低エネルギ・イオンアシスト酸化による超低温ゲート酸化膜形成
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概要
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(抄録なし)
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1994-08-18
著者
-
大見 忠弘
東北大学工学部
-
小西 信博
(株)日立製作所 デバイス開発センタ プロセス開発部
-
河合 泰明
東北大学工学部電子工学科
-
渡辺 仁三
東北大学工学部電子工学科
-
小西 信博
東北大学工学部電子工学科
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