大嶽 祐輝 | 大阪大学大学院工学研究科

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概要

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• 同名の論文著者
• 大阪大学大学院工学研究科の論文著者

関連著者

• 細井 卓治

  大阪大学大学院工学研究科

• 有村 拓晃

  大阪大学大学院工学研究科

• 大嶽 祐輝

  大阪大学大学院工学研究科

• 志村 考功

  大阪大学大学院工学研究科

• 渡部 平司

  大阪大学大学院工学研究科

• 北野 尚武

  大阪大学大学院工学研究科

• 力石 薫介

  大阪大学大学院工学研究科

• 佐伯 雅之

  大阪大学大学院工学研究科

著作論文

• 高温熱処理によるTiN/HfLaSiO/SiO_2ゲートスタック中Hf及びLa原子のTiN電極中への拡散とMIPS構造による抑制(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• TiN電極中の酸素に起因したHf系High-kゲート絶縁膜の特性劣化 (シリコン材料・デバイス)
• TiN電極中の酸素に起因したHf系High-kゲート絶縁膜の特性劣化(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)

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