Ohmi T | Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn

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概要

• 同名の論文著者
• Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpnの論文著者

関連著者

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• Ohmi Tadahiro

  The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University

• 寺本 章伸

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 大見 忠弘

  東北大学

• Ohmi Tadahiro

  Department Of Electronic Engineering Tohoku University

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学技術共同研究センター:東北大学wpiリサーチセンター

• Teramoto A

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• 須川 成利

  東北大学 大学院 工学研究科

• 大見 忠弘

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• Ohmi Tadahiro

  Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Tohoku University:(present Addre

• 須川 成利

  東北大学大学院工学研究科

• TERAMOTO Akinobu

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• OHMI Tadahiro

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 諏訪 智之

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 宮本 直人

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• Sugawa S

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• 黒田 理人

  東北大学工学研究科

• 服部 健雄

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 黒田 理人

  東北大学大学院工学研究科技術社会システム専攻

• 服部 健雄

  東京工業大学フロンティア研究機構

• 黒田 理人

  東北大学大学院工学研究科

• 阿部 健一

  日本大学工学部情報工学科

• 阿部 健一

  東北大学大学院工学研究科

• 阿部 健一

  東北大

• 服部 健雄

  東北大学未来情報産業共同研究センター

• SUGAWA Shigetoshi

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• 阿部 健一

  東北大学大学院工学研究科技術社会システム専攻

• 阿部 健一

  東北大学工学部電気系

• 阿部 健一

  東北大学工学部電気工学科

• 平山 昌樹

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 白井 泰雪

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 熊谷 勇喜

  東北大学大学院工学研究科

• 阿部 健一

  東北大 大学院工学研究科

• 野平 博司

  Musashi Institute Of Technology

• 阿部 健一

  東北大学大学院工学研究科 電気・通信工学専攻

• 廣江 昭彦

  東北大学未来科学技術共同研究センター未来情報産業創製研究部門

• KURODA Rihito

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• Kuroda Rihito

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• 須川 成利

  東北大学工学研究科技術社会システム

• 池永 英司

  高輝度光科学研究センター

• 池永 英司

  (財)高輝度光科学研究センター

• 樋口 正顕

  株式会社東芝

• 荒谷 崇

  信越化学工業株式会社

• 森田 瑞穂

  大阪大学大学院工学研究科

• 渡部 俊一

  東北大学大学院工学研究科

• 小谷 光司

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 森田 瑞穂

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 伊藤 隆司

  (株)富士通研究所

• 小谷 光司

  東北大学大学院工学研究科

• 伊藤 隆司

  富士通研究所

• 陳 キュウ

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 伊藤 隆司

  東京工業大学ソリューション研究機構:広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所

• 谷 クン

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• 根本 剛直

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 山下 哲

  東北大未来科学技術共同研究センター

• 池永 英司

  Crest・jst

• 野平 博司

  武蔵工業大学工学部

• 後藤 哲也

  東北大学未来科学技術共同研究センター未来情報産業創製研究部門

• 石原 良夫

  大陽日酸株式会社

• 藤澤 孝文

  東北大学大学院工学研究科

• 中尾 幸久

  東北大学大学院工学研究科

• 室 隆桂之

  JASRI

• 渡辺 高行

  宇部マテリアルズ（株）

• 伊藤 隆司

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• 室隆 桂之

  SPring-8 JASRI

• 室 隆桂之

  高輝度光科学研究センター

• 室 桂隆之

  JASRI SPring-8

• 伊藤 隆司

  東北大学大学院工学研究科

• 田中 宏明

  東北大学大学院工学研究科

• 荒谷 崇

  東北大学大学院工学研究科

• 樋口 正顕

  東北大学大学院工学研究科

• 鈴木 克昌

  大陽日酸株式会社

• IMAI Hiroshi

  Graduate School of Science and Engineering, Kagoshima University

• 迫田 薫

  大陽日酸株式会社

• 山下 哲

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 北野 真史

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• TANAKA Hiroaki

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• IKENAGA Eiji

  Japan Synchrotron Radiation Research Institute/SPring-8

• Tanaka Hiroaki

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• 田中 宏明

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• Ikenaga Eiji

  Japan Synchrotron Radiation Research Institute

• Hattori Tetsuya

  Depaetment Of Electrical And Electronic Engineering Tokyo Institute Of Technology

• Konda Masahiro

  NICHe, Tohoku University

• Teramoto Akinobu

  NICHe, Tohoku University

• Suwa Tomoyuki

  NICHe, Tohoku University

• Ohmi Tadahiro

  NICHe, Tohoku University

• 松本 洋平

  東京海洋大学

• 小池 帆平

  産業技術総合研究所

• 岩間 大介

  東北大学大学院工学研究科

• 木下 豊彦

  高輝度光科学研究センター

• 渡辺 高行

  宇部マテリアルズ株式会社

• 渡辺 高行

  宇部マテリアルズ(株)

• 飯嶋 和明

  三機工業(株)エネルギーソリューションセシター

• 菅原 卓也

  東京エレクトロンFE(株)PVE BUエリコンシステムFE部

• 室 隆桂之

  財団法人高輝度光科学研究センター

• 高橋 研

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 廣沢 一郎

  Japan Synchrotron Radiation Research Institute (JASRI)

• 石井 裕

  シャープ株式会社ディスプレイ技術開発本部

• 阿部 健一

  東北大学工学部

• 山口 拓也

  島根医科大学 第三内科

• 室隆 佳之

  JASRI

• 中西 敏雄

  東京エレクトロンat Spa開発技術部

• 村川 恵美

  東京エレクトロン株式会社

• 竹内 政志

  東京エレクトロンAT株式会社SPA開発部

• 本田 稔

  東京エレクトロンAT株式会社SPA開発部

• 石塚 修一

  東京エレクトロンAT株式会社SPA開発部

• 廣田 良浩

  東京エレクトロンAT株式会社SPA開発部

• 田中 義嗣

  東京エレクトロン株式会社

• 赤坂 泰志

  東京エレクトロン株式会社

• 広沢 一郎

  NEC

• 広沢 一郎

  高輝度光科学研究センター

• 高橋 研

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• 広沢 一郎

  Nec分析評価センター

• 広沢 一郎

  Jasri

• 廣沢 一郎

  高輝度光科学研究センター(spring-8)

• 廣沢 一郎

  (財)高輝度光科学研究センター利用研究促進部門i

• 廣沢 一郎

  財団法人高輝度光科学研究センター

• 石川 拓

  東京エレクトロン技術研究所(株):東北大学大学院工学研究科

• 稲葉 仁

  高砂熱学工業(株)

• 石井 裕

  シャープ(株)ディスプレイ技術開発本部

• 樋口 正顕

  東北大学工学研究科

• 品川 誠治

  武蔵工業大学工学部

• 山田 祐一郎

  シャープ(株)ディスプレイ技術開発本部avcディスプレイ研究所第2研究部

• 梅田 浩司

  ULSI技術開発センター

• 牛尾 二郎

  株式会社日立製作所

• 荒谷 崇

  東北大学工学研究科技術社会システム専攻

• 濱田 龍文

  東北大学大学院工学研究科

• 服部 武雄

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 河瀬 和雅

  三菱電機(株)先端総研

• 梅田 浩司

  (株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部

• 井上 真雄

  (株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部

• 荒川 公平

  日本ゼオン(株)

• 宮城 孝一

  日本ゼオン(株)高岡工場

• 植村 聡

  東北大学工学部電子工学専攻

• 鈴木 康司

  三機工業(株)技術開発本部

• 若山 恵英

  大成建設(株)

• 須川 成利

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 村川 恵美

  東京エレクトロン株式会社:東北大学工学研究科技術社会システム

• 井上 真雄

  (株)ルネサステクノロジ

• Philipossian Ara

  University of Arizona

• Sampurno Yasa

  University of Arizona

• Cheng Jiang

  Araca, Inc.

• Zhuang Yun

  University of Arizona

• 譽田 正宏

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 野沢 俊久

  東京エレクトロン技術研究所(株)

• 松岡 孝明

  東京エレクトロン技術研究所(株)

• Kotani K

  Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Tohoku University

• Kotani Koji

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• Kotani Koji

  Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Tohoku University

• 梅田 浩司

  (株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部

• 寺本 章伸

  東北大学 未来科学技術研究館

• 山本 真也

  (株)豊田自動織機

• 長田 健一

  (株)日立製作所中央研究所

• 石井 秀和

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 田中 義嗣

  東京エレクトロンat株式会社プロセスインテグレーションセンター

• NAKANO Yukihisa

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• 黒木 伸一郎

  東北大学大学院工学研究科

• 村岡 祐介

  大日本スクリーン製造(株) 開発本部

• 高橋 一郎

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 船岩 清

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 安曇 啓太

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 田中 康太郎

  東北大学 工学研究科

• 熊谷 勇喜

  東北大学工学部電子工学科

• 菅原 卓也

  東京エレクトロン株式会社

• 木下 豊彦

  高輝度光科学研究センター利用研究促進部門

• 広沢 一郎

  Necデバイス評価技術研究所

• Pan Z

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• PAN Zhibin

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 高橋 研

  東北大学工学部電子工学専攻

• 小椋 厚志

  明治大学理工学部電気電子生命学科

• 鈴木 康司

  三機工業

• Tanaka Yoshitsugu

  Tokyo Electron Ltd. Tokyo Jpn

• Zhuang Yun

  University Of Arizona:araca Inc.

• Cheng Jiang

  Araca Inc.

• Kotani Koji

  Laboratory For Electronic Intelligent Systems Research Institute Of Electrical Communication Tohoku

• Sampurno Yasa

  University Of Arizona:araca Inc.

• 石井 裕

  シャープ(株) 液晶研究所

• 小瀬村 大亮

  明治大学理工学部

• 服部 真季

  明治大学理工学部

• 武井 宗久

  明治大学理工学部

• 永田 晃基

  明治大学理工学部

• 赤松 弘彬

  明治大学理工学部

• 富田 基裕

  明治大学理工学部

• 水上 雄輝

  明治大学理工学部

• 橋口 裕樹

  明治大学理工学部

• 山口 拓也

  明治大学理工学部

• 小金澤 智之

  財団法人高輝度光科学センター

• Tye Ching

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• 木村 純

  松下電器産業eネット事業本部

• CHENG Weitao

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 品川 盛治

  武蔵工業大学

• 山崎 正宏

  (株)オプテス

• 吉川 和博

  株式会社フジキン大阪ハイテック研究所

• 飯嶋 和明

  三機工業(株)

• 飯嶋 和明

  三機工業

• SUGAWA Shigetoshi

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 廣沢 一郎

  財団法人高輝度光科学センター

• 富田 祐吾

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 黒木 伸一郎

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• Cheng Weitao

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

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著作論文

• ノンポーラスULK層間膜(フロロカーボン)へのダメージを抑制したCu-CMP後洗浄液の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
• マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• 低誘電率アモルファスハイドロカーボン(aCHx)膜の銅配線バリアー特性の検討(プロセス科学と新プロセス技術)
• 先端DRMAでのSiONゲート絶縁膜における窒素プロファイルと素子特性について(プロセス科学と新プロセス技術)
• 高精度CMP終点検出方法の検討(プロセス科学と新プロセス技術)
• 角度分解光電子分光法によるゲート絶縁膜/シリコン基板界面に形成される構造遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
• マイクロ波励起プラズマを用いた高品質シリコン窒化膜の形成
• プラズマ窒化膜/Siの界面構造、サブナイトライド、価電子帯構造(ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
• Si(100),(110)面上の極薄Si_3N_4-Si界面構造とその電気的特性
• RTN測定の高精度化・高速化技術とRTN特性に強い影響度を示すプロセス条件(携帯電話用カメラ,デジタルスチルカメラ,ビデオカメラ(ハイビジョン)とそのためのイメージセンサ,モジュール,特別企画「CCD誕生40周年記念講演-黎明期-」)
• フッ素固定式パーフルオロ化合物(PFCs)除害システム
• MOSFET特性ばらつき、RTSノイズの統計的評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• Stress Induced Leakage CurrentとRandom Telegraph Signalノイズとの相関(プロセス科学と新プロセス技術)
• 原子オーダ平坦化ウェハ表面のAFM評価手法及びデータ解析手法(プロセス科学と新プロセス技術)
• ラジカル窒化シリコン酸窒化膜における窒素プロファイルのX線光電子分光分析による評価
• プラズマプロセスによるMOSFET特性ばらつきの統計的評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• 大規模アレイTEGを用いたランダム・テレグラフ・シグナルの統計的評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• シリコン表面の原子オーダー平坦化技術(プロセス科学と新プロセス技術)
• マイクロ波CVDを用いた高移動度ボトムゲート微結晶シリコンTFTの試作(プロセス科学と新プロセス技術)
• 減圧雰囲気下でプラズマとCa(OH)_2/CaOを用いる高効率フロロカーボン除去システムの開発(プロセス科学と新プロセス技術)
• 大規模アレイTEGによるトンネル絶縁膜の微小・局所的ゲート電流の統計的評価(ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
• 大型液晶ディスプ***ロジェクトが切り開く未来(総合報告)
• High Current Drivability FD-SOI CMOS with Low Source/Drain Series Resistance(Session 9B : Nano-Scale devices and Physics)
• 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
• 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
• 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
• マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• マイクロ波励起プラズマ有機金属化学気相堆積装置の開発と強誘電体Sr_2(Ta_,Nb_x)_2O_7膜の形成(不揮発性メモリ及び関連プロセス一般)
• SiC基板上高品質ゲート絶縁膜の低温形成
• 大規模アレイTEGにより評価した低ビットエラーのKr/O_2/NOトンネル酸窒化膜の形成
• Subvector-Based Fast Encoding Method for Vector Quantization Without Using Two Partial Variances
• ULSI用低抵抗コンタクトのための低バリアハイトメタルシリサイドの形成(プロセス科学と新プロセス技術)
• 酸素ラジカルを用いて形成したSiO_2/Si界面における組成遷移と価電子帯オフセットの基板面方位依存性(プロセス科学と新プロセス技術)
• 次世代LSI向け低誘電率絶縁膜/Cuダマシン配線の形成(プロセス科学と新プロセス技術)
• 原子スケールで平坦なSiO_2/Si酸化膜界面歪の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• 電子デバイス製造用クリーンルームにおける室内系統水噴霧加湿の研究 : 第1報-省エネルギー効果の検証
• ガス供給系における金属表面の吸着水とその除去
• Impact of fully depleted silicon-on-insulator accumulation-mode CMOS on Si(110) (シリコン材料・デバイス)
• MOSFETにおけるランダムテレグラフシグナルの統計的評価方法(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• The data analysis technique of the atomic force microscopy for the atomically flat silicon surface(Session9A: Silicon Devices IV)
• The data analysis technique of the atomic force microscopy for the atomically flat silicon surface(Session9A: Silicon Devices IV)
• Performance Comparison of Ultra-thin FD-SOI Inversion-, Intrinsic- and Accumulation-Mode MOSFETs
• 動作合成技術を用いたハードウエア/ソフトウエア自動分割技術(上流設計技術(1),システムオンシリコン設計技術並びにこれを活用したVLSI)
• 動作合成技術を用いたハードウエア/ソフトウエア自動分割技術(上流設計技術(1),システムオンシリコン設計技術並びにこれを活用したVLSI)
• 差分量子化によるヒストグラム特徴を用いた映像の高速探索(画像信号処理及び一般)
• VQ-SIFTを用いた物体認識ためのロバストな局所画像記述子(画像信号処理及び一般)
• 差分量子化によるヒストグラム特徴を用いた映像の高速探索(画像信号処理及び一般)
• VQ-SIFTを用いた物体認識ためのロバストな局所画像記述子(画像信号処理及び一般)
• Study on Compositional Transition Layers at Gate Dielectrics/Si Interface by using Angle-resolved X-ray Photoelectron Spectroscopy
• Study on Compositional Transition Layers at Gate Dielectrics/Si Interface by using Angle-resolved X-ray Photoelectron Spectroscopy
• 9.大画面化が進む薄型ディスプレイ技術の現状と展望(時代をひらく電子情報通信技術-技術がもたらした変革,そして更なる飛躍-)
• Nitrogen Profile Study for SiON Gate Dielectrics of Advanced DRAM
• Data Analysis Technique of Atomic Force Microscopy for Atomically Flat Silicon Surfaces
• Low Contact Resistance with Low Schottky Barrier for N-type Silicon Using Yttrium Silicide
• A Statistical Analysis of Distributions of RTS Characteristics by Wide-Range Sampling Frequencies
• A Statistical Analysis of Distributions of RTS Characteristics by Wide-Range Sampling Frequencies
• A Material of Semiconductor Package with Low Dielectric Constant, Low Dielectric Loss and Flat Surface for High Frequency and Low Power Propagation(Session2: Silicon Devices I)
• A Material of Semiconductor Package with Low Dielectric Constant, Low Dielectric Loss and Flat Surface for High Frequency and Low Power Propagation(Session2: Silicon Devices I)
• The Evaluation of New Amorphous Hydrocarbon Film aCHx, for Copper Barrier Dielectric Film in Low-k Copper Metallization
• Low Dielectric Constant Non-Porous Fluorocarbon Films for Inter-Layer Dielectric
• Characterization of Zinc Oxide Films Grown by a Newly Developed Plasma Enhanced MOCVD Employing Microwave Excited High Density Plasma
• デュアルシリサイドを用いた低直列抵抗CMOSソース/ドレイン電極形成技術
• ホモジニアス・タイル構造3次元FPGAの性能評価(3D-I,集積回路とアーキテクチャの協創〜3次元集積回路技術とアーキテクチャ〜)
• 高純度有機金属ガス供給システムに関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
• TSVを用いた3次元FPGAの性能評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• 学問に基づいた本物のシリコン産業技術の創出(プロセス科学と新プロセス技術)
• 埋め込み構造によるMOSFETにおけるランダム・テレグラフ・ノイズの低減(プロセス科学と新プロセス技術)
• SiO_2/Si界面における構造遷移層の酸化手法依存性(プロセス科学と新プロセス技術)
• ラジカル反応ベース絶縁膜形成技術における界面平坦化効果と絶縁膜破壊特性との関係(プロセス科学と新プロセス技術)
• 異常Stress Induced Leakage Currentの発生・回復特性の統計的評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• 高精密三次元実装にむけた、アルカリエッチングによるシリコン貫通電極形成技術(プロセス科学と新プロセス技術)
• 特別講演 シリコンLSI : 微細化に替る高性能化の道 (シリコン材料・デバイス)

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