松岡 孝明 | 東京エレクトロン技術研究所(株)
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概要
関連著者
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松岡 孝明
東京エレクトロン技術研究所(株)
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寺本 章伸
東北大学未来科学技術共同研究センター
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
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石川 拓
東京エレクトロン技術研究所(株):東北大学大学院工学研究科
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伊藤 隆司
東北大学大学院工学研究科
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平山 昌樹
東北大学未来科学技術共同研究センター
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野沢 俊久
東京エレクトロン技術研究所(株)
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伊藤 隆司
(株)富士通研究所
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伊藤 隆司
富士通研究所
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伊藤 隆司
東京工業大学ソリューション研究機構:広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
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Toma Dorel
東京エレクトロンアメリカ株式会社
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Ohmi T
Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn
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伊藤 隆司
東京工大 ソリューション研究機構
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寺本 章伸
東北大学未来科学共同センター
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大見 忠弘
東北大学未来科学共同センター
著作論文
- 低誘電率アモルファスハイドロカーボン(aCHx)膜の銅配線バリアー特性の検討(プロセス科学と新プロセス技術)
- 超臨界流体による低誘電率絶縁膜の改質効果 : Ash/Cleanプロセスによる膜ダメージの更正技術