

  Department Of Precision Science And Technology Osaka University

• 遠藤 勝義

  阪大工

• 広瀬 喜久治

  阪大院・工

• 杉山 剛

  大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻:(現)(株)ニコン

• 横山 能幸

  阪大院

• 松田 栄輝

  阪大院

• 森 勇介

  阪大・院工

• 岡本 武志

  阪大院工

• 小平 正和

  大阪大学大学院工学研究科

• 吉村 政志

  大阪大学大学院工学研究科

• 北岡 康夫

  大阪大学大学院工学研究科

• 石川 哲也

  理化学研究所

• 村田 順二

  阪大院工

• ENDO Katsuyoshi

  Research Center for Ultra-precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka Un

• 久保田 章亀

  熊本大学大学院工学研究科

• 石川 哲也

  理化学研究所放射光科学総合研究センター

• 杉山 和久

  高知高専

• 小野 倫也

  阪大院工

• 久保田 章亀

  大阪大学大学院工学研究科

• 稲垣 耕司

  大阪大学大学院工学研究科

• 森 勇介

  阪大院工

• 吉村 政志

  阪大院工

• 北岡 康夫

  阪大院工

• 森田 瑞穂

  大阪大学大学院工学研究科

• 川島 祥一

  大阪大学大学院工学研究科

• 篠原 亘

  (株)三洋電機

• 森田 瑞穂

  大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻

• 垣内 弘章

  大阪大学大学院工学研究科

• 垣内 弘章

  大阪大学 大学院工学研究科

• 佐々木 都至

  大阪電気通信大学工学部

• Yamauchi Kazuto

  Department Of Precision Science And Technology Graduate School Of Engineering Osaka University

• ARIMA Kenta

  Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University

• HIROSE Kikuji

  Department of Precision Science and Technology, Osaka University

• 池田 学

  大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻

• 北岡 康夫

  大阪大学大学院 工学研究科

• 吉村 政志

  大阪大学大学院 工学研究科

• 森 勇蔵

  阪大院

• 山内 和人

  阪大工

• 垣内 弘章

  大阪大学工学部

• 北岡 康夫

  大阪大学工学部

• 杉山 和久

  阪大院

• 宮本 陽介

  阪大院工

• 玄羽 哲也

  阪大院工

• 野口 彰宏

  阪大院

• 服部 梓

  阪大産研

• 川島 祥一

  阪大院

• 堀江 伸哉

  阪大工

• 矢橋 牧名

  JASRI

• 玉作 賢治

  理研

• 坂本 正雄

  阪大工

• 広瀬 喜久治

  大阪大学大学院工学研究科

• 斉藤 彰

  大阪大学基礎工学部精密科学

• 杉山 弘

  高エネルギー加速器研究機構物質構造科学研究所

• 松山 智至

  阪大院工

• 湯本 博勝

  JASRI/SPring-8

• 玉作 賢治

  理化学研究所播磨研究所

• 矢橋 牧名

  高輝度光科学研究センター放射光研究所

• 石川 哲也

  (独)理化学研究所播磨研究所

• 定国 峻

  阪大院工

• IKEDA Manabu

  Department of Psychiatry and Neuropathobiology, Faculty of Medical and Pharmaceutical Sciences, Kuma

• 小野 倫也

  阪大工

• 西野 吉則

  理化学研究所

• 張 小威

  高エネ研物構研

• 青野 正和

  大阪大学大学院工学研究科

• 東 保男

  高エネルギー加速器研究機構

• 原 英之

  大阪大学大学院工学研究科 精密科学・応用物理学専攻

• MORI Yuzo

  Research Center for Ultra-precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka Un

• 松山 智至

  大阪大学大学院

• 湯本 博勝

  大阪大学大学院

• 東保 男

  高エ研

• 東 保男

  高エネ研

• 森脇 祐太

  奈良先端大物質

• 山本 愛士

  奈良先端大物質

• 上野 一匡

  大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻

• 安藤 正海

  高エネルギー加速器研究機構

• 幾島 悠喜

  住友重機械工業株式会社

• 安藤 正海

  高エネ研

• 桑原 祐司

  理研

• 原 英之

  大阪大学 大学院工学研究科

• 赤井 恵

  大阪大学大学院工学研究科

• 桑原 裕司

  阪大院工

• 川村 史朗

  阪大院工

• 赤井 恵

  阪大院工

• 河村 史郎

  阪大院工

• OKADA Hiromi

  Department of Hemostasis and Thrombosis, Clinical Research Center, Nagoya Medical Center

• 山本 雄介

  大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻

• 掛谷 悟史

  阪大・工

• 広瀬 喜久冶

  阪大院工

• 和田 勝男

  株式会社シリコンテクノロジー

• 後藤 英和

  大阪大学 大学院工学研究科 精密科学・応用物理学専攻

• 稲垣 耕司

  大阪大学 大学院工学研究科 精密科学・応用物理学専攻

• 広瀬 喜久治

  大阪大学 大学院工学研究科 精密科学・応用物理学専攻

• 遠藤 勝義

  大阪大学 大学院工学研究科附属超精密科学研究センター

• 森 勇藏

  大阪大学 大学院工学研究科附属超精密科学研究センター

• 秋田 成司

  大阪府立大

• 竹崎 尚之

  大阪電気通信大学工学部

• 山内 和人

  精密科学専攻

• 井上 晴行

  精密科学専攻

• 打越 純一

  大阪大学

• MORITA Mizuho

  Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University

• 斉藤 彰

  阪大院工

• 青野 正和

  科技機構(ICORP)

• KAKIUCHI Hiroaki

  Department of Precision Science and Technology, Osaka University

• ONO Tomoya

  Research Center for Ultra-precision Science and Technology, Osaka University

• UESUGI Yuji

  Research Center for Ultra-precision Science and Technology, Osaka University

• MORI Yuzo

  Department of Precision Science and Technology, Osaka University

• 池上 忠明

  大阪大学大学院工学研究科 附属超精密科学研究センター

• 小野 倫也

  大阪大学大学院工学研究科:大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター

• 池上 忠明

  大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター

• 和田 勝男

  (株)シリコンテクノロジー

• 服部 梓

  大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター

• 岡本 武志

  大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻

• 定國 峻

  大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻

• 村田 順二

  大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻

• 湯本 博勝

  高輝度光科学研究センター

• 杉山 弘

  高エネ研

• 打越 純一

  阪大院

• 東 保男

  Kek

• 藤本 義隆

  東工大理

• 秋田 成司

  大阪府大工

• 青野 正和

  大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻

• 里見 慎哉

  大阪大学大学院工学研究科

• 池野田 和行

  阪大院工

• 中山 善萬

  大阪府立大学

• 佐藤 慎也

  阪大院工

• 張 小威

  高エネ研

• 森 勇藏

  阪大院工

• 藤井 由紀

  大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター

• GOTO Hidekazu

  Department of Precision Science and Technology, Osaka University

• 井上 靖行

  阪大院

• 重信 安志

  阪大院

• INAGAKI Kouji

  Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University

• 池田 和浩

  阪大院

• 坂本 正雄

  阪大・工・精密

• 藤本 義隆

  阪大院

• 吉桑 伸幸

  阪大院

• 坂本 正雄

  新技団

• 別所 勇爾

  阪大院

• 堤 建一

  新技団

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著作論文

• 22pGQ-6 超平坦化加工した4H-SiC(0001)表面上のグラフェン(22pGQ 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 超純水・高速せん断流による洗浄法の開発(第2報) : 超純水・高速せん断流によるCu除去メカニズムの研究
• 超純水・高速せん断流によるSi基板洗浄法の研究 : Si基板表面のDOP汚染の洗浄効果
• EEM (Elastic Emission Machining) およびプラズマ CVM (Chemical Vaporization Machining) による高精度X線全反射ミラーの開発
• 硬X線ナノ集光用超高精度楕円ミラーの作製と1次元集光性能の評価
• EEM(Elastic Emission Machining)によるSi(001)表面の平坦化(第2報) : 加工表面の原子像観察と構造評価
• EEM(Elastic Emission Machining)によるSi(001)表面の平坦化(第1報) : 半導体表面の超平坦化のための超清浄EEMシステムの開発
• 26pPSB-21 GaN(0001)基板表面清浄化手法の開発2(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 29pPSB-47 GaN(0001)基板表面清浄化手法の開発(29pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 22pPSB-15 NaフラックスLPE法で作製した高品質GaN(0001)の表面構造(22pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究 : 回転電極とパイプ電極を併用した数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化
• 数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究 : 円筒型回転電極を用いた数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化
• 数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究 : 加工装置の開発と基本的加工特性の取得
• 27pPSA-45 第一原理分子動力学シミュレーションを用いたα-アルミナ表面の化学反応によるエッチングプロセスの探索(領域9ポスターセッション)(領域9)
• モノシランとオゾンとの反応を用いた常圧光CVD法による酸化シリコン薄膜の形成
• 光散乱法を用いたナノパーティクル測定機の開発 : 標準ナノ粒子を用いた検出精度と洗浄効果の評価
• 超純水・高速せん断流による洗浄法の開発(第1報) : Si基板表面のCu汚染の洗浄効果
• 原子論的生産技術における電子状態シミュレーション
• ナノパーティクル測定機によるシリコンウエハ面のマイクロラフネス測定法
• 光散乱法を用いたSiウエハ表面のウエット洗浄によるナノパーティクル評価
• ナノパーティクル測定機によるシリコンウエハ面のナノ欠陥計測
• ナノ材料・表面の原子構造・機能評価 : STMをベースにした新規計測手法の開発とその応用
• Visible Light Irradiation Effects on STM Observations of Hydrogenated Amorphous Silicon Surfaces
• Atomic Structure of Si(001)-c(4×4) Formed by Heating Processes after Wet Cleaning and Its First-Principles Study
• 走査型トンネル顕微鏡による水素化アモルファスシリコン表面の原子像観察
• 走査型トンネル顕微鏡による水素化アモルファスシリコン表面の構造解析
• 超平坦化加工を施した4H-SiC(0001)表面 : 高品質グラフェン作製への応用
• 超精密非球面形状計測装置の開発 : ゴニオメータの角度位置決め精度の検証
• 超純水・高速せん断流による洗浄法の開発(第2報) : 超純水・高速せん断流によるCu除去メカニズムの研究
• 光ファイバからの点光源回折球面波を計測の絶対基準とした位相シフト光干渉計の開発
• 光ファイバからの点光源回折球面波を計測の絶対基準とした位相シフト光干渉計の開発
• レーザ光散乱法によるSiウエハ表面上の超微小欠陥計測
• 光ファイバからの点光源回折球面波を計測の絶対基準とした位相シフト光干渉計の開発
• 3次元境界要素法を用いた走査型近接場光学顕微鏡用の微粒子プローブ周りの電磁場伝搬解析
• 走査型近接場光学顕微鏡の高感度・高分解能プローブ開発 : 集光レーザ-スポット照射による微粒子プローブの創製
• 高分解能レーザー光法を用いた大気圧・高周波CVMプラズマ中のCF_xラジカル粒子の時空間分解密度計測
• 大気圧・高周波プラズマの計測と制御 : 発光分光を中心としたCVM用プラズマ中のフリーラジカル密度の分光計測
• 23aWS-10 GaN(0001)表面の清浄化手法(23aWS 表面界面構造(半導体),領域9(表面・界面,結晶成長))
• プラズマCVMプロセス中のCF, CF_2ラジカルの分光計測 : レーザー誘起蛍光分光と紫外線吸収分光とによるラジカル密度分布診断
• カーボンナノチューブを探針にしたSTM/SREMによるSi表面の観察
• 共振球プローブを用いた走査型近接場光学顕微鏡の開発 : 標準試料の走査結果とプローブの性能評価
• 微小共振球プローブを用いた走査型近接場光学顕微鏡の特性
• sNOM用微小共振球プローブの電磁場解析による特性診断
• 微小共振球プローブを用いた走査型近接場光学顕微鏡の開発
• 微小共振球をプローブとした近接場光学顕微鏡の開発
• 高圧力・高周波プラズマの計測と制御-赤外半導体レーザー吸収分光法によるプラズマ中のラジカル計測-
• モノシランとオゾンとの反応を用いた常圧光CVD法による酸化シリコン薄膜の形成
• 半無限表面の電子状態の計算とそれに基づく光反射率スペクトルの解析
• 量子力学の第一原理に基づく電子状態の計算 -Si光反射率スペクトルの面方位依存性の解析-
• 24aPS-134 第一原理電気伝導計算による水素原子が吸着したSi(001)表面のSTM像の解析(表面・界面, 結晶成長,領域9(表面・界面, 結晶成長))
• 第一原理計算によるH原子吸着Si(001)表面のSTM像の解析
• PS-PDI(Phase-Shifting Point Diffraction Interferometer)による高精度形状計測法の開発
• Theoretical Study on the Scanning Tunneling Microscopy Image of CI-Adsorbed Si(001)
• 22pPSA-20 水素終端化Si(001)面と(111)面の反射率差スペクトルの第一原理計算による解析(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 26aYC-11 NH_4F処理したSi(111)表面の光学特性(26aYC 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 30aPS-12 表面構造を持つ水素終端化シリコン(001)表面光反射率スペクトルの第一原理計算(30aPS 領域9ポスターセッション(表面,界面,結晶成長),領域9(表面・界面,結晶成長))
• 「物づくり」の卓越した教育・研究拠点
• 27pPSA-11 光反射スペクトルを用いたSi結晶表面評価法の開発 : 超清浄測定装置の開発(領域9ポスターセッション)(領域9)
• 21pPSB-18 表面清浄化前後のGaN(0001)基板の超高真空その場発光測定(21pPSB 領域5ポスターセッション,領域5(光物性))

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