イソプロピルアルコールによる除電機構 : ウェットプロセスの静電気発生防止
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概要
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半導体製造環境での静電気の制御は製造歩留りに最も影響を与える要素の一つとなっている。ウェット工程での静電気対策としてはIPA(イソプロピルアルコール)による方法が現在注目されている。ウェハ洗浄後の乾燥方法としてIPA蒸気乾燥法を用いることにより、クリーンな乾燥が実現できるのみならず、帯電も完全に除去されることが実験的に明らかにされている。本研究においては、電荷量を直接測定するという定量的な評価方法を採用しIPAの除電特性の測定をおこなった。さらに、これらの結果よりIPAの除電機構を考察した。
- 1993-04-22
著者
-
大見 忠弘
東北大学 未来科学技術共同研究センター
-
三島 博之
徳山曹達
-
大見 忠弘
東北大学工学部
-
森永 均
東北大学 未来科学技術共同研究センター
-
森永 均
東北大学工学部電子工学科
-
須藤 誠司
東北大学工学部電子工学科
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