佐伯 雅之 | 大阪大学大学院工学研究科

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概要

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• 同名の論文著者
• 大阪大学大学院工学研究科の論文著者

関連著者

• 佐伯 雅之

  大阪大学大学院工学研究科

• 志村 考功

  大阪大学大学院工学研究科

• 渡部 平司

  大阪大学大学院工学研究科

• 細井 卓治

  大阪大学大学院工学研究科

• 有村 拓晃

  大阪大学大学院工学研究科

• 北野 尚武

  大阪大学大学院工学研究科

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 大見 忠弘

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• 白石 賢二

  筑波大院数物

• 白井 泰雪

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 北野 真史

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 白石 賢二

  筑波大学大学院数理物質科学研究科

• 山田 啓作

  筑波大学数理物質科学研究科

• 白石 賢二

  筑波大学

• 細井 卓治

  広島大学ナノデバイス・システム研究センター

• 喜多 祐起

  大阪大学大学院工学研究科

• 河瀬 康弘

  三菱化学株式会社EL薬品事業部

• 水谷 文一

  三菱化学株式会社EL薬品事業部

• 北野 真史

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• 佐伯 雅之

  日本軽金属株式会社 技術センター

• 白井 泰雪

  東北大学 未来科学技術共同研究センター

• 白井 泰雪

  東北大未来科学技術共同研究センター

• 奥 雄大

  大阪大学大学院工学研究科

• 山田 啓作

  筑波大学大学院数理物質科学研究科

• 北野 真史

  東北大未来科学技術共同研究センター

• 佐伯 雅之

  日本軽金属(株)

• 大嶽 祐輝

  大阪大学大学院工学研究科

• 力石 薫介

  大阪大学大学院工学研究科

• 河瀬 康弘

  三菱化学株式会社

• 山田 啓作

  筑波大学大学院数理物質科学研究科:JST-CREST

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著作論文

• 金属電極/高誘電率絶縁膜界面の物理を中心としたhigh-k/metalゲートスタックの実効仕事関数変調機構の理解(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• 陽極酸化によるアルミニウム表面への不動態膜形成技術
• 高温熱処理によるTiN/HfLaSiO/SiO2ゲートスタック中Hf及びLa原子のTiN電極中への拡散とMIPS構造による抑制 (シリコン材料・デバイス)
• 高温熱処理によるTiN/HfLaSiO/SiO_2ゲートスタック中Hf及びLa原子のTiN電極中への拡散とMIPS構造による抑制(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)

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