喜多 祐起 | 大阪大学大学院工学研究科

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概要

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• 同名の論文著者
• 大阪大学大学院工学研究科の論文著者

関連著者

• 白石 賢二

  筑波大院数物

• 志村 考功

  大阪大学大学院工学研究科

• 渡部 平司

  大阪大学大学院工学研究科

• 白石 賢二

  筑波大学大学院数理物質科学研究科

• 山田 啓作

  筑波大学数理物質科学研究科

• 白石 賢二

  筑波大学

• 細井 卓治

  広島大学ナノデバイス・システム研究センター

• 喜多 祐起

  大阪大学大学院工学研究科

• 細井 卓治

  大阪大学大学院工学研究科

• 山田 啓作

  筑波大学大学院数理物質科学研究科

• 山田 啓作

  筑波大学大学院数理物質科学研究科:JST-CREST

• 奈良 安雄

  半導体先端テクノロジーズ(Selete)

• 山田 啓作

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• 奈良 安雄

  (株)富士通研究所 Ulsi研究部門

• 奈良 安雄

  (株)半導体先端テクノロジーズ 第一研究部

• 山田 啓作

  早稲田大学:筑波大学

• 佐伯 雅之

  大阪大学大学院工学研究科

• 奥 雄大

  大阪大学大学院工学研究科

• 有村 拓晃

  大阪大学大学院工学研究科

• 北野 尚武

  大阪大学大学院工学研究科

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著作論文

• 金属電極とハフニウム系高誘電率ゲート絶縁膜界面の実効仕事関数変調機構(シリコン関連材料の作製と評価)
• 金属電極/高誘電率絶縁膜界面の物理を中心としたhigh-k/metalゲートスタックの実効仕事関数変調機構の理解(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• 金属電極とHf系高誘電率絶縁膜界面の実効仕事関数変調機構

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