高純度有機金属ガス供給システムに関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
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概要
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半導体製造プロセスにおいてプロセスガスの流量制御は基板表面におけるガス組成やチャンバ圧力を決定する重要なファクターである。有機金属(MO)ガスを使用する化合物半導体製造プロセスにおいてもプロセスの信頼性や膜質の向上を実現するためにはMOガスそのものの流量制御を行うシステムを構築することが必要である。そこで、高温に対応した圧力調整式流量制御器(FCS)を開発することによって、蒸気圧を上昇させたMOガスの流量制御を行い、MOガスの組成を高精度に制御することが可能となった。また、MOガス供給系を縮小し、MO材料への熱履歴を残さないことを目的とした液体材料気化供給システム(LSCS)を開発し、必要な量だけのMO材料を気化させ、流量制御を行うシステムが完成した。
- 2011-10-13
著者
-
大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
須川 成利
東北大学 大学院 工学研究科
-
大見 忠弘
東北大学
-
大見 忠弘
東北大学 未来科学技術共同研究センター
-
山下 哲
東北大未来科学技術共同研究センター
-
須川 成利
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
白井 泰雪
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
山下 哲
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
石井 秀和
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
北野 真史
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター:東北大学wpiリサーチセンター
-
Ohmi Tadahiro
The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University
-
Ohmi Tadahiro
Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Tohoku University:(present Addre
-
Ohmi T
Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn
-
白井 泰雪
東北大未来科学技術共同研究センター
-
志波 良信
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
大見 忠弘
東北大学未来科学共同センター
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