大見 忠弘 | 東北大学 未来科学技術共同研究センター

スポンサーリンク

概要

• 大見 忠弘の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 東北大学 未来科学技術共同研究センターの論文著者

関連著者

• 大見 忠弘

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• Ohmi T

  Tohoku Univ. Sendai‐shi Jpn

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学技術共同研究センター:東北大学wpiリサーチセンター

• Ohmi Tadahiro

  The New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University

• 大見 忠弘

  東北大学

• Ohmi Tadahiro

  Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Tohoku University:(present Addre

• 寺本 章伸

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 須川 成利

  東北大学 大学院 工学研究科

• Ohmi Tadahiro

  Department Of Electronic Engineering Tohoku University

• Teramoto A

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• Teramoto Akinobu

  Tohoku Univ. Sendai Jpn

• 須川 成利

  東北大学大学院工学研究科

• 黒田 理人

  東北大学工学研究科

• 黒田 理人

  東北大学大学院工学研究科技術社会システム専攻

• 黒田 理人

  東北大学大学院工学研究科

• 諏訪 智之

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 白井 泰雪

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 寺本 章伸

  東北大学 未来科学技術研究館

• 白井 泰雪

  東北大未来科学技術共同研究センター

• 森永 均

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• TERAMOTO Akinobu

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 阿部 健一

  日本大学工学部情報工学科

• 阿部 健一

  東北大学大学院工学研究科

• 阿部 健一

  東北大

• 服部 健雄

  東北大学未来情報産業共同研究センター

• 服部 健雄

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 熊谷 勇喜

  東北大学大学院工学研究科

• 服部 健雄

  東京工業大学フロンティア研究機構

• OHMI Tadahiro

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 阿部 健一

  東北大学大学院工学研究科技術社会システム専攻

• 阿部 健一

  東北大学工学部電気系

• 中尾 幸久

  東北大学大学院工学研究科

• Sugawa S

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• 阿部 健一

  東北大学工学部電気工学科

• SUGAWA Sigetoshi

  Tohoku University

• Teramoto Akinobu

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• Teramoto Akinobu

  Department Of Electronic Engineering Faculty Of Engineering Tohoku University

• Sugawa Shigetoshi

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• Sugawa Shigetoshi

  Department Of Electronic Engineering Tohoku University

• Ohmi Tadahiro

  New Industry Creation Hatchery Center Future Information Industry Creation Center Tohoku University

• 室 隆桂之

  JASRI

• 室隆 桂之

  SPring-8 JASRI

• 須川 成利

  東北大学工学研究科技術社会システム

• 室 隆桂之

  高輝度光科学研究センター

• 室 桂隆之

  JASRI SPring-8

• 田中 宏明

  東北大学大学院工学研究科

• 平山 昌樹

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 大見 忠弘

  東北大学工学部

• 宮本 直人

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 平山 昌樹

  東北大学 未来科学技術研究館

• 北野 真史

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• SUGAWA Shigetoshi

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• 田中 康太郎

  東北大学 工学研究科

• 阿部 健一

  東北大 大学院工学研究科

• 田中 宏明

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 白井 泰雪

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• 木下 豊彦

  高輝度光科学研究センター

• 進藤 亘

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 進藤 亘

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• 阿部 健一

  東北大学大学院

• 渡辺 高行

  宇部マテリアルズ（株）

• 谷 クン

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• 根本 剛直

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 野平 博司

  Musashi Institute Of Technology

• 室 隆桂之

  財団法人高輝度光科学研究センター

• 阿部 健一

  東北大学大学院工学研究科 電気・通信工学専攻

• 廣沢 一郎

  Japan Synchrotron Radiation Research Institute (JASRI)

• 阿部 健一

  東北大学工学部

• 山口 拓也

  島根医科大学 第三内科

• 室隆 佳之

  JASRI

• 広沢 一郎

  NEC

• 広沢 一郎

  高輝度光科学研究センター

• 山下 哲

  東北大未来科学技術共同研究センター

• 広沢 一郎

  Nec分析評価センター

• 広沢 一郎

  Jasri

• 廣沢 一郎

  高輝度光科学研究センター(spring-8)

• 廣沢 一郎

  (財)高輝度光科学研究センター利用研究促進部門i

• 廣沢 一郎

  財団法人高輝度光科学研究センター

• 伊藤 隆司

  東北大学大学院工学研究科

• 二井 啓一

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 三島 博之

  徳山曹達

• 赤堀 浩史

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第三部

• 大嶋 一郎

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 大嶋 一郎

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 二ツ木 高志

  オルガノ株式会社

• 後藤 哲也

  東北大学未来科学技術共同研究センター未来情報産業創製研究部門

• 鈴木 克昌

  大陽日酸株式会社

• 須川 成利

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 石原 良夫

  大陽日酸株式会社

• 迫田 薫

  大陽日酸株式会社

• 譽田 正宏

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 野沢 俊久

  東京エレクトロン技術研究所(株)

• 大嶋 一郎

  東北大学大学院工学研究科

• 小谷 光司

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 河合 邦浩

  東北大学大学院工学研究科 電子工学専攻 : 東北大学電気通信研究所付属超高密度・高速知能システム実験施設

• 池永 和幸

  東北大学 未来科学技術研究館

• 後藤 哲也

  東北大学 未来科学技術研究館

• 中山 貴裕

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 山下 哲

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 石井 秀和

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• NAKANO Yukihisa

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• KURODA Rihito

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• TANAKA Hiroaki

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 黒木 伸一郎

  東北大学大学院工学研究科

• 牛木 健雄

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 木下 豊彦

  高輝度光科学研究センター利用研究促進部門

• 藤林 正典

  東北大学大学院工学研究科 電子工学専攻

• 野澤 俊之

  東北大学大学院工学研究科 電子工学専攻

• 中山 貴裕

  東北大学大学院工学研究科 電子工学専攻

• 伊藤 隆司

  (株)富士通研究所

• IKENAGA Eiji

  Japan Synchrotron Radiation Research Institute/SPring-8

• Kuroda Rihito

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• Tanaka Hiroaki

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• 広沢 一郎

  Necデバイス評価技術研究所

• 山内 経則

  富士通(株)第一半導体事業本部会津若松工場

• 二ツ木 高志

  東北大学電気通信研究所

• 小椋 厚志

  明治大学理工学部電気電子生命学科

• 小谷 光司

  東北大学大学院工学研究科

• 伊藤 隆司

  富士通研究所

• 河瀬 康弘

  三菱化学株式会社EL薬品事業部

• 水谷 文一

  三菱化学株式会社EL薬品事業部

• 小瀬村 大亮

  明治大学理工学部

• Ikenaga Eiji

  Japan Synchrotron Radiation Research Institute

• 服部 真季

  明治大学理工学部

• 武井 宗久

  明治大学理工学部

• 永田 晃基

  明治大学理工学部

• 赤松 弘彬

  明治大学理工学部

• 富田 基裕

  明治大学理工学部

• 水上 雄輝

  明治大学理工学部

• 橋口 裕樹

  明治大学理工学部

• 山口 拓也

  明治大学理工学部

• 小金澤 智之

  財団法人高輝度光科学センター

• Hattori Tetsuya

  Depaetment Of Electrical And Electronic Engineering Tokyo Institute Of Technology

• 余 寧梅

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 中村 俊二

  (株)富士通研究所 基板技術研究所

• 米澤 岳美

  東北大学 工学部 電子工学科

• 余 寧梅

  東北大学 工学部 電子工学科

• 柴田 直

  東北大学 工学部 電子工学科

• 瀬戸山 孝男

  富士通(株)第一半導体事業本部 会津若松工場

• 吉川 和博

  株式会社フジキン大阪ハイテック研究所

• 廣沢 一郎

  財団法人高輝度光科学センター

• 松本 洋平

  東京海洋大学

• 小池 帆平

  産業技術総合研究所

• 富田 祐吾

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 黒木 伸一郎

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• 山崎 喜郎

  東北大学 大学院工学研究科技術社会システム専攻

• 譽田 正宏

  アイ・アンド・エフ(株)

• 北野 真史

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• 佐伯 雅之

  日本軽金属株式会社 技術センター

• 伊藤 隆司

  東京工業大学ソリューション研究機構:広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所

• 渡辺 高行

  宇部マテリアルズ株式会社

• 渡辺 高行

  宇部マテリアルズ(株)

• 小椋 厚志

  明治大学理工学部

• SUWA Tomoyuki

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• ARATANI Takashi

  Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

• HIGUCHI Masaaki

  TOSHIBA CORPORATION

• USHIO Jiro

  Hitachi, Ltd.

• NOHIRA Hiroshi

  Musashi Institute of Technology

• HATTORI Takeo

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 花岡 秀夫

  日立プラント建設株式会社

• 横井 生憲

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• 森田 博志

  栗田工業株式会社 技術開発センター

• 伊井 稔博

  凸版印刷株式会社 エレクトロニクス事業部

• チョイ グン・ミン

  東北大学大学院 工学研究科 電子工学専攻

• 赤堀 浩史

  東北大学 大学院工学研究科電子工学専攻

• 二井 啓一

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• 島岡 健治

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• 花岡 秀夫

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• 横井 生憲

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 本藤 哲史

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 熊巳 創

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 熊巳 創

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• 本藤 哲史

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• 酒井 重史

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 大見 忠弘

  東北大学電子工学科

• Hattori Takashi

  Central Research Laboratory Hitachi Ltd.

• 佐伯 雅之

  大阪大学大学院工学研究科

• Nakano Yukihisa

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• Abe Kenichi

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• Fujisawa Takafumi

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• Watabe Shunichi

  Graduate School of Engineering, Tohoku University

• Hirayama Masaki

  Toshiba Corporation

• Verhaverbeke Steven

  東北大学工学部電子工学科

• Ohmi Tadahiro

  東北大学工学部電子工学科

• 小瀬村 大亮

  明治大学理工学部:日本学術振興会

• 陶山 誠

  東北大学工学部電子工学科

• Nohira Hiroshi

  Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology

• 北野 真史

  東北大未来科学技術共同研究センター

• 牛木 健雄

  東北大学大学院工学研究科 電子工学専攻 : 東北大学電気通信研究所付属超高密度・高速知能システム実験施設

• 山内 経則

  富士通(株)第一半導体事業本部 会津若松工場 : 東北大学 工学部 電子工学科

• Hattori T

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• Ushio Jiro

  Hitachi Ltd.

• Suwa Tomoyuki

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• Nakazawa Hiroshi

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• 中村 俊二

  富士通研究所、ulsiプロセス研究部

• 能勢 昌之

  東北大学工学部電子工学科

• 石原 良夫

  大陽日酸株式会社電子機材事業本部事業戦略推進部

• 大見 忠弘

  東北大学大学院工学研究科

• 佐伯 雅之

  日本軽金属(株)

もっと見る 閉じる

著作論文

• 2段シャワープレート型マイクロ波プラズマエッチャーを用いた多層膜の連続エッチング
• RTN測定の高精度化・高速化技術とRTN特性に強い影響度を示すプロセス条件(携帯電話用カメラ,デジタルスチルカメラ,ビデオカメラ(ハイビジョン)とそのためのイメージセンサ,モジュール,特別企画「CCD誕生40周年記念講演-黎明期-」)
• シリコン表面マイクロラフネスの発生メカニズムと低減技術(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• フッ素固定式パーフルオロ化合物(PFCs)除害システム
• High Current Drivability FD-SOI CMOS with Low Source/Drain Series Resistance(Session 9B : Nano-Scale devices and Physics)
• SiC基板上高品質ゲート絶縁膜の低温形成(シリコン関連材料の作製と評価)
• SiC基板上高品質ゲート絶縁膜の低温形成
• ULSI用低抵抗コンタクトのための低バリアハイトメタルシリサイドの形成(プロセス科学と新プロセス技術)
• 酸素ラジカルを用いて形成したSiO_2/Si界面における組成遷移と価電子帯オフセットの基板面方位依存性(プロセス科学と新プロセス技術)
• 次世代LSI向け低誘電率絶縁膜/Cuダマシン配線の形成(プロセス科学と新プロセス技術)
• 原子スケールで平坦なSiO_2/Si酸化膜界面歪の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• 多結晶シリコン抵抗の安定化技術
• MOSFETにおけるランダムテレグラフシグナルの統計的評価方法(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• 段階投資型半導体製造施設の研究
• 画像圧縮用ベクトル量子化プロセッサ
• 陽極酸化によるアルミニウム表面への不動態膜形成技術
• Study on Compositional Transition Layers at Gate Dielectrics/Si Interface by using Angle-resolved X-ray Photoelectron Spectroscopy
• オゾンの半導体製造分野への適用 : 高精度で再現性を有する全4工程室温洗浄技術
• シリコン(110)面の平坦化
• Ta/SiO_2界面反応層がタンタルゲートMOSデバイスの特性に与える影響
• 新しいシリコン産業の創出
• 半導体製造ラインにおける瞬間立上げクリーンルーム技術(限界に挑戦)
• 半導体製造プロセスにおけるクリーン化技術
• 低エネルギイオン照射を用いたボロンドープシリコン単結晶薄膜の形成
• マイクロ波励起高密度プラズマによる低温(300℃)ポリシリコンの成膜
• A Statistical Analysis of Distributions of RTS Characteristics by Wide-Range Sampling Frequencies
• The Formation of Terraces and Steps on Si(100) Surfaces and the Change of these Surfaces during Wet Processing
• ウェットプロセスにおける金属不純物のSi表面への付着メカニズムと付着防止技術
• デュアルシリサイドを用いた低直列抵抗CMOSソース/ドレイン電極形成技術
• イソプロピルアルコールによる除電機構 : ウェットプロセスの静電気発生防止
• 半導体ウェットプロセスにおける金属汚染の吸着・脱離メカニズム (特集 新しいウェット洗浄--RCA洗浄を越えて)
• 高純度有機金属ガス供給システムに関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
• TSVを用いた3次元FPGAの性能評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• 学問に基づいた本物のシリコン産業技術の創出(プロセス科学と新プロセス技術)
• 埋め込み構造によるMOSFETにおけるランダム・テレグラフ・ノイズの低減(プロセス科学と新プロセス技術)
• SiO_2/Si界面における構造遷移層の酸化手法依存性(プロセス科学と新プロセス技術)
• ラジカル反応ベース絶縁膜形成技術における界面平坦化効果と絶縁膜破壊特性との関係(プロセス科学と新プロセス技術)
• 異常Stress Induced Leakage Currentの発生・回復特性の統計的評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• 高精密三次元実装にむけた、アルカリエッチングによるシリコン貫通電極形成技術(プロセス科学と新プロセス技術)
• 特別講演 シリコンLSI : 微細化に替る高性能化の道 (シリコン材料・デバイス)

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク